计算溶液所需的质量、体积或浓度。
,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
避光,-20°C储存。超低温运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
分子量: 50-70 kDa
低温敏甲基丙烯酰化明胶(低温敏GelMA)为改良后的烯烃双键改性明胶, 取代度:85-100%,其可通过紫外及可见光在光引发剂作用下迅速固化成胶,具有良好的生物相容性和成形性。该材料在常温(25℃)条件下不会形成冻胶(浓度≤30%w/v),具有良好的流动性。低温敏GelMA在使用时无需维持较高的温度,其在光固化3D打印、微针制备和微流控微球制备等应用方向具有独特优势。
产品应用:
光固化3D打印、微针制备和微流控制备微球等。
核磁氢谱

温敏行为

|
黏度

储能模量

压缩特性

生物相容性

溶液配制
1.配制引发剂溶液(以配制浓度为 0.25%(w/v),即 2.5mg/ml 的 LAP 溶液为例)
(1) 将0.025g 光引发剂LAP加入至10ml PBS溶液中;
(2) 以40-50℃水浴加热溶解15分钟,期间振荡数次。
配制过程注意避光,该LAP标准液在4°C避光条件下可保存12个月。
2.配制低温敏GelMA溶液(建议浓度为5-30%(w/v),即50-300mg/ml)
(1) 取所需质量的低温敏 GelMA 放入离心管;
(2) 取引发剂标准溶液加入到上述离心管中,振荡使低温敏GelMA ,充分浸润;
(3) 以50℃水浴避光加热溶解30-40分钟,期间振荡数次。
说明:为避免溶解过程中,产品无法一次性加入离心管的问题发生,推荐您配制浓度≥10%(w/v)时,可先将LAP溶液加入离心管,然后通过少量多次方式加入低温敏GelMA固体进行溶解。
配制过程注意避光,建议使用浓度可通过0.22μm无菌针头过滤器灭菌(趁热过滤)。
| pH | 6.5-7.5 |
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| 批号(Lot Number) | 证书类型 | 货号 |
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| 分析证书 | L768065 | |
| 分析证书 | L768065 | |
| 分析证书 | L768065 | |
| 分析证书 | L768065 |