用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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异丙醇铝 (AIP)有现货 货号: A104695查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- aluminum;propan-2-olate
- SMILES
- CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].[Al+3]
- InChIKey
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/3C3H7O.Al/c3*1-3(2)4;/h3*3H,1-2H3;/q3*-1;+3
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乙酰丙酮铂(II)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: P119026查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- (Z)-4-hydroxypent-3-en-2-one;platinum
- SMILES
- CC(=CC(=O)C)O.CC(=CC(=O)C)O.[Pt]
- InChIKey
- VEJOYRPGKZZTJW-FDGPNNRMSA-N
- InChI
- 1S/2C5H8O2.Pt/c2*1-4(6)3-5(2)7;/h2*3,6H,1-2H3;/b2*4-3-;
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三乙酰丙酮铑(III)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: R118540查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- (E)-4-hydroxypent-3-en-2-one;rhodium
- SMILES
- CC(=CC(=O)C)O.CC(=CC(=O)C)O.CC(=CC(=O)C)O.[Rh]
- InChIKey
- MBVAQOHBPXKYMF-MUCWUPSWSA-N
- InChI
- 1S/3C5H8O2.Rh/c3*1-4(6)3-5(2)7;/h3*3,6H,1-2H3;/b3*4-3+;
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磷酸三乙酯(TEP)Standard for GC ? GC 标准品 —— 用于校准 GC 方法的表征化合物。用于建立标准曲线和验证 GC 定量。 ≥99.7%(GC)有现货 货号: T103501查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- triethyl phosphate
- SMILES
- CCOP(=O)(OCC)OCC
- InChIKey
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C6H15O4P/c1-4-8-11(7,9-5-2)10-6-3/h4-6H2,1-3H3
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磷酸三乙酯(TEP)有现货 货号: T103503查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- triethyl phosphate
- SMILES
- CCOP(=O)(OCC)OCC
- InChIKey
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C6H15O4P/c1-4-8-11(7,9-5-2)10-6-3/h4-6H2,1-3H3
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硅酸四乙酯 (TEOS)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: T110595查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- tetraethyl silicate
- SMILES
- CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
- InChIKey
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
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硅酸四乙酯 (TEOS)有现货 货号: T110596查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- tetraethyl silicate
- SMILES
- CCO[Si](OCC)(OCC)OCC
- InChIKey
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C8H20O4Si/c1-5-9-13(10-6-2,11-7-3)12-8-4/h5-8H2,1-4H3
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