用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
-
三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)钴(III)期货 货号: C138263查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- cobalt;(E)-5-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one
- SMILES
- CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.[Co]
- InChIKey
- KZYDQDGBCQGIHS-QFVJJVGWSA-N
- InChI
- 1S/3C11H20O2.Co/c3*1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h3*7,12H,1-6H3;/b3*8-7+;
-
氯化镧,无水PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: L113548查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- trichlorolanthanum
- SMILES
- Cl[La](Cl)Cl
- InChIKey
- ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.La/h3*1H;/q;;;+3/p-3
-
四甲基硅烷(TMS)有现货 货号: T106829查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- tetramethylsilane
- SMILES
- C[Si](C)(C)C
- InChIKey
- CZDYPVPMEAXLPK-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C4H12Si/c1-5(2,3)4/h1-4H3
-
异丙醇铝 (AIP)有现货 货号: A163082查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- aluminum;propan-2-olate
- SMILES
- CC(C)[O-].CC(C)[O-].CC(C)[O-].[Al+3]
- InChIKey
- SMZOGRDCAXLAAR-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/3C3H7O.Al/c3*1-3(2)4;/h3*3H,1-2H3;/q3*-1;+3
-
氯化铈,无水PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: C196218查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- ClCe(Cl)Cl
- InChIKey
- VYLVYHXQOHJDJL-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/Ce.3ClH/h;3*1H/q+3;;;/p-3
快速发货
现货产品当日发货
技术详情
每个产品页均提供质量和规格信息
多种规格
多种包装规格和价格可选
仅供科研
产品仅供研发使用












危险品化学品经营许可证(带存储)