用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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三甲基(甲基环戊二烯基)合铂(IV)CAS: 94442-22-5 分子式: C5H4CH3Pt(CH3)3 分子量: 319.3有现货 货号: T118816查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- C[Pt](C)C.C[C]1[CH][CH][CH][CH]1
- InChIKey
- AGQKROMSWCHOND-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C6H7.3CH3.Pt/c1-6-4-2-3-5-6;;;;/h2,4H,3H2,1H3;3*1H3;
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(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮)锂有现货 货号: T138522查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- lithium;2,2,6,6-tetramethylheptane-3,5-dione
- SMILES
- [Li+].CC(C)(C)C(=O)[CH-]C(=O)C(C)(C)C
- InChIKey
- JUZHUMQSMMHACA-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C11H19O2.Li/c1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h7H,1-6H3;/q-1;+1
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氯化镱(III)无水级 ? 无水级 —— 去除水分并干燥包装,供对水敏感的化学使用。适用于痕量水即会干扰或猝灭的反应。 PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis >10目有现货 货号: Y137957查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- ClYb(Cl)Cl
- InChIKey
- CKLHRQNQYIJFFX-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.Yb/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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三溴化硼PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: B104686查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- tribromoborane
- SMILES
- B(Br)(Br)Br
- InChIKey
- ILAHWRKJUDSMFH-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/BBr3/c2-1(3)4
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双(2-甲基烯丙基)(1,5-环辛二烯)钌(II)有现货 货号: B124100查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- (1Z,5Z)-cycloocta-1,5-diene;2-methanidylprop-1-ene;ruthenium(2+)
- SMILES
- CC(=C)[CH2-].CC(=C)[CH2-].C1CC=CCCC=C1.[Ru+2]
- InChIKey
- POYBJJLKGYXKJH-PHFPKPIQSA-N
- InChI
- 1S/C8H12.2C4H7.Ru/c1-2-4-6-8-7-5-3-1;2*1-4(2)3;/h1-2,7-8H,3-6H2;2*1-2H2,3H3;/q;2*-1;+2/b2-1-,8-7-;;;
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