计算溶液所需的质量、体积或浓度。
为什么选择此级别
，适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
储存与运输
室温。 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
质量文档
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
文献证明
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
概述
基于乙二胺 - 适于 < 100 > 晶向
应用
蚀刻速率：100°C 下 ~80 微米/小时。只需去离子水冲洗即可蚀刻干净。不侵蚀金或钽。
Ethylenediamine based - for < 100 > crystal orientationEtch rate ~80microns/hour at @ 100 °C. Etches cleanly with only a deionized water rinse needed. Will not etch Au or Ta.
规格
英文别名
Silicon Preferential Etch, Preferential Silicon Etchant, Silicon 100 Etch
英文名称
Anisotropic Silicon <100> Etchant
储存条件
室温
名称和识别符
分子类型
小分子
技术文档
高级数据
化学和物理性质
密度
1.001g/mL at 25°C
安全和危险性（GHS）
信号词
危险
危险声明
H226: 易燃液体和蒸气
H302: 吞食有害
H311: 皮肤接触有毒
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H317: 可能引起皮肤过敏反应
H334: 吸入可能引起过敏或哮喘病症状或呼吸困难
H341: 怀疑引起遗传缺陷
H412: 对水生生物有害并具有长期持续影响
预防措施声明
P210: 远离热源，热表面，火花，明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。
P261: 避免吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P303+P361+P353: 如皮肤（或头发）沾染：立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P308+P313: 如接触到或有疑虑：求医/就诊。
P370+P378: 火灾时：使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。
质检证书（CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
C of A & Other Certificates(BSE/TSE, COO):
输入批号以搜索分析图谱:
技术文档和文章
溶液计算器
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