计算溶液所需的质量、体积或浓度。
,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
室温。常规运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
产品介绍:
铜喷涂蚀刻剂(CE-200)使用方便。建议操作温度为40-60℃,它用于喷涂蚀刻技术,在控制速率下可进行高精密度蚀刻。当蚀刻速率变低而不再符合要求时(即7-8盎司铜/加仑),可弃置旧液换用新鲜蚀刻液。
在用CE-200蚀刻完毕后,喷水冲洗工件,而后以5-10%HCL(或草酸)冲洗,最后再用水喷洗。
蚀刻液罐和设备――废蚀刻液的处理
采用PVC、玻璃或环氧涂层罐。加热器可用石英、碳或钛(镍或钴钢也可以使用)。废CE-200液用碳酸钙中和并用水稀释之。建议不要倒进下水道内。
产品应用:
它是铜喷涂蚀刻的理想选择。氯化铁基铜蚀刻剂,在40°C下的蚀刻速率为0.5 mil/min。通过将具有纳米材料的基板浸入蚀刻剂溶液中30分钟,CE-200溶液可用于从化学气相沉积(CVD)石墨烯或碳酸膜中蚀刻出铜残留物或箔。
Description
CE-200 solution can be used to etch out the copper residue or foil from the chemical vapor deposited (CVD) graphene or carbonated films by immersing the substrate with the nanomaterial into the etchant solution for 30 min.It is ideal for spray etching of copper. Ferric chloride based Cu etchant with etch rate of 0.5 mil/min @ 40 °C.
H290: 可能腐蚀金属
H315: 引起皮肤刺激
H318: 造成严重的眼睛损伤
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。