计算溶液所需的质量、体积或浓度。
,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
2-8°C储存。低温运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
低 pH 值配方,用于去除固化到各种基底上的光致抗蚀剂。不腐蚀金属和氧化物。不含氯化烃、铬酸盐、酚或磷酸盐。在室温和高温下均性能良好。作为负性光致抗蚀剂套装 654892 的一部分提供
应用
Available as part of Negative Photoresist kit 654892Low pH formulation for removal of photoresist cured onto various substrates. Non-corrosive to metals and oxides. Does not contain chlorinated hydrocarbons, chromates, phenol, or phosphates. Performs well at room and elevated temperatures.
H302: 吞食有害
H304: 吞咽并进入呼吸道可能致命
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H351: 怀疑引起遗传缺陷
H411: 对水生生物有毒并具有长期持续影响
P201: 使用前获取特殊说明
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P301+P330+P331: 如误吞咽:漱口。不要诱导呕吐。
P303+P361+P353: 如皮肤(或头发)沾染:立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。