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三（二甲氨基）硅烷
有货
概述
应用
Tris(dimethylamino)silane (TDMAS) is used as an organosilicon source for the deposition of Si oxynitride; carbonitride; nitride and oxide thin films. It is also used to form multicomponent silicon containing thin films. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range; thus making it a very good vapor deposition precursor.
Application
Tris(dimethylamino)silane (TDMAS) is used as an organosilicon source for the deposition of Si oxynitride; carbonitride; nitride and oxide thin films. It is also used to form multicomponent silicon containing thin films. The depositions can be carried out at low substrate temperatures (<150). The melting point and vapor pressure of TDMAS is in a suitable working range; thus making it a very good vapor deposition precursor.
规格
别名
TDMA, 三(二甲基氨基)硅烷, (Me2N)3SiH, N,N,N',N',N''',N'''-六甲基硅烷三胺
英文别名
TDMAS | Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-;N,N,N',N',N'',N''-Hexamethylsilanetriamine | [bis(dimethylamino)silyl]dimethylamine | Tris(dimethylamino)silane | tris(dimethylamino)silicon | Tris(dimethylamido)silane | Silanetriamine, N,N,N',N',N'',N''-hexamethyl-
规格或纯度
包装用于沉积系统
英文名称
Tris(dimethylamino)silane
储存条件
室温
名称和识别符
分子类型
小分子
INCHI
1S/C6H18N3Si/c1-7(2)10(8(3)4)9(5)6/h1-6H3
InChi Key
GIRKRMUMWJFNRI-UHFFFAOYSA-N
Smiles
CN(C)[Si](N(C)C)N(C)C
Isomeric SMILES
CN(C)[Si](N(C)C)N(C)C
PubChem CID
分子量
161.32
高级数据
系统学分类
分类树（Taxonomy Tree）
| 界（kingdom) | 有机化合物 |
|---|---|
| 超类（Superclass) | 有机盐 |
| 类（Class) | 有机金属盐 |
| 亚类（Subclass） | 有机准金属盐 |
| 中间层级节点（Intermediate Tree Nodes） | 暂无 |
| 直接上位类(Direct Parent) | 有机准金属盐 |
| 其他上位类（Alternative Parents） | 有机氮化合物 碳氢化合物衍生物 |
| 分子骨架（Molecular Framework) | 脂肪族无环化合物 |
| 取代基（Substituents） | 脂肪族非环化合物 - 烃衍生物 - 有机类金属盐 - 有机硝基化合物 - 有机氮化合物 |
| 描述（Description） | 该化合物属于有机类金属盐类有机化合物。这类有机盐化合物含有以离子形式存在的类金属原子。 |
| 外部描述符（External Descriptors） | 暂无 |
三维结构
交互式化学结构模型
化学和物理性质
密度
0.838g/mLat 25°C (lit.)
闪点(℉)
17.6 - 32 °F
闪点(℃)
-8 - 0 °C
沸点
142 °C
熔点
−90 °C
分子量
160.310 g/mol
XLogP3
氢键供体数Hydrogen Bond Donor Count
0
氢键受体数Hydrogen Bond Acceptor Count
3
可旋转键计数Rotatable Bond Count
3
精确质量Exact Mass
160.127 Da
单同位素质量Monoisotopic Mass
160.127 Da
拓扑极表面积Topological Polar Surface Area
9.700 Ų
重原子数Heavy Atom Count
10
形式电荷Formal Charge
0
复杂度Complexity
74.000
同位素原子数Isotope Atom Count
0
定义的原子立体中心计数Defined Atom Stereocenter Count
0
未定义的原子立体中心计数Undefined Atom Stereocenter Count
0
定义的键立体中心计数Defined Bond Stereocenter Count
0
未定义的键立体中心计数Undefined Bond Stereocenter Count
0
所有立体化学键的总数The total count of all stereochemical bonds
0
共价键合单元计数Covalently-Bonded Unit Count
1
安全和危险性（GHS）
信号词
危险
危险声明
H225: 高度易燃的液体和蒸气
H261: 遇水放出易燃气体
H302: 吞食有害
H311: 皮肤接触有毒
H314: 造成严重皮肤灼伤和眼损伤
H330: 吸入致命
预防措施声明
P210: 远离热源，热表面，火花，明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P231+P232: 在惰性气体中操作。防潮。
P303+P361+P353: 如皮肤（或头发）沾染：立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P305+P351+P338: 如进入眼睛：用水小心冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取出，取出隐形眼镜。继续冲洗。
P304+P340+P310: 如误吸入：将人转移到空气新鲜处，保持呼吸舒适体位。立即呼叫急救中 心/医生。
WGK Germany
3
RTECS
VV5800000
个人防护装备
Faceshields， full-face respirator (US)， Gloves， Goggles， multi-purpose combination respirator cartridge (US)， type ABEK (EN14387) respirator filter
RIDADR
UN3398-DOTUN3399class4.3-PG2-Organometallicsubstance，liquid，water-reactive，HI:all(notBR)
质检证书(CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
C of A & Other Certificates(BSE/TSE, COO):
输入批号以搜索分析图谱:
技术文档和文章
溶液计算器
常见问题
本产品应如何储存？
请于室温条件下保存。
本产品的 CAS 号、分子式和分子量是多少？
本产品的 CAS 号为 15112-89-7，分子式为 ((CH3)2N)3SiH，分子量为 161.32 g/mol。InChIKey GIRKRMUMWJFNRI-UHFFFAOYSA-N。
如何获取批次专用COA？
每个订单都会随附分析证书（COA），您也可以从账户订单历史中下载。如需订购前的COA，请联系您的客户代表，或使用PDP上的"申请COA"按钮——我们将提供代表性批次的COA。
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