D2621243计算溶液所需的质量、体积或浓度。
为什么选择此级别
，适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
储存与运输
室温。常规运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
质量文档
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
文献证明
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
概述
缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）是一种用于微细加工的湿蚀刻剂。它的主要用途是蚀刻二氧化硅（SiO2）或氮化硅（Si3N4）薄膜。它是一种缓冲剂的混合物，例如氟化铵（NH4F）和氢氟酸（HF）。浓缩HF对二氧化硅的蚀刻速度太快，无法实现良好的工艺控制，并且还会剥离用于光刻图案化的光刻胶。
注意：防止接触玻璃
应用
含表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）6：1可用于去除基于AlGaN/GaN 高电子迁移率晶体管的氧化物，用于栅极光刻。也可用于缓冲氧化物蚀刻剂方法，制造微生物芯片。
Buffered oxide etchant (BOE) is a wet etchant used in microfabrication. Its primary use is in etching thin films of silicon dioxide (SiO2) or silicon nitride (Si3N4). It is a mixture of a buffering agent, such as ammonium fluoride (NH4F), and hydrofluoric acid (HF). Concentrated HF etches silicon dioxide too quickly for good process control and also peels photoresist used in lithographic patterning.Buffered oxide etchant (BOE) 6:1 with surfactant may be used in the oxide removal of AlGaN/GaN-based high electron mobility transistors for gate photolithography. It may also be used in a buffer oxide etchant method for the fabrication of micro biochip.
Attention：Prevent contact with glass.
规格
别名
缓冲HF | 含有表面活性剂的缓冲氧化物蚀刻剂（BOE）6：1
英文别名
Buffered HF | BHF
英文名称
Buffered oxide etchant (BOE) 6:1 with surfactant
储存条件
室温
运输条件
常规运输
名称和识别符
分子类型
未知
技术文档
高级数据
安全和危险性（GHS）
信号词
危险
危险声明
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H300+H310+H330: 吞咽，皮肤接触或吸入会致命。
预防措施声明
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P303+P361+P353: 如皮肤（或头发）沾染：立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P301+P310+P330: 如果吞咽：漱口。立即致电中毒中心/医生。
质检证书（CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
技术文档和文章
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