【阿拉丁】半导体科研试剂：赋能半导体技术创新的优质材料-1

正在加载... 0 次查看

从AI算力芯片的精准运算，到5G基站光电子器件的信号传输，再到新能源汽车功率模块的稳定运行，半导体技术的推进离不开靠谱的半导体科研试剂。它不仅是晶圆清洗、薄膜沉积、图形转移、器件封装等环节的刚需材料，更是保障实验数据可靠、提升器件良率的关键抓手。而阿拉丁作为深耕半导体化学品领域的品牌，其产品已成为众多科研团队的放心之选。

阿拉丁半导体科研试剂，覆盖研发全场景需求——既包含湿电子化学品、基底材料、介电材料，也涵盖光刻胶原料、CVD/ALD前驱体，能精准匹配半导体制造“清洗-成膜-光刻-封装”全流程。无论是集成电路（IC）的CMOS工艺研发，功率器件的高频/高温适配测试，还是光电子器件的激光、调制器开发，都能找到适配的解决方案。

一、产品优势

1、高纯度保障：多数产品采用PrimorTrace™级标准，金属杂质含量低至ppm/ppb级，满足半导体先进工艺对“低污染”的要求。

2、全品类覆盖：产品涵盖湿电子化学品、基底、介电材料、光刻胶原料、CVD/ALD前驱体，覆盖半导体制造“清洗-成膜-光刻-封装”关键环节，一站式解决材料需求。

3、现货快速交付：核心产品现货充足，缩短研发与生产周期，避免因材料短缺中断流程。

4、严格质量管控：每批产品均经过严格的质量检测，提供完整质检报告，确保批次一致性与可靠性。

二、选择阿拉丁，让半导体研发更高效

阿拉丁致力于支撑半导体创新，凭借高纯度、高质量的全面化学品品类，覆盖从研发到量产的全阶段需求，助推产业升级与科技发展。

分类	货号	产品名称	CAS	规格	用途
湿电子化学品	H433855	过氧化氢溶液(易制爆)	7722-84-1	≥99.999% metals basis contains potassium stannate as inhibitor, semiconductor grade,30-32 wt. % in water	硅材料的清洗和腐蚀
湿电子化学品	H116237	氢氟酸	7664-39-3	电子级 PrimorTrace™ Ultra ≥99.99998% metals basis 49wt. % in H2O	刻蚀二氧化硅(SiO2)以及清洗石英器皿
湿电子化学品	S399876	硫酸（易制毒）	7664-93-9	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis	“piranha”溶液(7份H2SO4和3份30%的双氧水)用来清洗硅片
湿电子化学品	P123765	磷酸	7664-38-2	电子级	刻蚀氮化硅(Si3N4)
湿电子化学品	H466585	盐酸(易制毒)	7647-01-0	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis 37wt. % in H₂O	湿法清洗化学品，2号标准清洗液的一部分，用来去除硅中的重金属元素
湿电子化学品	N116245	硝酸(易制爆)	7697-37-2	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis 70%	用HF和HNO3的混合溶液来刻蚀磷硅酸盐玻璃(PSG)
湿电子化学品	A116171	冰乙酸	64-19-7	电子级 ≥99.7%	用于晶圆清洗、光刻胶去除及蚀刻工艺
湿电子化学品	A431915	氢氧化铵溶液	1336-21-6	≥99.99% metals basis 28%-30% NH3 in H₂O	清洗剂
湿电子化学品	S163080	氢氧化钠	1310-73-2	电子级 ≥99.9% metals basis	湿法刻蚀
湿电子化学品	T131029	四甲基氢氧化铵溶液	75-59-2(water)	超纯级用于痕量分析，25%水溶液	正性光刻胶显影剂
湿电子化学品	P112287	氢氧化钾	1310-58-3	电子级 ≥99.999% metals basis excludes sodium content	正性光刻胶显影剂
湿电子化学品	W119424	去离子水	7732-18-5	去离子的	广泛用于漂洗硅片和稀释清洗剂
湿电子化学品	I419710	异丙醇（IPA）	67-63-0	PrimorTrace™ 电子级 ≥99.999% metals basis	通用的清洗剂
湿电子化学品	A399711	丙酮（易制毒）	67-64-1	UltraPureChrom™ 色谱HPLC级用于液相色谱（for HPLC) ≥99.9%	通用的清洗剂(比IPA更强)
湿电子化学品	T100715	三氯乙烯	79-01-6	ACS ≥99.5%	用于硅片和一般用途的清洗溶剂
湿电子化学品	X112054	二甲苯	1330-20-7	ACS ≥98.5% isomers plus ethylbenzene	用于去除硅片表面的污染物和光刻胶
基底材料	F108390	二茂铁	102-54-5	≥99%	用于掺杂和电极沉积
基底材料	B283697	二茂镁	1284-72-6	≥99.9998% metals basis	用于掺杂和电极沉积
基底材料	T109127	钛粉	7440-32-6(powder)	PrimorTrace™ ≥99.99% metals basis powder,≥300目	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	H106102	铪粒	7440-58-6	≥99.9% metals basis 1-10mm	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	A434752	铝	7429-90-5	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis pellets,3-8 mesh	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	P104469	赤磷	7723-14-0	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis lumps,1-5mm	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	B105888	高纯硼粉	7440-42-8	PrimorTrace™ ≥99.99% metals basis powder,≥300目	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	S105195	硒粉	7782-49-2	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis D50 ≥80目	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	T130110	碲粉	13494-80-9	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis ≥100目	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	N140012	纳米金刚石/钻石粉末	7782-40-3	≥99% 30-50nm	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	C105151	锗粒	7440-56-4	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis 1-3mm	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	G105132	金属镓	7440-55-3	PrimorTrace™ Ultra ≥99.99999% metals basis	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	T108796	高纯锡	7440-31-5	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis granular,1-6mm	用于制备晶体管、电阻、电容等
基底材料	S108980	硅	7440-21-3	PrimorTrace™ ≥99.99% metals basis 1-3mm	主流 CMOS
基底材料	S104650	碳化硅	409-21-2	≥99.9% metals basis	宽禁带；适用于苛刻环境
基底材料	G119228	氮化镓	25617-97-4	PrimorTrace™ ≥99.99% metals basis	常外延在硅或蓝宝石上
基底材料	G119227	砷化镓	1303-00-0	PrimorTrace™ ≥99.999% metals basis pieces	电子迁移率高
基底材料	I119217	磷化铟	22398-80-7	≥99.998% metals basis 3-20目	激光、调制器、高频
介电材料	S305533	硅微粉	14808-60-7	≥99.9% metals basis sphere,35μm	栅氧、层间介质、隔离
介电材料	S106133	氮化硅	12033-89-5	≥99.9% metals basis α相	钝化、间隔层
CVD 和 ALD 前驱体源	N303439	乙氧基铌 (NbOEt)	3236-82-6	≥99.95% metals basis	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	H281777	己基（二甲氨基）二铝	32093-39-3	≥98%,≥99.9% metals basis	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	B283568	双（二乙氨基）硅烷	27804-64-4	≥99%	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	G168548	异丙醇锗	21154-48-3	≥97%	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	T282622	（叔丁基酰亚胺）三（二乙氨基）铌（V）	210363-27-2	≥98%	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	P283060	五(二甲氨基)钽(V)	19824-59-0	PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis	用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源	T475149	四（二乙基酰胺）铪（IV）	19824-55-6	PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis	用于CVD/ALD薄膜材料

——>点击继续浏览产品

备注

留下您的评论

您的邮箱地址不会被公开

【阿拉丁】半导体科研试剂：赋能半导体技术创新的优质材料-1

分类

搜索博客

标签