【阿拉丁】半导体科研试剂:赋能半导体技术创新的优质材料-3

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【阿拉丁】半导体科研试剂:赋能半导体技术创新的优质材料-3

 

分类 货号 产品名称 CAS 规格 用途
CVD 和 ALD 前驱体源 T432652 四(乙基甲基胺基)铪(IV) 352535-01-4 PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis 用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源 E465787 三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)铒(III) 35733-23-4 PrimorTrace™
≥99.999% metals basis
用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源 T282584 三(甲基环戊二烯)钇 329735-72-0 ≥99.9% metals basis(REO) 用于CVD/ALD薄膜材料
CVD 和 ALD 前驱体源 T161485 四(二甲氨基)钛(IV) 3275-24-9 ≥97%(T) 用于CVD/ALD薄膜材料
光刻胶原料 T405560 4-叔丁氧基苯乙烯 (含稳定剂TBC) 95418-58-9 ≥98%(GC) KrF光刻胶单体
光刻胶原料 T695114 4-乙烯基苯基碳酸叔丁酯 87188-51-0 ≥98% KrF光刻胶单体
光刻胶原料 V162963 乙酸-2-乙烯基苯基酯(含稳定剂吩噻嗪) 63600-35-1 ≥93%(GC) KrF光刻胶单体
光刻胶原料 V107256 4-乙酰氧基苯乙烯 2628-16-2 ≥97% KrF光刻胶单体
光刻胶原料 A101360 9-蒽甲酸 723-62-6 Moligand™
≥98%
KrF光刻胶单体
光刻胶原料 D115834 二环戊二烯环氧化物 81-21-0 ≥97% KrF光刻胶单体
光刻胶原料 A124641 甲基丙烯酸-9-蒽甲酯 31645-35-9 ≥98% KrF光刻胶单体
光刻胶原料 B152365 9,9-双(4-环氧丙基氧代苯基)芴 47758-37-2 ≥98% KrF光刻胶单体
光刻胶原料 M404740 甲基丙烯酸1-甲基环戊酯 (含稳定剂MEHQ) 178889-45-7 ≥98% ArF光刻胶单体
光刻胶原料 E404442 甲基丙烯酸1-乙基环戊酯 (含稳定剂MEHQ) 266308-58-1 ≥98%(GC) ArF光刻胶单体
光刻胶原料 A404639 甲基丙烯酸1-金刚烷酯 (含稳定剂MEHQ) 16887-36-8 ≥98% ArF光刻胶单体
光刻胶原料 M158412 2-甲基丙烯酰氧基-2-甲基金刚烷 (含稳定剂MEHQ) 177080-67-0 ≥97%(GC) ArF光刻胶单体
光刻胶原料 E156351 2-乙基-2-甲基丙烯酰氧基金刚烷 209982-56-9 ≥97%
含稳定剂
ArF光刻胶单体
光刻胶原料 I157611 2-异丙基-2-甲基丙烯酰氧基金刚烷 297156-50-4 ≥98%(GC) ArF光刻胶单体
光刻胶原料 H157098 3-羟基-1-甲基丙烯酰氧基金刚烷 115372-36-6 ≥98%(GC) ArF光刻胶单体
光刻胶原料 T107432 甲基丙烯酸三氟乙酯 352-87-4 ≥98%
contains 100 ppm MEHQ as inhibitor
ArF光刻胶单体
光刻胶原料 A151729 4-丙烯酰吗啉 5117-12-4 ≥98%(GC)
含稳定剂MEHQ
UV光刻胶单体
光刻胶原料 I157699 丙烯酸异冰片酯(含稳定剂MEHQ) 5888-33-5 ≥85%(GC) UV光刻胶单体
光刻胶原料 H103044 甲基丙烯酸羟乙酯(HEMA) 868-77-9 ≥96%
contains 250 ppm MEHQ as stabilizer
UV光刻胶单体
光刻胶原料 D154587 2,2-二乙氧基苯乙酮 6175-45-7 ≥95%(GC) 光引发剂-DEAP
光刻胶原料 E105742 2-乙基蒽醌 84-51-5 ≥97% 光引发剂-EAQ
光刻胶原料 P133611 4-(对甲苯基硫代)二苯甲酮 83846-85-9 ≥98%(HPLC) 光引发剂-BMS
光刻胶原料 M303495 (4-异丁基苯基)(对甲苯基)碘鎓六氟磷酸盐 (约70%于碳酸丙烯酯中) 344562-80-7 ≥70% 光引发剂-250
光刻胶原料 B152609 2,2'-双(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基-1,2'-联咪唑[光聚合引发剂] 7189-82-4 ≥97%(T) 光引发剂-BCIM
光刻胶原料 T304464 二苯基-(4-苯基硫)苯基锍六氟锑酸盐 71449-78-0 ≥98% 光引发剂UVI-6976
光刻胶原料 B110135 四乙基米氏酮 90-93-7 ≥99% 光引发剂-EMK
光刻胶原料 M130040 2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基-1-丙酮 71868-10-5 ≥98% 光引发剂-907
光刻胶原料 T107643 二苯基(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦 75980-60-8 ≥97% 光引发剂-TPO
光刻胶原料 I138984 2-异丙基硫杂蒽酮 5495-84-1 ≥98%(GC) 光引发剂-ITX
光刻胶原料 B105178 2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮 24650-42-8 ≥99% 光引发剂-BDK
光刻胶原料 H110280 2-羟基-2-甲基苯丙酮 7473-98-5 ≥97% 光引发剂-1173
光刻胶原料 H110064 1-羟环己基苯酮 947-19-3 ≥98% 光引发剂-184
光刻胶原料 D154567 2,4-二乙基硫杂蒽-9-酮 82799-44-8 ≥98% 光引发剂-DETX
光刻胶原料 D135366 苯甲酸2-二甲基氨基乙酯 2208-05-1 ≥97%(GC) 光引发剂(光敏剂)
光刻胶原料 B131530 双(4-叔丁苯基)碘鎓六氟磷酸盐 61358-25-6 ≥98%(HPLC) 光引发剂(光敏剂)
光刻胶原料 P105723 碳酸丙烯酯(PC) 108-32-7 ≥99% 其他类光刻胶原料
光刻胶原料 B131786 双酚A二缩水甘油醚(BADGE) 1675-54-3 Moligand™
≥85%
其他类光刻胶原料

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