【阿拉丁】半导体科研试剂：赋能半导体技术创新的优质材料-4

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分类	货号	产品名称	CAS	规格	用途
光刻胶原料	P136148	苄基缩水甘油醚	2930-05-4	≥97%(GC)	其他类
光刻胶原料	E404418	甲基丙烯酸1-乙基环己酯 (含稳定剂)	274248-09-8	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	E404440	丙烯酸1-乙基环戊酯 (含稳定剂MEHQ)	326925-69-3	≥97%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	M404745	丙烯酸1-甲基环戊酯 (含稳定剂MEHQ)	178889-49-1	≥98%(GC)	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	B104512	甲基丙烯酸叔丁酯 (TBMA)	585-07-9	包含有200 ppm MEHQ阻聚剂 99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	B102363	二甲基丙烯酸1,4-丁二醇酯	2082-81-7	≥95% contains 100 ppm monomethyl ether hydroquinone as inhibitor	其他类
光刻胶原料	E106223	乙二醇二甲基丙烯酸酯	97-90-5	≥98% contains 90 - 110 ppm MEHQ as stabilizerr	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	H167113	2,2,3,3,4,4,4-七氟丁基甲基丙烯酸酯(含稳定剂MEHQ)	13695-31-3	≥97%	其他类
光刻胶原料	E102093	甲基丙烯酸异辛酯（EHMA）	688-84-6	≥99%, contains 90-110 ppm MEHQ as stabilizer	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	I132125	N-异丙基甲基丙烯酰胺	13749-61-6	≥97%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D102672	甲基丙烯酸二乙基氨基乙酯	105-16-8	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	M138825	2-(溴甲基)丙烯酸甲酯	4224-69-5	≥97%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	H109880	甲基丙烯酸羟丙酯 (HPMA)	27813-02-1	≥97% 含0.02% 4-methoxyphenol 稳定剂	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	A302509	3-丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷	13732-00-8	≥98% 含稳定剂	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	O404835	甲基丙烯酸2-氧代六氢-2H-3,5-亚甲基环戊并[b]呋喃-6-基酯	254900-07-7	≥98%(GC)	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	I102358	甲基丙烯酸异冰片酯	7534-94-3	50-150 ppm MEHQ稳定剂	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	A151188	1-丙烯酰氧基-3-羟基金刚烷	216581-76-9	≥98%(GC)	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	A302637	丙烯酸金刚烷-1-基酯(含稳定剂BHT)	121601-93-2	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	E730509	2-乙基-2-金刚烷基丙烯酸酯	303186-14-3	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D124377	甲基丙烯酸二环戊基酯	34759-34-7	≥95%(GC) contains MEHQ as stabilizer	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D180482	2-(2,2-二氟乙烯基)双环[2.2.1]庚烷	123455-94-7	≥95%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	E404456	1-(1-乙氧基乙氧基)-4-乙烯基苯 (含稳定剂TBC)	157057-20-0	≥96%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	H588692	甲基丙烯酸4-羟基苯酯 (含稳定剂MQ)	31480-93-0	≥97%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	B725447	4-(4-(丙烯酰氧基)丁氧基)苯甲酸	69260-42-0	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	P193379	4-异丙烯基苯酚	4286-23-1	≥97%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	V102929	2-乙烯基萘	827-54-3	≥97% 含0.4% 4-叔-丁基邻苯二酚稳定剂	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	N343104	N-羟基萘二甲酰亚胺三氟甲磺酸盐	85342-62-7	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	M158122	5-甲基-1H-苯并三唑	136-85-6	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	P165933	(4-苯基硫代苯基)二苯基锍三氟甲磺酸	111281-12-0		其他类光刻胶原料
光刻胶原料	B476350	双(4-叔丁基苯基)碘鎓全氟-1-丁磺酸盐	194999-85-4	电子级 ≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	B152266	双(4-叔丁苯基)碘鎓三氟甲磺酸盐	84563-54-2	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D132479	氯代二苯碘鎓	1483-72-3	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D154818	二苯基溴化碘鎓	1483-73-4	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	D154819	二苯基碘化碘鎓	2217-79-0	≥90%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	T114510	8-羟基喹啉铝	2085-33-8	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	T162517	三苯基锍四氟硼酸盐	437-13-8	≥98%(HPLC)	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	T167308	全氟丁基磺酸三苯基锍盐	144317-44-2	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	T299283	三苯基硫三氟甲烷磺酸盐	66003-78-9	≥99%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	F167522	(4-氟苯基)二苯基锍三氟甲磺酸	154093-57-9	≥98%	其他类光刻胶原料
光刻胶原料	T341870	三苯基氯化硫	4270-70-6	≥98%	其他类光刻胶原料

阿拉丁以“材料驱动创新”为使命，通过提纯、扩品、优链，为半导体研发与制造夯实材料基础。

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