化学和生化试剂 | 纯度: ≥99.8 atom% D, ≥99%,≥99.99% metals basis

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氘代乙腈
- ≥99.8 atom% D
- contains 0.03 % (v/v) TMS
CAS号 : 2206-26-0 Compound CID : 123151

分子式: CD₃CN 分子量: 44.07

IUPAC Name: 2,2,2-trideuterioacetonitrile

SMILES: CC#N

InChIKey: WEVYAHXRMPXWCK-FIBGUPNXSA-N

InChI: InChI=1S/C2H3N/c1-2-3/h1H3/i1D3
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氘代甲醇-d4
- ≥99.8 atom% D
CAS号 : 811-98-3

分子式: CD₃OD 分子量: 36.07

IUPAC Name: trideuterio(deuteriooxy)methane

SMILES: CO

InChIKey: OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N

InChI: InChI=1S/CH4O/c1-2/h2H,1H3/i1D3,2D
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氘代甲醇-d4
- ≥99.8 atom% D
- contains 0.05 % (v/v) TMS
CAS号 : 811-98-3

分子式: CD₃OD 分子量: 36.07

IUPAC Name: trideuterio(deuteriooxy)methane

SMILES: CO

InChIKey: OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N

InChI: InChI=1S/CH4O/c1-2/h2H,1H3/i1D3,2D
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氘代甲醇-d₄
- ≥99.8 atom% D
- contains 0.03 % (v/v) TMS
CAS号 : 811-98-3

分子式: CD₃OD 分子量: 36.07

IUPAC Name: trideuterio(deuteriooxy)methane

SMILES: CO

InChIKey: OKKJLVBELUTLKV-MZCSYVLQSA-N

InChI: InChI=1S/CH4O/c1-2/h2H,1H3/i1D3,2D
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氘代氯仿-d
- ≥99.8 atom% D
- contains 1 % (v/v) TMS
CAS号 : 865-49-6 Compound CID : 71583

分子式: CDCl₃ 分子量: 120.38

IUPAC Name: trichloro(deuterio)methane

SMILES: C(Cl)(Cl)Cl

InChIKey: HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N

InChI: InChI=1S/CHCl3/c2-1(3)4/h1H/i1D
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氘代氯仿-d
- ≥99.8 atom% D
- contains 0.03 % (v/v) TMS
CAS号 : 865-49-6 Compound CID : 71583

分子式: CDCl₃ 分子量: 120.38

IUPAC Name: trichloro(deuterio)methane

SMILES: C(Cl)(Cl)Cl

InChIKey: HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N

InChI: InChI=1S/CHCl3/c2-1(3)4/h1H/i1D
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氘代氯仿-d
- ≥99.8 atom% D
CAS号 : 865-49-6 Compound CID : 71583

分子式: CDCl₃ 分子量: 120.38

IUPAC Name: trichloro(deuterio)methane

SMILES: C(Cl)(Cl)Cl

InChIKey: HEDRZPFGACZZDS-MICDWDOJSA-N

InChI: InChI=1S/CHCl3/c2-1(3)4/h1H/i1D
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氘代乙腈
- ≥99.8 atom% D
CAS号 : 2206-26-0 Compound CID : 123151

分子式: CD₃CN 分子量: 44.07

IUPAC Name: 2,2,2-trideuterioacetonitrile

SMILES: CC#N

InChIKey: WEVYAHXRMPXWCK-FIBGUPNXSA-N

InChI: InChI=1S/C2H3N/c1-2-3/h1H3/i1D3
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四（乙基甲基氨基）铪
- ≥99%,≥99.99% metals basis
- <0.15% Zr TEMAH,72-7720, contained in 50 ml Swagelok® cylinder96-1070 for CVD/ALD
CAS号 : 352535-01-4 Compound CID : 4103752

分子式: C₁₂H₃₂HfN₄

IUPAC Name: ethyl(methyl)azanide;hafnium(4+)

SMILES: CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.[Hf+4]

InChIKey: NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N

InChI: InChI=1S/4C3H8N.Hf/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
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四（乙基甲基氨基）铪
- ≥99%,≥99.99% metals basis
- <0.15% Zr TEMAH
CAS号 : 352535-01-4 Compound CID : 4103752

分子式: C₁₂H₃₂HfN₄

IUPAC Name: ethyl(methyl)azanide;hafnium(4+)

SMILES: CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.[Hf+4]

InChIKey: NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N

InChI: InChI=1S/4C3H8N.Hf/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
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乙腈-d₃
- ≥99.8 atom% D
- contains 1 % (v/v) TMS
CAS号 : 2206-26-0 Compound CID : 123151

分子式: CD₃CN 分子量: 44.07

IUPAC Name: 2,2,2-trideuterioacetonitrile

SMILES: CC#N

InChIKey: WEVYAHXRMPXWCK-FIBGUPNXSA-N

InChI: InChI=1S/C2H3N/c1-2-3/h1H3/i1D3
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乙腈-d₃
- ≥99.8 atom% D
CAS号 : 2206-26-0 Compound CID : 123151

分子式: CD₃CN 分子量: 44.07

IUPAC Name: 2,2,2-trideuterioacetonitrile

SMILES: CC#N

InChIKey: WEVYAHXRMPXWCK-FIBGUPNXSA-N

InChI: InChI=1S/C2H3N/c1-2-3/h1H3/i1D3
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