酞菁染料入门与选型：从经典蓝绿颜料到可设计功能分子（含应用地图与聚集排故）
酞菁染料入门与选型：从经典蓝绿颜料到可设计功能分子（含应用地图与聚集排故）
酞菁是什么？
酞菁（Pc， phthalocyanine）是一类“大环共轭”分子：可以把它想象成一个非常稳定的“共轭大盘”，外围能接不同取代基，中心还能嵌入金属形成金属酞菁（MPc， metal phthalocyanine）。这类结构带来两件事：
1. 显色强：Pc 常见有很强的可见光吸收（典型的Q带约 600–700 nm），所以蓝绿特别“硬”。
2. 可设计性强：中心金属、外侧取代、轴向配位（某些中心）都能系统调控溶解性、聚集、能级与反应活性。
术语速查
术语 | 一句话解释 | 备注 |
Pc（酞菁） | 经典大环共轭发色团 | 可见区强吸收，结构稳定 |
MPc（金属酞菁） | 中心嵌入金属的 Pc | 金属决定红氧/催化/能级 |
Nc（萘酞菁） | 共轭更“扩展”的 Pc 家族 | 吸收更红移，常进近红外（700–900 nm） |
SubPc（亚/次酞菁） | “缩小/不同骨架”的同系物 | 有机光电里常见（给/受体、发光相关） |
Q带(可见光到近红外区域) / Soret带(紫外/近紫外区域) | Pc/Nc 的两类特征吸收带 | Q带更关键（显色/光电/光敏核心），Pc 常在 600–700 nm |
轴向配位/轴向取代 | 某些中心（如 Al/Ga/In/Sn/Ti/Si）在宏环上下还能连“轴向基团” | 后修饰与功能化入口 |
注：以上波段以溶液单体态为典型参考；在薄膜/晶型或聚集态下峰位与线形可显著变化，甚至出现更长波的宽带吸收。
一个“好理解的框架”：酞菁性能由三类结构旋钮决定
旋钮 A：中心金属是谁？
1. Cu/Zn：常见“通用发色团/薄膜材料”底盘
2. Fe/Co/Mn：更偏红氧活性与催化/传感模型
3. 重金属：可能引入更强自旋轨道效应，但科研与合规管理更要谨慎
旋钮 B：外围取代基是什么？（溶解/聚集/吸收微调）
1. 长链烷氧/苯氧/叔丁基：常用于增溶、抑聚集、利于溶液加工成膜
2. 含反应位点（如 –NH₂）：更像“可偶联/可接枝的前体平台”
旋钮 C：轴向位点能不能改？（后修饰/靶向/组装）
1. AlPcCl、GaPcCl、InPcCl、SnPcCl₂、TiPcCl₂、SiPcCl₂/SiPc(OH)₂：常是“轴向可进一步替换/衍生”的入口
染料 vs 颜料：同为酞菁，使用逻辑完全不同
核心分界：是否溶解 + 成色方式（分子态 vs 颗粒态）
对比维度（核心区别） | 染料 Dye | 颜料 Pigment |
在使用体系中的状态（最关键） | 可溶：在水/有机溶剂中以分子或离子形式存在 | 基本不溶：以固体微粒分散在树脂/介质中 |
成色/附着机制 | 分子吸收光 + 对基材有亲和/结合（渗入纤维、或发生离子/共价结合等） | 颗粒吸收光 + 散射；靠“分散稳定”在涂层/塑料中呈色 |
典型应用场景（工艺视角） | 纺织/纸张染色、水相/溶液体系标记与光谱研究 | 涂料、油墨、塑料着色（“混入体系上色”） |
选型时最常看的关键指标 | 溶解度、离子性/亲水疏水、上染/结合方式、耐洗/耐迁移；科研中还看聚集与光谱稳定性 | 粒径与分布、晶型、分散性/抗絮凝、耐候/耐热/耐化学、表面处理与树脂相容性 |
最常见的失败模式 | 溶不进去、聚集导致谱变宽/荧光变弱、与基材结合不牢 | 沉降/絮凝、浮色发花、遮盖力/色相漂移、耐候不足 |
注：
(1) 很多酞菁用于工业是典型颜料：例如 颜料绿7（PG7）在数据库中常标识为多氯化铜酞菁。
(2) 但酞菁也能通过磺化（水溶）/引入离子基团/轴向可修饰（如 SiPc、AlPcCl 等）转化为更“染料/功能分子化”的使用方式（尤其科研与生物体系）。
家族总览表
家族 | 结构特征 | 典型优势 | 常见科研应用 | 选型关键词 |
基础金属酞菁/母体（CuPc/ZnPc/CoPc/FePc…） | 最经典 Pc/MPc 骨架 | 成熟、稳定、便于做对照基准 | 光谱/电化学/蒸镀或薄膜器件基准 | 做对照、先跑通体系 |
取代酞菁（增溶/抑聚集/溶液加工） | 外侧接长链或位阻取代基 | 提高有机相分散/溶解、改善成膜与聚集可控性 | 溶液加工薄膜、器件、光敏材料 | 溶解/分散、聚集、成膜 |
取代酞菁（可功能化/偶联前体） | 带 –NH₂/–OH 等反应位点 | 易后修饰：接枝、偶联、表面功能化 | 生物偶联、表面修饰、聚合物接枝 | 我要后修饰入口 |
氟化酞菁 | 外侧引入 F | 常用于下移能级、提升氧化稳定性、改变聚集/形貌 | 能级调控、器件稳定性与形貌研究 | 能级、稳定性、形貌 |
磺化酞菁（水溶性） | 带磺酸/磺酸盐（离子型） | 可进入水相体系 | 水相传感、电化学、生物染色/标记 | 聚集控制、盐敏感/离子强度 |
金属酞菁氯化物/轴向前体（M–Cl） | 具有轴向 Cl 位点（常见于高价中心） | 轴向位点可取代/配位 → 便于后修饰与组装 | 轴向取代、组装、光敏/靶向、界面工程 | 轴向可改、配位可控 |
硅酞菁（SiPc） | Si(IV) 常有两轴向位点（–Cl/–OH/–OR 等） | 轴向化学空间大、便于构建功能化分子 | 光敏/标记、材料功能化与组装 | 轴向 –Cl/–OH、可衍生化 |
萘酞菁（Nc，近红外） | Pc 的共轭扩展骨架 | 吸收红移，NIR 吸收更强 | NIR 器件、光声/光热、成像 | Nc 的强吸收通常落在近红外（常见主峰 ~750–800 nm，体系与形态不同可拓展到更长波）。聚集控制 |
SubPc | 不同于 Pc 的“亚/次酞菁”骨架（常见硼 SubPc） | 有机光电中常用、性质可调 | OLED/OPV、自组装与界面研究 | 发光/吸收、能级、形貌 |
酞菁盐（Pc²⁻ 碱金属盐） | 去质子化的 Pc²⁻ 二阴离子盐（常用作金属插入/衍生化前体或电化学模型）（如二钠/二锂） | 可作为中间体/电化学模型或进一步功能化起点 | 电化学、配位/金属化前体、衍生化 | 反应中间体、还原态模型 |
聚酞菁/聚合物（Poly-Pc） | 聚合或网络化的 Pc 材料 | 耐热耐化学、材料形态稳定 | 功能涂层、复合材料、导电/电极相关研究 | 材料形态、稳定性、可加工 |
简称说明：
1. Pc：Phthalocyanine，酞菁
2. MPc：Metal phthalocyanine，金属酞菁（M=Cu/Zn/Co/Fe…）
3. CuPc/ZnPc/CoPc/FePc：铜/锌/钴/铁酞菁
4. Nc：Naphthalocyanine，萘酞菁（共轭扩展、吸收更红移）
5. SubPc：Subphthalocyanine，亚/次酞菁（常见硼 SubPc）
6. NIR：Near-infrared，近红外
一图读懂选型-决策树
你要做什么？
A. 工业着色（涂料 / 油墨 / 塑料）
优先：经典酞菁颜料（重点看：分散 / 粒径 / 晶型 / 耐候）
B. 科研功能材料（光电 / 催化 / 传感 / 生物）
1) 需要吸收在哪？
可见（~600–700 nm，典型 Q 带）
→ 优先：Pc / MPc（酞菁 / 金属酞菁）
近红外（~700–900 nm）
→ 优先：Nc（萘酞菁，吸收更红移）
2) 在什么体系里？
水相（缓冲液/水溶体系）
→ 优先：磺化酞菁（或可水化设计）
注：聚集控制常是关键（盐度/浓度/共溶剂/表活/载体等）
有机相 / 溶液加工（溶液成膜、器件薄膜）
→ 优先：增溶/抑聚集的取代 Pc / Nc
3) 需要后修饰（接枝/偶联/靶向/组装）吗？
需要
优先选“可改造入口”：
(1) 轴向前体（M–Cl 等）
(2) SiPc（轴向 –Cl/–OH 可进一步衍生）
(3) 带反应位点的功能化前体（如 –NH2、–OH 等）
不需要（先跑通体系/做对照）
→ 优先：基础母体 MPc 或常规取代型 Pc / Nc
4) 主要功能偏哪类？
光电器件/薄膜材料（OPV/OLED/探测/OFET 等）
→ 重点：溶解/分散 + 成膜形貌 + 能级匹配
可用：取代（形貌/聚集/溶解）± 氟化（能级/稳定性/形貌）
催化 / 传感 / 红氧机理
→ 重点：中心金属红氧行为 + 配位/轴向环境（常见 Fe/Co/Mn 等 MPc）
生物光敏 / 成像 / 标记
→ 重点：水溶性或可功能化 + 聚集控制 + 生物体系相容性
应用地图
应用方向 | 更常优先的家族 | 为什么 | 选型要点 |
有机光电（OPV / OLED / 光电探测 / OFET） | 取代 Pc/Nc、氟化 Pc、SubPc | 成膜形貌 + 能级 + 吸收窗口共同决定器件表现 | 溶解/分散与薄膜形貌优先；能级以 CV/UPS 等实测为准；做形貌对照 |
近红外器件 / 光声-光热 / 近红外探测 | Nc（含部分 SiNc 等） | Nc 往往在 >700 nm 具有强吸收，适合 NIR 方向 | 先确认吸收峰位与线形（单体/聚集）；控制聚集与溶解/分散；器件中关注形貌稳定 |
电催化 / 传感（ORR / CO₂RR 等） | Fe/Co/Mn 等 MPc、轴向可调体系 | 金属中心红氧与配位环境相对可控，适合做机理与结构—性能关联 | 金属中心优先；再用轴向/外侧电子效应微调；载体与界面相容性要做对照 |
水相电化学 / 生物相关（传感、标记等） | 磺化 Pc、可功能化 SiPc | 水溶与可修饰，便于进入水相体系 | 聚集/盐度/蛋白作用必须做对照；记录配制顺序与时间 |
光动力/抗菌光敏（PDT / PACT） | 磺化 Pc、SiPc 等光敏体系 | 可见-近红外吸收与三线态/ROS 相关性质使其成为经典光敏剂体系 | 单体/聚集态都要表征；控制光剂量与氧条件；做光照/黑暗对照与毒性对照 |
光催化/光电荷分离（含聚集体材料） | Pc 聚集体/薄膜、MPc 相关体系 | 聚集态可能形成半导体样电荷转移与光活性行为 | 形貌与聚集态就是“结构本身”；用吸收/瞬态/电化学等建立证据链 |
简称说明：
1. OPV=有机光伏；OLED=有机发光二极管；OFET=有机场效应晶体管
2. NIR=近红外；MPc=金属酞菁；SiPc/SiNc=硅酞菁/硅萘酞菁；PDT/PACT=光动力治疗/光动力抗菌（科研语境）
常见注意事项
酞菁体系常见的“谱/性能不稳定”，聚集是最常见原因之一：聚集会导致 Q 带线形改变（展宽、位移、分裂或肩峰），并常伴随 荧光降低（聚集猝灭）；在水相体系中，离子强度、缓冲盐、蛋白吸附等因素会显著改变聚集平衡，因此更容易出现“同一配方但结果飘”。
此外还需注意：高浓度/长光程带来的内滤效应（自吸收）、以及某些中心（如 Al/Ga/In/Sn/Ti/Si）可能发生的轴向配位漂移，它们会造成“看起来像聚集”的谱变化。
排故表
现象 | 可能原因 | 优先排查/改法 |
吸收峰变宽、肩峰增多/峰位漂移 | 聚集（H/J 聚集）、浓度过高；盐度/溶剂改变聚集平衡 | 做浓度梯度；对照盐度/缓冲盐；加入少量共溶剂；用表面活性剂/载体；记录静置时间（聚集有“历史效应”） |
荧光很弱或不稳定 | 聚集猝灭；内滤效应；溶液含氧或杂质猝灭 | 先把吸光度降到合适范围（排除内滤）；降浓度；脱氧/充氮对照；更换溶剂与更高纯度；做单体/聚集态对照谱 |
水相行为“每次不一样” | 离子强度、蛋白吸附、pH、制备顺序导致聚集平衡不同 | 固定缓冲体系与 pH；先配母液再稀释；固定加入顺序与混匀方式；记录超声/过滤/静置时间；必要时用 BSA/表活做包载对照 |
电化学/催化表现漂移 | 金属中心价态变化；轴向配位/配体交换；载体吸附差异 | 固定电解质/阴离子；做“是否加入轴向配体”的对照；记录电极预处理；用光谱/电化学交叉验证 |
薄膜器件差异大 | 形貌/取向/多晶型差异；残溶；基底表面能差异 | 固化与退火流程一致化；溶剂体系矩阵；控制湿度/温度；同批基底处理；用吸收/AFM/GIXRD（如有）建立形貌对照 |
光照下性能衰减 | 光漂白；氧参与导致 ROS/副反应；聚集态与单体态行为不同 | 避光保存；设定光剂量；做有氧/无氧对照；记录照射前后吸收与荧光变化 |
术语小注：H/J 聚集是两类常见的染料聚集方式，通常会引起吸收峰位与线形差异（如蓝移/红移、变窄/变宽等）。
阿拉丁酞菁发色团相关代表产品分类与应用速查表（母体/取代/氟化/磺化水溶/轴向前体/SubPc/Nc）
分类 | 阿拉丁货号 | 名称 | CAS编号 | 规格或纯度 | 产品特色或应用 |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁铜(II) | 147-14-8 | 升华级, ≥99.95% metals basis, triple-sublimed | 经典酞菁蓝母体（CuPc）；着色力强；常用于颜料模型、光谱/电化学与有机半导体薄膜研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁锌 | 14320-04-8 | ≥95%(T) | ZnPc：经典光敏/发色团；用于光谱、光敏材料与有机电子薄膜（常见p型/给体体系） | |
基础金属酞菁/母体 | 29H,31H-酞菁 | 574-93-6 | ≥98%, β-form | 金属自由酞菁母体；用于结构/光谱教学与金属插入合成的起始原料（制备各类金属酞菁常用） | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁镍(II) | 14055-02-8 | Dye content 85 % | NiPc：稳定 π 共轭配合物；用于有机半导体薄膜、气体/电化学传感与模型电催化研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁钴(II) | 3317-67-7 | ≥95% | CoPc：电活性中心；常用于氧还原/氧化、电催化与气体传感等配位模型体系 | |
基础金属酞菁/母体 | 氧钒酞菁 | 13930-88-6 | 升华级, ≥99% | V=O 轴向基团带来特征光谱/电化学；常用于薄膜光电、红氧活性与催化机理模型研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁铁 | 132-16-1 | 染料含量~90% | FePc：典型红氧活性金属酞菁；用于电催化/仿酶模型、光谱电化学与薄膜材料研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 镁酞菁 | 1661-03-6 | 染料含量90% | MgPc：轻金属中心、强吸收发色团；常用于光谱、能量转移/光敏与有机薄膜研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁锡(II) | 15304-57-1 | ≥95% | SnPc 系：中心可参与轴向配位/结构调控；用于光电薄膜、传感与配位化学研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 钛酞菁 | 26201-32-1 | 染料含量95% | TiPc/OTiPc 相关体系：可成膜并用于光电/光催化与电荷转移研究；Ti 中心影响能级与激发态过程 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁铅(II) | 15187-16-3 | 升华级, ≥98%(T) | PbPc：重原子效应与能级调控；常用于有机光电/近红外吸收材料研究 | |
基础金属酞菁/母体 | 酞菁铂 | 14075-08-2 | ≥97% | PtPc：重金属中心；用于近红外吸收、光电/催化模型与材料研究 | |
商品染料/颜料（C.I.） | 颜料绿7 | 1328-53-6 | 生物染色剂 | 经典酞菁绿颜料（多为氯化铜酞菁体系）；耐光耐候；用于油墨/涂料/塑料着色或分散体系 | |
商品染料/颜料（C.I.） | 直接蓝 86 | 1330-38-7 | - | 常见为酞菁磺化体系的直接染料代表；用于纤维素纤维/纸张等水相染色 | |
商品染料/颜料（C.I.） | 活性蓝 21 | 12236-86-1 | 工业级 | 纺织活性染料；常见为酞菁骨架衍生物（带活性基团可与纤维成键），湿牢度较好 | |
商品染料/颜料（C.I.） | 阿利新蓝8GX | 33864-99-2 | Dye-content ≥50% | 组织学染色常用（Alcian Blue 系）；通常为酞菁衍生物（带阳离子/磺酸等基团），用于酸性黏多糖/糖胺聚糖染色 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 2,9,16,23-四叔丁基酞菁铜(II) | 39001-64-4 | ≥97% | 叔丁基位阻常用于抑制π-π聚集并改善有机相分散；用于光谱/光敏与有机薄膜研究 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 镍(II) 1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁 | 155773-71-0 | 染料含量97% | 长链烷氧提高有机溶解/分散性，利于溶液加工与薄膜均匀；用于器件与光谱研究 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 铜(II) 1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁 | 107227-88-3 | 染料含量95% | 长链烷氧提高有机溶解/分散性，利于溶液加工与薄膜均匀；用于器件与光谱研究 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁 | 116453-73-7 | 染料含量95% | 长链烷氧提高有机溶解/分散性，利于溶液加工与薄膜均匀；用于器件与光谱研究 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 1,4,8,11,15,18,22,25-八丁氧基-29H,31H-酞菁锌 | 107227-89-4 | - | 长链烷氧提高有机溶解/分散性；利于溶液加工与薄膜成膜（锌中心常用于光敏/发色团研究） | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 铜(II) 2,3,9,10,16,17,23,24-八烷基(辛基氧基)-29H,31H-酞菁 | 119495-09-9 | 染料含量95% | 长链烷基/烷氧取代提升有机相溶解与成膜；常用于溶液加工薄膜与光电研究 | |
取代酞菁（抑聚集/溶液加工） | 2,9,16,23-四苯氧基-29H,31H-酞菁氧钒 | 109738-21-8 | 染料含量98% | 芳氧基取代常用于提升有机溶解/调控聚集并微调吸收；适用于溶液成膜与光谱研究 | |
取代酞菁（可功能化/偶联前体） | (4,4′,4′′,4′′′-四氨基酞菁)钴 | 27680-31-5 | 试剂级 | 四个–NH₂提供高反应位点，便于后修饰（酰化/磺酰化/接枝聚合物、生物偶联等）；更典型定位是“功能化前体/平台分子”，而非单纯增溶型取代酞菁 | |
氮杂酞菁（AzaPc，吸收红移） | 4,4′,4′′,4′′′-四氮杂-29H,31H-酞菁铜(II) | 15275-52-2 | ≥80% | AzaPc 会显著下移/重排能级并改变吸收；相对 Pc 可出现红移或蓝移（需以实测 UV–Vis 为准）。 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 铜(II) 1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-十六氟-29H,31H-酞菁 | 14916-87-1 | 染料含量80% | 多氟取代通常降低HOMO/提高氧化稳定性并改变聚集；常用于有机光电薄膜与能级调控研究（具体呈p/n/双极性取决于结构与器件体系） | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 锌 1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-十六氟-29H,31H -酞菁 | 31396-84-6 | 染料含量90% | 多氟取代通常降低HOMO/提高氧化稳定性并改变聚集；用于有机光电薄膜/能级调控与稳定近红外吸收研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 铁(II)1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-十六氟-29H,31H-酞菁 | 23844-93-1 | ≥99% | 多氟取代调控金属酞菁红氧与能级；常用于薄膜电荷转移/电催化模型与有机光电研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 十六氟酞菁钴 | 52629-20-6 | ≥98% | 多氟取代调控能级与聚集；常用于光电薄膜、传感与红氧机理研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 铜（II）-2,9,16,23-四氟-29H，31H-酞菁 | 65602-84-8 | 升华级, ≥99% | 四氟取代常用于细调电子结构与吸收，并提升化学/氧化稳定性；用于有机光电与功能薄膜研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 2,3,9,10,16,17,23,24-八氟酞菁铜(II) | 148651-60-9 | ≥97% | 八氟取代常用于进一步下移能级并改变聚集/薄膜形貌；用于有机光电、光谱与稳定性研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 锌（II）-2,3,9,10,16,17,23,24-八氟-29H，31H-酞菁 | 676519-80-5 | 升华级, ≥99% | 八氟取代用于能级/吸收与薄膜形貌调控；常见于有机光电与薄膜研究 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 锌（II）-1,8,15,22-四氟-29H，31H-酞菁，异构体混合物 | 1120355-28-3 | 升华级, ≥99% | 四氟取代用于能级与聚集微调；异构体混合物可能影响结晶/薄膜形貌，做器件时建议关注批次一致性 | |
氟化酞菁（电子结构/稳定性调控） | 钛，[1,2,3,4,8,9,10,11,15,16,17,18,22,23,24,25-十六氟-29H,31H-酞菁(2-)-κN29,κN30,κN31,κN32]氧-, (SP-5-12)- | 115537-98-9 | - | 含氟取代用于能级/聚集与薄膜性质调控；Ti–O 结构与氟化共同影响电荷转移与光电行为，常用于光电/光催化相关研究 | |
磺化酞菁（水溶性） | 铜酞菁-3,4',4",4"'-四磺酸四钠盐 | 123439-80-5 | 染料含量85% | 典型水溶性酞菁（阴离子型）；适合水相传感/电催化/生物染色等（易聚集，常需盐度/溶剂/表面活性剂控制） | |
磺化酞菁（水溶性） | 四磺酸酞菁锌 | 61586-86-5 | ≥96%, mixture of isomers | 水溶性酞菁（阴离子型）代表；用于水相光谱、电化学、传感或标记研究（异构体与聚集需关注） | |
磺化酞菁（水溶性） | 镍(II)酞菁四磺酸 四钠盐 | 27835-99-0 | ≥94% | 水溶性金属酞菁（阴离子型）；用于水相红氧/电催化模型、传感与光谱研究（聚集需控制） | |
磺化酞菁（水溶性） | 磺化酞菁钴(II) | 1098-91-1 | ≥98% | 水溶性 CoPc 衍生物；适合水相电催化/传感与光谱研究（聚集需控制） | |
磺化酞菁（水溶性） | 铁(III)酞菁-4,4',4'',4'''-四磺酸，与氧一钠水合物的化合物 | - | 染料含量80% | 水溶性 FePc 磺酸盐相关体系；常用于水相电催化/仿酶与光谱电化学研究（聚集与配位状态需关注） | |
磺化酞菁（水溶性） | 酞菁四磺酸 | 33308-41-7 | ≥95%, with isomers | 水溶性酞菁母体磺酸化产物；用于水相光谱/电化学、进一步配位或制备金属磺化酞菁（聚集需控制） | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 酞菁氯化铝 | 14154-42-8 | Dye content ~85 % | AlPcCl 典型轴向配位前体；轴向Cl常可被取代用于进一步功能化，常用于光敏/标记与光电材料 | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 铟（III）酞菁氯化物 | 19631-19-7 | 升华级, ≥99% | InPcCl 轴向配位前体；用于薄膜光电、光谱与配位研究（轴向位点便于后修饰） | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 镓(III)-酞菁氯化物 | 19717-79-4 | 染料含量97% | GaPcCl 轴向配位前体；用于光电/光敏与配位化学研究（轴向位点可后修饰） | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 铁 (III) 酞菁氯化物 | 14285-56-4 | 染料含量~95% | FePcCl：红氧活性强；常用于电催化/仿酶与配位模型体系（价态/配位环境影响显著） | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 酞菁氯化锰(III) | 53432-32-9 | 染料含量85% | Mn(III)PcCl：高价中心常用于氧化还原/仿酶模型；轴向Cl与配位环境会显著影响活性 | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 二氯酞菁锡(IV) | 18253-54-8 | - | SnPcCl₂ 类轴向前体；可用于轴向取代/配位调控与光电薄膜研究 | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 二氯化钛(IV)酞菁 | 16903-42-7 | 染料含量95% | TiPcCl₂ 轴向前体；可用于轴向取代/配位调控、薄膜光电与光催化相关研究 | |
金属酞菁氯化物/轴向前体 | 1,8,15,22-四(苯硫基)-29H,31H-氯化酞菁铝 | 167093-23-4 | 染料含量90% | AlPcCl 轴向前体 + 苯硫基取代协同调控能级/溶解性；用于光电、电荷转移或光敏材料研究 | |
硅酞菁（SiPc，轴向可修饰） | 酞菁硅二氯化硅 | 19333-10-9 | ≥85% | SiPcCl₂ 经典轴向前体；易进行轴向取代得到可溶/可功能化 SiPc，常用于光敏/标记与有机光电薄膜 | |
硅酞菁（SiPc，轴向可修饰） | 硅酞菁二氢氧化物 | 19333-15-4 | 染料含量75% | 轴向 –OH 可进一步衍生（硅醚/碳酸酯等）以调溶解/聚集；用于光敏、标记与薄膜研究 | |
硅酞菁（SiPc，轴向可修饰） | 二氢氧化硅 2,9,16,23-四叔丁基-29H,31H-酞菁 | 85214-70-6 | 染料含量80% | 叔丁基位阻抑聚集 + Si–OH 轴向可修饰：兼顾“形貌控制/后修饰”；用于光敏与有机薄膜研究 | |
酞菁盐（碱金属盐） | 酞菁二钠 | 25476-27-1 | ≥95% | Pc²⁻ 离子盐（还原态/配位前体形态）；用于电化学、配位模型或进一步金属化/功能化中间体 | |
酞菁盐（碱金属盐） | 酞菁二锂 | 25510-41-2 | 染料含量70% | Pc²⁻ 离子盐；常作为更活泼的酞菁配位/衍生化中间体用于后续功能化或金属化 | |
聚酞菁/聚合物 | 聚（铜酞菁） | 26893-93-6 | 染料含量60% | 聚合酞菁/聚铜酞菁；耐热耐化学；用于功能涂层、复合材料或导电颜料/电极材料研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 2,3-萘酞菁 | 23627-89-6 | 染料含量95% | Nc 强近红外吸收发色团；常用于NIR光谱、光热/光声、NIR光电与功能薄膜研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 2,11,20,29-四-叔-丁基-2,3-萘酞菁 | 58687-99-3 | 染料含量97% | 叔丁基位阻有助于降低聚集/改善分散；用于NIR薄膜、光谱与光热相关研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 2,3-萘酞菁铜 | 33273-09-5 | 染料含量85% | CuNc：强NIR吸收；用于NIR光电、光热/光声与功能薄膜研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 铜(II) 5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁 | 155773-67-4 | ≥97% | 长链烷氧提高有机溶解/成膜性；NIR吸收强，适合溶液加工NIR薄膜与器件研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 镍(II) 5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁 | 155773-70-9 | 染料含量98% | 长链烷氧增溶/利于溶液加工；用于NIR光谱、薄膜器件与光热研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 5,9,14,18,23,27,32,36-八丁氧基-2,3-萘酞菁 | 105528-25-4 | 染料含量95% | 典型增溶型 Nc；用于NIR光谱/薄膜与光热相关研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 钴(II) 2,3-萘酞菁 | 26603-20-3 | 染料含量85% | CoNc：NIR吸收 + 金属红氧特性；用于NIR光电、传感与红氧机理研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 硅 2,3-萘酞菁二氢氧化物 | 92396-90-2 | 染料含量80% | SiNc(OH)₂：NIR吸收 + 轴向可修饰；用于可溶/可功能化NIR材料与薄膜研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 2,3-萘酞菁锡(II) | 110479-58-8 | - | SnNc：强NIR吸收；可用于NIR光电薄膜与光谱/器件研究 | |
萘酞菁（Nc，近红外） | 氧钒基 2,3-萘酞菁 | 33273-15-3 | - | VO–Nc：NIR吸收强且具特征电化学/轴向结构；用于NIR薄膜、光谱与机理研究 | |
亚/次酞菁（SubPc） | 氯化亚酞菁硼 | 36530-06-0 | 升华级, ≥99% | SubPc 典型碗状发色团；强吸收/可发光；用于OLED/OPV、有机光电与自组装研究 | |
亚/次酞菁（SubPc） | 2,3,9,10,16,17-六氯化硼次酞菁硼 | 309963-65-3 | 升华级, ≥99% | 卤代SubPc：常用于调控能级/吸收与薄膜形貌；用于OLED/OPV与自组装研究 | |
亚/次酞菁（SubPc） | 硼亚2,3-萘酞菁氯化物 | 142710-56-3 | 升华级, ≥99% | SubNc 类：吸收更偏近红外；用于有机光电/自组装与NIR功能薄膜研究 |
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