稀土到底是什么：17 种元素的材料逻辑、应用地图与阿拉丁试剂选型速查（氧化物/盐类/金属/标准溶液/分散体）
稀土到底是什么：17 种元素的材料逻辑、应用地图与阿拉丁试剂选型速查（氧化物/盐类/金属/标准溶液/分散体）
稀土到底是什么：不是“土”，是 17 种元素的集合
“稀土元素（Rare Earth Elements, REEs）”常指 15 个镧系元素（La–Lu）加上钇（Y）与钪（Sc）共 17 个元素。稀土之“稀”并不等同于“地壳丰度都很低”：作为元素族整体并不罕见，但它们往往分散赋存、共生紧密、难富集且彼此化学性质相近，导致分离提纯成本高、产业链关键在分离与纯化。同时注意族内差异：部分重稀土丰度确实处于低端；另如 Pm 虽属镧系，但在地壳中几乎无天然丰度。
稀土元素清单（17 种）
类别 | 元素 | 符号 |
轻/中镧系 | 镧、铈、镨、钕、钷、钐、铕 | La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu |
重镧系 | 钆、铽、镝、钬、铒、铥、镱、镥 | Gd, Tb, Dy, Ho, Er, Tm, Yb, Lu |
类镧系 | 钇、钪 | Y, Sc |
提示：
1. Y/Sc 之所以常被归入稀土，是因为它们在矿物赋存与化学行为上与镧系相近（尤其 Y³⁺），并且在分离产业链中常作为“稀土体系”一起讨论。
2. 轻/中/重的分组为常用工程口径之一，具体以行业/统计口径为准。
为什么“加一点稀土，材料会变很多”
稀土改变材料性能的“三条底层逻辑”
底层逻辑 | 在材料里表现为 | 最常被调的“旋钮” | 典型落地场景 |
4f/5d 能级与价态可调（磁/光） | 发光中心、磁矩与磁各向异性、能级跃迁；4f–4f 多窄线，5d–4f 多宽带且更受晶场影响 | 离子种类与价态（Eu³⁺/Tb³⁺/Ce³⁺/Eu²⁺ 等）、配位环境/晶场强度、浓度猝灭、还原/氧化气氛 | 荧光粉（如 YAG:Ce）、激光晶体、闪烁体、永磁/磁光材料 |
“镧系收缩”离子半径逐渐变小 | 晶格参数/固溶度/相稳定区间系统变化 | 选择 La→Lu 不同离子、占位（A/B位）、共掺杂 | 结构稳定、介电/铁电调参、晶体工程 |
Ln³⁺ （镧系三价离子，稀土中最常见价态））为硬酸：与硬碱（O²⁻/F⁻）在晶格中更稳定 | 氧空位/价态补偿/晶界势垒改变 → 影响离子电导、损耗与界面行为（固体缺陷化学主导） | 掺杂价态（3+ vs 4+）、氧分压/气氛、烧结制度、阴离子环境（O²⁻/F⁻） | 氧离子导体、传感陶瓷、电化学器件、氟化物光学材料 |
稀土应用地图
读图指南：稀土在材料与器件中常可归纳为 5 类核心角色
角色1 发光/能级中心：稀土离子提供特征发射（材料光学功能的“灯泡芯”）
角色2 缺陷调控器：通过电荷补偿引入/调控氧空位与载流子（电化学/传感核心）
角色3 相稳定器：稳定某些结构相或拓宽稳定区间（例如稳定高温相到更低温）
角色4 组织工程师：细化晶粒/变质共晶/形成稳定金属间化合物或析出相（强度、蠕变、耐蚀）
角色5 医学核素平台：在核医学中作为放射性核素/载体相关材料
场景 | 常用稀土元素/化学形态（选型入口） | 稀土主要角色 | 关键指标（例） | 常用表征/验证 | 关键工艺窗口/常见失效模式（避坑） |
高温超导陶瓷（REBCO/YBCO） | Y、Gd、Sm、Nd 等；靶材/前驱体：RE₂O₃、REBa₂Cu₃O₇₋x 相关粉体、薄膜靶材 | 结构位点替代、缺陷/磁通钉扎相关 | Tc、Jc、陷获磁场、力学可靠性 | XRD、低温电输运、磁测（M–H）、显微缺陷/纹理（SEM/TEM/EBSD） | 氧含量与热处理窗口决定 Jc；晶界弱链接、微裂纹、织构不足→性能大幅波动；块材强磁场表现强依赖温度与增强设计 |
氧离子导体（YSZ 等） | Y₂O₃ 掺 ZrO₂（粉体：Y₂O₃、ZrO₂）；也见 Sc₂O₃ 掺杂体系 | 缺陷调控（氧空位）+ 相稳定 | σ_ion、晶界阻抗、化学/热稳定 | 阻抗谱 EIS（分晶内/晶界）、XRD、SEM/EDS、致密度 | Si/Al/Ca 等杂质易形成晶界绝缘层→晶界阻抗升高；孔隙/二相→有效电导下降；烧结温度与气氛窗口关键。（YSZ=配比决定用途）：SOFC 电解质常见 8 mol% Y₂O₃（8YSZ），Y³⁺ 替代 Zr⁴⁺ 通过电荷补偿引入氧空位是高离子电导的核心机理。 |
YSZ 结构陶瓷（增韧氧化锆） | Y₂O₃ 稳定 ZrO₂（粉体级） | 相稳定 + 相变增韧 | K_IC、强度、老化稳定性 | XRD（相组成）、力学、显微组织 | Y 含量窗口影响四方相稳定；水热老化/相变导致性能衰退；孔隙与晶粒尺寸控制重要。（YSZ=配比决定用途）：结构增韧通常走“部分稳定/保留亚稳四方相”的窗口（不是越稳定越好），工程上常见 3 mol% Y₂O₃ 的 3Y-TZP（或相近范围）依靠应力诱导相变实现增韧。 |
YSZ 热障涂层（TBC） | YSZ 粉体/喷涂粉；可扩展到稀土锆酸盐体系（如 La/Gd 相关） | 低热导 + 高温相稳定 | 热导率、热循环寿命、烧结抗性 | 热循环/热震测试、相分析、孔隙率/裂纹网络表征 | 涂层孔隙结构决定隔热与寿命；高温烧结致孔隙关闭→热导上升；CMAS 侵蚀/界面剥落是工程失效大头。（YSZ=配比决定用途）：TBC 工程口径常用 7 wt% 或 7–8 wt% Y₂O₃（7YSZ/7–8YSZ）来指代主流涂层成分体系。 |
压电/铁电/电光（PZT→PLZT） | La₂O₃ 或 La(NO₃)₃·xH₂O 常用；也见 Nd/Sm 等掺杂 | 占位 + 缺陷调控 + 微结构控制（透明化/电光） | d33、损耗、透明度/电光系数、稳定性 | 介电谱、P–E 回线、透过率、孔隙定量（显微/图像分析） | 孔隙/二相 = 透明电光直接失败；挥发组分控制、烧结气氛与升温曲线敏感；掺杂过量→晶界偏析/二相。PLZT 的透明电光性能往往不只取决于掺杂，更强依赖“极低孔隙/散射源”的致密化路线（如热压、热等静压 HIP 或非常窄的烧结窗口）来把残余孔隙压到光学不可见水平。 |
微波介质陶瓷 | 常见 La/Nd/Sm 等参与的复合氧化物体系；前驱体多为 RE₂O₃ 或硝酸盐 | 相稳定 + 晶格调参 | εr、Q×f、τf | 微波谐振法、XRD（相/精修）、晶粒/二相（SEM/EDS） | 二相、异常晶粒长大、玻璃相→Q 值显著下降；配方与烧结窗口（致密度/晶粒）强耦合 |
气敏陶瓷（SnO₂/ZnO/LaFeO₃ 等） | La/Nd/Sm 等；前驱体：RE(NO₃)₃·xH₂O、RECl₃·xH₂O、RE₂O₃ | 形貌/缺陷/表面化学调控 | 灵敏度、选择性、响应/恢复、漂移 | 电学响应曲线、表面分析（XPS）、形貌（SEM/TEM） | 湿度交叉敏感、长期漂移常见；烧结过度→比表面积下降；贵金属/杂质可能变成“真正活性中心”导致不可复现 |
压敏陶瓷（ZnO 变阻器） | 常见 La/Pr 等微量掺杂（体系依具体配方）；前驱体：RE₂O₃/硝酸盐 | 晶界势垒调控 | 非线性系数 α、击穿/漏电、稳定性 | I–V 曲线、晶界相/偏析（SEM/EDS） | 掺杂窗口窄：过量→α 下降、性能退化；烧结气氛与晶界相决定压敏特性。稀土多作为“微量助掺”参与晶界势垒调控，主体系通常还会配合 Bi₂O₃、Sb₂O₃、Co/Mn 等晶界相/受主体系共同设计（具体随路线差异很大）。 |
热敏陶瓷（PTC/NTC 相关，含 BaTiO₃ 体系） | La/Ce/Sm/Dy/Y 等微量掺杂（具体依体系）；前驱体：RE₂O₃/硝酸盐 | 载流子/缺陷与晶界调控 | R–T 曲线、B 值/居里点附近电阻变化、老化 | 电阻温度特性、显微组织、相分析 | 掺杂过量可导致绝缘化或漂移；晶界玻璃相/孔隙引发老化与批次差异 |
永磁材料（NdFeB/SmCo） | Nd/Pr 金属或母合金；Dy/Tb 用于提升矫顽力；SmCo 用 Sm 金属；也见稀土氢化/合金粉 | 提供大磁矩与各向异性；重稀土提升矫顽力（晶界工程） | Br、Hcj、(BH)max、温度系数、耐蚀性 | 磁滞回线（VSM/测磁）、显微组织/晶界相（SEM/EPMA） | Dy/Tb 提升 Hcj 但可能牺牲 Br 且成本高；晶界相与氧含量控制决定性能；腐蚀与涂层/杂质强相关 |
发光材料/荧光粉（LED/显示） | Y₂O₃、CeO₂、Eu₂O₃、Tb₄O₇ 等；也常用硝酸盐溶液法 | 稀土离子作发光中心（4f/5d 能级） | 发射峰位、量子效率、热猝灭、寿命、色坐标 | PL/PLE、积分球 QE、寿命测试、XRD | 过渡金属杂质猝灭、浓度猝灭；价态敏感（如 Ce³⁺/Ce⁴⁺）受气氛影响；粒径/包覆影响散射与稳定性 |
激光晶体/上转换材料 | Er/Yb/Tm/Ho 等；前驱体多为高纯 RE₂O₃ 或高纯盐 | 能级跃迁、上转换/受激辐射中心 | 发射截面、寿命、阈值、热管理 | 光谱与寿命、杂质谱、相/缺陷表征 | 杂质与 OH⁻ 缺陷导致损耗；浓度与共掺比例窗口；晶体缺陷/应力导致散射与裂纹 |
CeO₂ 催化/氧库（汽车尾气/氧化还原） | CeO₂（粉体/纳米）；常与 ZrO₂ 等复合；前驱体：硝酸铈/氧化铈 | 可逆价态 + 氧空位（氧储存/释放） | OSC、转化率、耐久/抗烧结 | XPS（Ce³⁺/Ce⁴⁺）、TPR/TPD、BET、活性评价 | 粒子烧结→比表面积下降；杂质/氯残留影响活性与可复现；工况氧分压决定价态与氧空位 |
固体电解质/储能材料（如含 La 体系） | 典型含 La 氧化物固体电解质体系（前驱体：La₂O₃/硝酸镧等） | 结构骨架/离子传导相关调控 | 离子电导、界面阻抗、循环稳定 | EIS、相分析、界面表征 | 二相与晶界阻抗是大敌；空气中吸湿/碳酸化影响粉体与界面；烧结制度决定致密与晶界化学 |
Al–Sc 合金 | Sc 金属/母合金；也用 Sc₂O₃ 在特定冶金路径 | 析出强化（Al₃Sc）+ 抑制再结晶 | 强度、热稳定、焊接/再结晶行为 | TEM（析出相）、力学、热暴露后组织 | 关键在析出相尺寸/分布与热暴露粗化；Sc 成本高→更需要“用量窗口+工艺回收率”管理 |
Al–Ce 合金 | Ce 金属/母合金；或 CeO₂ 在特定路径 | 稳定金属间化合物/共晶组织、耐热 | 高温强度、蠕变、组织尺度 | XRD、组织定量、蠕变/高温拉伸 | 共晶/第二相粗大→韧性与室温性能受限；组织细化与热暴露稳定性是关键 |
Mg–RE 合金 | Y/Nd/Gd 等金属或母合金；前驱体一般不走盐类 | 强化相 + 织构/蠕变控制 | 抗蠕变、耐热、耐氧化 | 高温力学、组织/相分析 | 强化相粗化与氧化是主要退化机制；熔炼净化与夹杂控制影响寿命 |
Cu–RE 合金（铸造/净化细化） | Ce/La 等微量；金属或中间合金 | 净化、细化晶粒、改善组织 | 强度/延伸、耐磨、铸造缺陷 | 组织与夹杂分析、力学 | “倍数提升”高度依赖配方与工况；过量或夹杂控制不当可能适得其反 |
农业（争议较大） | 多为 La/Ce 相关盐类（需严格规范与评估） | 可能出现低剂量刺激（双相剂量响应） | 增产/品质、富集与生态风险 | 田间对照 + 长期监测 + 食物链暴露评估 | 受剂量、土壤性质、形态强影响；结论不能泛化；必须把风险评估写入边界条件。所谓“低剂量刺激/高剂量抑制（hormesis）”更多是现象性描述，证据高度依赖土壤类型、稀土形态、剂量与试验设计，不能做跨地区外推。 |
医学路径 A：核医学放射性核素（更可靠） | 放射性同位素相关制剂（按法规体系） | 诊断/治疗（剂量学与靶向是核心） | 成像质量、治疗剂量学、安全性 | 临床证据、剂量学评估、法规合规 | 属药械规范范畴；不能用“稀土盐=抗癌”叙事替代临床证据。临床使用多为受监管的放射性核素制剂（如 Lu-177 等放射性药物体系），评价核心是剂量学/靶向/安全性与规范化流程，而非“元素本身神奇”。 |
医学路径 B：非放射性稀土配合物/成像材料（研究与成熟应用并存） | 典型如含 Gd 配合物成像对比相关材料、稀土纳米探针等 | 成像对比/材料平台 | 稳定性、配体牢固度、生物相容性 | 化学稳定性/释放评估、体内外验证 | 风险与监管强相关；配体稳定性与释放风险必须明确，避免泛化宣传。临床/转化语境下更强调“高稳定螯合/配合物体系”与释放风险控制，并遵循监管与安全评估路径。 |
科研与实验选型
工艺路线 → 稀土试剂形态选择表
目标/工艺 | 推荐形态 | 为什么更合适 | 常见坑点 |
固相合成/陶瓷烧结块体 | RE₂O₃ / CeO₂ / Y₂O₃ | 热稳定、投料直观、易控配比 | 部分 RE₂O₃ 吸湿/吸 CO₂ → 造成配比漂移与二相 |
溶胶-凝胶/共沉淀/浸渍 | RE(NO₃)₃·xH₂O | 溶解性好、混合均匀、热分解路线成熟 | 水合数 x 不稳定；NO₃⁻ 热解放气影响孔隙 |
配位化学/有机相纳米合成 | RECl₃·xH₂O / RE(acetate)₃ | 配位反应更常用、可控性好 | Cl⁻ 残留影响电学/腐蚀；碱性条件水解成胶 |
氟化物材料/熔盐/光学氟化物 | REF₃（最好无水/低水） | 避免 OH⁻ 缺陷；适配氟化物体系 | 水/羟基引入导致光学损耗、相组成偏离 |
合金熔炼/母合金添加 | RE 金属/母合金（如 Al–Sc） | 直接进入金属熔体路径 | 氧化夹杂、烧损、元素回收率与二相粗化 |
纯度与杂质谱
三种常见纯度口径
1. trace metals basis：强调“痕量金属杂质”被严控（做光学/电学/磁学最重要）
2. REO/TREO basis：以稀土氧化物计含量（稀土行业、矿产品/中间体常见）
3. metals basis：以金属计含量（配位化学、溶液前驱体、金属盐常见）
应用场景 → 最敏感杂质
场景 | 最敏感杂质类型 | 为什么敏感 |
发光/激光/透明陶瓷 | Fe、Cu、Ni、Co、Cr（过渡金属） | 形成吸收/猝灭中心，直接拉低发光效率与透过率 |
介电/铁电/微波介质 | Si、Al、Ca、Na、K、Fe | 易形成晶界相/改变缺陷态 → 损耗、漂移、Q 值下降 |
离子导体/电化学（YSZ等） | Si、Al、Ca、Fe、Cl⁻/SO₄²⁻残留 | 晶界阻抗上升或引入电子导电，电导与稳定性变差 |
催化/氧化还原材料 | 痕量过渡金属（任何来源） | “看似提升活性”但导致不可复现（杂质成了真正活性中心） |
合金/熔炼 | O、N、H、S、P（气体/杂质） | 氧化夹杂、气孔、脆化与组织粗化，强度/寿命受影响 |
注：不同供应商/批次的定义与检测清单可能不同，以COA（分析证书）中的杂质列表与检测限为准；metals basis 往往不覆盖非金属杂质（如 C/S/Cl 等残留需另看指标）。
风险与合规清单
风险源 | 主要风险 | 控制措施 |
稀土粉体/烟尘 | 吸入性风险（职业健康研究提示需重视） | 局排/通风柜、湿法操作、合适呼吸防护、避免干粉飞扬 |
硝酸盐/强酸体系 | 氧化性/腐蚀性、热分解气体 | 小量分批、耐腐容器、热处理排气与尾气处理 |
原矿/尾矿/可疑样品 | 伴生 Th/U 风险、TENORM 管理 | 样品来源追溯、按单位辐射/危废规定处置 |
废液/重金属共存 | 环境排放风险 | 分类收集、标识清楚、合规处置 |
阿拉丁稀土相关代表产品分类总表（氧化物/盐类/金属/标准溶液/纳米分散体）
选型要点精炼速查表
分类 | 优先选择场景 | 选型关键点（怎么选） | 典型注意事项/常见坑点 |
稀土氧化物（含 PrimorTrace™/分析级/基础级） | 固相反应、陶瓷烧结、玻璃/耐火配方、催化/储氧、发光/光学母体粉 | 对杂质极敏感（发光/电学/透明陶瓷）→ PrimorTrace™；工艺摸索/常规制备→分析级/基础级 | 易吸湿/吸CO₂ → 称量漂移；必要时预干燥、密封保存 |
稀土硝酸盐（水合，含 PrimorTrace™/高纯） | 溶胶-凝胶、共沉淀、浸渍、溶液掺杂、热分解制氧化物前驱体 | 水溶性好、混合均匀；对痕量杂质敏感→选 PrimorTrace™；常规体系→高纯/AR | 多为水合物（五水/六水/水合）→ 结晶水影响配比；热分解放气可能影响孔结构/形貌 |
稀土氯化物（无水/水合，含 PrimorTrace™/高纯） | 溶液法前驱体、卤化物路线、部分配位/有机金属路线（偏无水） | 对水敏体系/配位与有机金属→无水；常规溶液前驱体→水合；对杂质敏感→PrimorTrace™ | 水合盐吸湿强；Cl⁻ 可能带来腐蚀/副反应/残留风险，需工艺控制（洗涤/热处理） |
稀土金属（粉末/锭/切屑/块；含 REO 口径） | 合金熔炼与添加、磁性材料、靶材原料、金属态还原/金属间化合物研究 | 粉末→反应快/混合均匀；锭/块/切屑→投料稳定、适合熔炼；油封锭适合降低氧化 | 易氧化（粉末尤甚）→需惰性/密封；“metals basis(REO)”为口径表达，别误解为总杂质 |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | ICP-OES/ICP-MS/AAS校准、质控、加标回收、方法学验证 | 优先选与样品消解酸一致的基体（1.0 mol/L HNO₃、10% HCl、10% HNO₃等） | 基体不匹配会带来基体效应；未注明酸基体时建议先做基体匹配/确认 |
稀土纳米分散体（<100 nm；分散液/分散体） | 涂层/薄膜、复合材料填充、催化负载、需要“省去分散步骤”的均匀引入 | 看三点：粒径（<100 nm，BET）+ 固含量（如5 wt%）+ 分散介质（水/溶剂） | 稳定性受 pH/离子强度/溶剂置换影响；存储与使用前需充分摇匀/分散一致性 |
以下为阿拉丁稀土相关代表产品分类表，更多产品规格请关注文末产品总表，或依据品名/CAS在阿拉丁官网搜索
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 产品特色或应用 |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 超高纯） | 12060-08-1 | 氧化钪(Ⅲ) | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 超低杂质背景，适合高端光学/电子材料、精细掺杂与对痕量杂质敏感的研究体系 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 超高纯） | 12037-01-3 | 氧化铽 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯铽源，适用于荧光/磁光材料掺杂、精细成分控制与高要求分析/材料研究 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 12064-62-9 | 氧化钆 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Gd₂O₃适用于磁性/中子吸收相关材料、光学与精细掺杂体系 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 1313-97-9 | 氧化钕 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Nd₂O₃常用于激光/光学玻璃、磁材相关研究与精准掺杂 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 12055-62-8 | 氧化钬 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Ho₂O₃适合磁/光谱相关材料研究、精细掺杂与对杂质敏感体系 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 1308-96-9 | 氧化铕 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 典型发光中心元素来源（Eu体系）；高纯有利于提升发光/光谱研究的可重复性与低背景 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 1308-87-8 | 氧化镝 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Dy₂O₃常用于磁性材料、光学与精准掺杂研究 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 12032-20-1 | 氧化镥 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Lu₂O₃适用于高端光学/闪烁/陶瓷体系与精细掺杂研究 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 12037-29-5 | 氧化镨 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Pr氧化物用于功能陶瓷、催化与掺杂体系；适合对杂质干扰敏感的材料路线 | |
稀土氧化物（PrimorTrace™ 高纯） | 1314-37-0 | 氧化镱 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Yb₂O₃适用于近红外/发光与光学材料掺杂、精细成分控制 | |
稀土氧化物（高纯 REO） | 12036-44-1 | 氧化铥 | ≥99.99%(REO) | 高纯Tm₂O₃适合光学/发光/陶瓷体系与掺杂研究；REO口径便于稀土氧化物体系对比 | |
稀土氧化物（分析用途/颗粒） | 1306-38-3 | 氧化铈 | 用于元素分析, 1.5-2.5mm | 颗粒形态便于称量/投料与元素分析相关应用；CeO₂常用于抛光、催化与氧储放材料研究等 | |
稀土氧化物（分析级） | 1314-36-9 | 氧化钇 99+ | 适用于分析, 优级试剂, ≥99% | 常用作陶瓷/耐火材料、光学与荧光材料母体/掺杂体系的基础氧化物；适合常规分析与配方 | |
稀土氧化物（基础制备级） | 1312-81-8 | 氧化镧(III) | 基础级试剂, 用于制备 | 常用作玻璃/陶瓷改性、催化与储氧体系、功能填料等的基础氧化物；适合工艺摸索与制备 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 超高纯） | 100641-16-5 | 硝酸镥(III) 水合物 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯镥溶液前驱体盐源，适合溶液法制备与精细掺杂；硝酸盐热分解常用于得到氧化物 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 超高纯） | 35725-34-9 | 硝酸镱(III) 五水合物 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯镱盐用于溶液法掺杂/前驱体；注意结晶水含量对配比与干燥流程影响 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 94219-55-3 | 水合硝酸钆 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Gd硝酸盐用于溶液法前驱体与热分解制氧化物路线；适合精细掺杂 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 13494-98-9 | 硝酸钇 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 水溶性好，适合溶胶-凝胶/共沉淀/浸渍等；高纯有利于透明陶瓷/光学体系低缺陷 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 13759-83-6 | 硝酸钐(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Sm盐用于溶液前驱体与掺杂；硝酸盐热分解路线成熟，适合制备均匀氧化物 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 10031-53-5 | 硝酸铕(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Eu硝酸盐适合发光材料溶液掺杂、均匀混合与前驱体制备；注意结晶水配比 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 15878-77-0 | 硝酸镨(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Pr硝酸盐用于溶液法前驱体与掺杂；硝酸盐适合制备均匀前驱体、便于热处理成氧化物 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 107552-14-7 | 硝酸钪(III) 水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis(REO) | 高纯钪硝酸盐适合溶液前驱体与热分解制氧化物路线；对痕量杂质敏感体系更友好 | |
稀土硝酸盐（水合，PrimorTrace™） | 36548-87-5 | 硝酸铥(III) 五水合物 | PrimorTrace™, ≥99.9% metals basis | 高纯Tm盐用于光学/发光/掺杂体系溶液前驱体；水合盐注意储存防潮与计量 | |
稀土硝酸盐（水合，高纯） | 10294-41-4 | 六水合硝酸铈(III) | 超纯级 | 水溶性好，适合配制前驱体溶液用于浸渍/共沉淀/溶胶-凝胶；也常用于Ce(III)相关配位与催化前驱体 | |
稀土硝酸盐（水合，高纯） | 57584-27-7 | 硝酸铽(III) 五水合物 | ≥99.9% metals basis | 水溶性好，适合制备Tb掺杂前驱体（荧光/磁光材料等）；硝酸盐热分解便于转化为氧化物 | |
稀土硝酸盐（水合，高纯） | 100587-94-8 | 硝酸镧(III)水合物 | ≥99.9% metals basis | La硝酸盐常用于溶胶-凝胶/浸渍/共沉淀等溶液工艺；水合度可能变化，需注意配比漂移 | |
稀土硝酸盐（水合，分析纯） | 16454-60-7 | 硝酸钕,六水 | AR, ≥99% | 常规高纯度可溶盐源，适合溶液法制备与掺杂；注意结晶水对配比的影响 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 超高纯） | 10025-94-2 | 氯化钇(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯可溶盐源，适合溶液法制备（浸渍/共沉淀/溶胶-凝胶）与高端掺杂体系 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 超高纯） | 20662-14-0 | 氯化钪 (III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯水溶性钪源，适合对金属杂质极敏感的溶液工艺与高端材料前驱体体系 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 超高纯） | 13798-24-8 | 氯化铽,六水 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | 高纯铽盐，适合荧光材料/磁光材料溶液掺杂与精细化学研究；水合盐需注意计量 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 13759-92-7 | 氯化铕(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Eu盐溶液前驱体，适用于发光材料溶液掺杂/共沉淀等；水合盐注意配比与干燥 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 15230-79-2 | 氯化镥(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Lu盐用于溶液法制备与精细掺杂；对痕量杂质敏感体系更稳定 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 20211-76-1 | 氯化镧水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯La盐适用于溶液工艺（浸渍/共沉淀/溶胶-凝胶）；水合物需考虑结晶水计量 | |
稀土氯化物（水合，PrimorTrace™ 高纯） | 10035-01-5 | 氯化镱(III) 六水合物 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | 高纯Yb盐适用于溶液前驱体与掺杂；有利于减少杂质导致的淬灭/副相风险 | |
稀土氯化物（水合，高纯） | 13450-84-5 | 氯化钆(III) 六水合物 | ≥99.9% metals basis | 易溶于水，适合溶液法前驱体（浸渍/共沉淀/溶胶-凝胶）；六水合物需按结晶水校正配比 | |
稀土氯化物（水合，高纯） | 13477-89-9 | 氯化钕(III)六水合物 | ≥99.9% metals basis | Nd盐源常用于溶液掺杂/前驱体；水合物吸湿性较强，建议干燥条件下称量保存 | |
稀土氯化物（水合，高纯） | 14914-84-2 | 氯化钬(III) 六水合物 | ≥99.9% metals basis | Ho盐用于溶液法制备与掺杂；氯化物溶解性好，适合均匀引入到前驱体溶液中 | |
稀土氯化物（水合，高纯） | 19423-77-9 | 氯化镨(III) 水合物 | ≥99.9% metals basis | 可溶盐源用于溶液法前驱体与掺杂；“水合物”结晶水不定，计量时建议以实际干燥/成分为准 | |
稀土氯化物（水合，高纯） | 10025-75-9 | 氯化铒(III) 六水合物 | ≥99.995% metals basis | 高纯Er盐适合光学/掺杂体系与溶液前驱体；水合盐需防潮、按结晶水校正用量 | |
稀土氯化物（水合，分析纯） | 18618-55-8 | 氯化铈(III) 七水合物 | purum p.a., ≥98%(AT) | 易溶于水用于溶液体系前驱体、催化/掺杂盐源；注意水合盐含结晶水对计量与干燥敏感 | |
稀土氯化物（无水，高纯） | 10361-82-7 | 氯化钐 | 无水级, ≥99.9% metals basis, powder | 无水氯化物适合对水敏体系、配位/有机金属前驱体合成、熔盐/卤化物路线材料制备 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-53-1 | 铕 | ≥99.9% metals basis, powder,max. particle size 250micron | 金属态Eu多用于合金化/还原体系/金属间化合物研究；粉末比表面积大更活泼，需严格惰性/防氧化储存与操作 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-60-0 | 钬 | ≥99.9% metals basis, powder,5g,≤500 micron | 金属Ho用于合金、磁/光谱材料研究及金属态反应；粉末易氧化，建议惰性气氛或快速操作 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7439-94-3 | 镥 | ≥99.9% metals basis, powder,≤500 micron,weight 1g | 金属Lu用于合金化、靶材/蒸镀原料、金属态反应体系；粉末需防氧化并注意粉尘安全 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-64-4 | 镱 | ≥99.9% metals basis, powder,≤500 micron,weight 10g | 金属Yb较活泼，适合还原/合金与有机金属相关研究；粉末需避潮避氧、密封保存 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-65-5 | 金属钇 | ≥99.9% metals basis, Powder | 金属Y常用于合金添加、靶材原料、还原剂/脱氧剂研究；粉末更利于均匀混合与反应 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-10-0 | 金属镨 | ≥99.9% metals basis, Powder | 金属Pr用于合金化、磁性材料研究、金属态反应体系；粉末需防氧化并注意粉尘安全 | |
稀土金属（锭/油封） | 7440-00-8 | 钕锭 | ≥99.9% metals basis, ingot (in mineral oil) | 油封包装减少氧化，适合合金熔炼/磁材研究等；使用前需去油处理并注意表面氧化层 | |
稀土金属（切屑/颗粒） | 7440-54-2 | 钆 | ≥99.9% metals basis, Chips | 切屑形态便于投料熔炼与合金化；用于磁性/中子吸收相关材料研究（操作注意防氧化） | |
稀土金属（粉末/目数） | 7440-19-9 | 钐粉 | ≥99.9% metals basis, 200目 | 200目粉末便于混粉与烧结/合金化；Sm常见于永磁材料与合金体系研究，粉末需防氧化 | |
稀土金属（REO口径高纯） | 7429-91-6 | 金属镝 | ≥99.9% metals basis(REO) | Dy用于高温永磁/合金与磁性调控研究；注意“REO口径”是稀土氧化物折算口径，非总杂质含量描述 | |
稀土金属（REO口径高纯粉末） | 7440-30-4 | 铥粉 | ≥99.9% metals basis(REO) | 金属Tm用于合金、金属态反应与靶材/蒸镀原料；粉末需严格防潮防氧化 | |
稀土金属（高纯金属） | 7440-20-2 | 金属钪 | ≥99.9% metals basis | Sc用于合金化（铝合金等）、靶材/蒸镀原料与金属态反应；较易氧化，建议密封惰性保存 | |
稀土金属（高纯金属） | 7439-91-0 | 金属镧 | ≥99.9% metals basis | La常用作合金添加、储氢/催化相关金属组分；金属表面易氧化，切削/熔炼需注意 | |
稀土金属（高纯金属粉末） | 7440-27-9 | 铽粉 | ≥99.9% metals basis | 金属Tb用于合金与磁光/磁性材料研究；粉末活泼需防氧化，适合快速合金化或反应投料 | |
稀土金属（锭/块） | 7440-45-1 | 金属铈 | ≥99.5% metals basis, ingot,1-10mm | 1–10 mm块状便于投料熔炼/合金化；Ce可用于储氧/还原性研究与合金体系（表面易氧化） | |
稀土金属（块/锭） | 7440-52-0 | 金属铒 | 锭,99.9% metals basis | 用于合金化、磁/氢化相关研究、蒸发/溅射靶材原料或金属态反应体系（需注意表面氧化） | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-65-5 | 钇标准溶液 | 1000μg/ml in 10% HNO3 | 常用内标/校准元素之一；用于ICP-OES/ICP-MS校准、质控与基体匹配 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-54-2 | 钆标准溶液 | 1000μg/ml,in 1.0 mol/L HNO3 | 用于元素定量分析、质控与仪器漂移监控；硝酸基体常用于样品基体匹配 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7429-91-6 | 镝标准溶液 | 1000ug/ml in 1.0mol/L nitric acid | 用于Dy定量校准、质控与方法学验证；硝酸基体适合与硝酸消解体系一致化 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-53-1 | 铕标准溶液 | 1000ug/ml in 10% HCl | 适用于Eu元素分析校准/质控；常用于发光材料相关溶液样品的定量与方法开发 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-60-0 | 钬标准溶液 | 分析标准品, 1000ug/ml in 1.0Mol/L HNO3 | 用于建立校准曲线、质控样配置与方法确认；酸基体有助于稳定离子与防水解沉淀 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7439-94-3 | 镥标准溶液 | 分析标准品, 1000μg/ml in 1.0 mol/L HNO3 | ICP-OES/ICP-MS/AAS等仪器校准、方法学验证、加标回收；硝酸基体适配多数无机分析体系 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7439-91-0 | 镧标准溶液 | 1000μg/ml in 10% HCl | 用于仪器校准/质控与加标回收；盐酸基体适合与含氯基体样品匹配（注意对仪器部件腐蚀与挥发） | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-10-0 | 镨标准溶液 | 1000μg/ml in 1.0 mol/L HNO3 | 用于ICP/AAS定量校准与方法学验证；硝酸体系稳定性通常较好 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-45-1 | 铈标准溶液 | 1000ug/ml in 10%HNO3 | 适用于ICP/AAS校准与质控；10%HNO3基体常用于稳定金属离子并抑制水解 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-00-8 | 钕标准溶液 | 1000ug/ml in 10%HCl | 用于Nd定量分析、加标回收与质控；盐酸基体适用于特定样品/方法（注意基体一致性） | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-20-2 | 钪标准溶液 | 1000ug/ml in 10%HCl | 用于Sc校准与质控；与含氯体系样品基体匹配时更方便 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-19-9 | 钐标准溶液 | 1000ug/ml in 10% HCl | 用于Sm定量分析、质控与方法验证；盐酸体系适用于特定基体匹配需求 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-64-4 | 镱标准溶液 | 1000μg/ml in 10%HCl | 盐酸基体适用于部分体系或与样品酸体系一致；用于ICP/AAS校准、加标回收与方法验证 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-27-9 | 铽标准溶液 | 1000ug/ml,,in 1.0 mol/L HNO3 | 用于Tb元素定量分析、校准曲线与质控；适合与硝酸消解样品体系匹配 | |
稀土标准溶液（元素分析/校准） | 7440-30-4 | 铥标准溶液 | 1000μg/ml | 常用于元素分析校准与质控（未注明酸基体时，使用前建议与样品酸体系进行基体匹配） | |
稀土氧化物分散体（纳米/水分散） | 12061-16-4 | 氧化铒(III)，分散体 | 纳米粒子,分散液,＜100 nm 粒径 (BET),5 wt. % in H2O | 水分散纳米氧化物便于涂层/复合材料/催化与光功能研究的均匀引入；减少粉体团聚处理步骤 | |
稀土氧化物分散体（纳米） | 12060-58-1 | 三氧化二钐分散体 | 纳米颗粒，＜100纳米粒径(BET) | 纳米分散体适合溶胶-凝胶、复合材料、催化/发光相关研究中“均匀掺入/负载”场景 |
危险品化学品经营许可证（带存储）