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在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
应用
近来,已结合乙硅烷气体将四氟化锗用于直接在玻璃基底上制造硅锗微晶。锗和硅纳米晶体可发出强烈的可见光,因其在光电器件中的潜在应用价值而倍受关注。用于研究贵金属的室温氧化 和在玻璃基底上制造硅锗微晶。
Description
Atomic number of base material: 32 GermaniumEmployed in studies on room-temperature oxidation of noble metals and the fabrication of SiGe crystallites on glass substrates.Germanium(IV) fluoride in combination with disilane gas has recently been used to fabricate SiGe crystallites directly on glass substrates. Intense visible light emission from Ge and Si nanocrystals is of particular interest because of potential uses in optoelectronic devices.
分类树(Taxonomy Tree)
| 界(kingdom) | 无机化合物 |
|---|---|
| 超类(Superclass) | 混合金属/非金属化合物 |
| 类(Class) | 准金属盐 |
| 亚类(Subclass) | 类金属氟化物 |
| 中间层级节点(Intermediate Tree Nodes) | 暂无 |
| 直接上位类(Direct Parent) | 类金属氟化物 |
| 其他上位类(Alternative Parents) | 无机盐 |
| 分子骨架(Molecular Framework) | 暂无 |
| 取代基(Substituents) | 无机盐 - 类金属氟化物 |
| 描述(Description) | 该化合物属于无机化合物中的类金属氟化物。这类无机化合物中,最大的卤素原子为氟,而最重的金属原子为类金属。 |
| 外部描述符(External Descriptors) | 暂无 |
H280: 含有压力的气体; 加热可能爆炸
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H318: 造成严重的眼睛损伤
H331: 吸入会中毒
H372: 通过长时间或反复暴露对器官造成损害
P260: 不要吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾。
P261: 避免吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾
P264: 处理后要彻底洗手。
P270: 使用本产品时,请勿进食、饮水或吸烟。
P271: 仅在室外或通风良好的地方使用。
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P321: 特殊处理(请参阅此标签上的...)。
P363: 再次使用之前,请清洗受污染的衣物。
P301+P330+P331: 如误吞咽:漱口。不要诱导呕吐。
P304+P340: 如误吸入:将人转移到空气新鲜处,保持呼吸舒适体位。
P405: 密闭存放
P403+P233: 存放在通风良好的地方。保持容器密闭。
P410+P403: 避免阳光直射。 存放在通风良好的地方。
P501: 将内容物/容器处理到。。。
P264+P265: 处理后彻底洗手[和…]。不要触摸眼睛。
P305+P354+P338: 如果进入眼睛:立即用水冲洗几分钟。取下隐形眼镜(如果有的话),并且操作简单。继续冲洗。
P317: 寻求紧急医疗救助。
P302+P361+P354: 如果接触皮肤:立即脱掉所有被污染的衣服。立即用水冲洗几分钟。
P316: 立即寻求紧急医疗救助。
P319: 如果你感到不适,请寻求医疗帮助。