用于有机和无机合成的催化剂，包括过渡金属催化剂及配套体系。可按催化剂类别和应用场景浏览，并比较成分与操作要求以优化反应。
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过渡金属催化剂 Transition Metal Catalysts
1,238浏览用于偶联、加氢、氧化及通用合成的过渡金属催化剂。比较用于反应筛选、优化及放大生产的催化剂体系。
交叉偶联催化剂 Cross-Coupling Catalysts
5获取用于形成 C–C 和 C–杂原子键的交叉偶联催化剂。利用本页面比较适用于铃木、布赫瓦尔德-哈特维格、园岸及相关转化的催化剂选项。
Buchwald催化剂 Buchwald Catalysts
38查找适用于胺化及交叉偶联工作流程的布赫瓦尔德催化剂体系。比较专为高效 C–N 键及相关键形成反应设计的催化剂选项。
C-H活化催化剂 C-H Activation Catalysts
136浏览用于直接官能团化及简化合成路线设计的 C–H 活化催化剂。利用本页面比较适用于现代键形成化学的催化剂体系。
产品列表
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二(三环己基膦)亚苄基二氯化钌CAS: 172222-30-9 分子式: C43H72Cl2P2Ru 分子量: 822.96Ru 12.3%有现货 货号: G113747查看产品价格与包装技术标识符
- SMILES
- C[Ph].P(C1CCCCC1)(C2CCCCC2)C3CCCCC3.P(C4CCCCC4)(C5CCCCC5)C6CCCCC6.Cl.Cl.[Ru
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硝酸镓(III) 水合物PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: G118482查看产品价格与包装技术标识符
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硝酸镓(III) 水合物PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: G118483查看产品价格与包装技术标识符
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溴化钆(III)无水级 ? 无水级 —— 去除水分并干燥包装，供对水敏感的化学使用。适用于痕量水即会干扰或猝灭的反应。 PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis powder有现货 货号: G119155查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- tribromogadolinium
- SMILES
- Br[Gd](Br)Br
- InChIKey
- KGOKDPWKDBWITQ-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3BrH.Gd/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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碘化钆(III)无水级 ? 无水级 —— 去除水分并干燥包装，供对水敏感的化学使用。适用于痕量水即会干扰或猝灭的反应。 PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis powder有现货 货号: G119156查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- triiodogadolinium
- SMILES
- I[Gd](I)I
- InChIKey
- IZZTUGMCLUGNPM-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/Gd.3HI/h;3*1H/q+3;;;/p-3
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Grubbs 2 代催化剂有现货 货号: G120500查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- benzylidene-[1,3-bis(2,4,6-trimethylphenyl)imidazolidin-2-ylidene]-dichlororuthenium;tricyclohexylphosphane
- SMILES
- CC1=CC(=C(C(=C1)C)N2CCN(C2=[Ru](=CC3=CC=CC=C3)(Cl)Cl)C4=C(C=C(C=C4C)C)C)C.C1CCC(CC1)P(C2CCCCC2)C3CCCCC3
- InChIKey
- FCDPQMAOJARMTG-UHFFFAOYSA-L
- InChI
- 显示更多
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三氟甲磺酸钆(III)有现货 货号: G138943查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- gadolinium(3+);trifluoromethanesulfonate
- SMILES
- C(F)(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C(F)(F)(F)S(=O)(=O)[O-].C(F)(F)(F)S(=O)(=O)[O-].[Gd+3]
- InChIKey
- DYOBTPTUHDTANY-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3CHF3O3S.Gd/c3*2-1(3,4)8(5,6)7;/h3*(H,5,6,7);/q;;;+3/p-3
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氧化铝PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis 晶型α,0.20μm有现货 货号: H102613查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- dialuminum;oxygen(2-)
- SMILES
- O=[Al]O[Al]=O
- InChIKey
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Al.3O/q2*+3;3*-2
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纳米级氧化铝PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis 晶型γ,≤20nm有现货 货号: H102616查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- dialuminum;oxygen(2-)
- SMILES
- O=[Al]O[Al]=O
- InChIKey
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Al.3O/q2*+3;3*-2
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