四(甲乙胺基)铪(TEMAH)

CAS: 352535-01-4 货号: T283750 分子式: C12H32HfN4 分子量: 410.90 EC号: 629-684-4
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级别和纯度: PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis
别名
TEMAH, 四(乙基甲基氨基)铪
储存条件
2-8°C储存,避光,充氩,干燥
运输条件
低温运输
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规格
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文献证明

在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。

概述

四双(乙基甲基氨)铪(IV)(TEMAH)是一种对水和空气敏感的无色液体。它在 -50°C结冰,在0.1Torr下,78°C左右沸腾。
应用:
TEMAH 被用作氧化铪(HfO2)薄膜的原子层沉积(ALD)的前体。因为 HfO2 具有 16-25 的高介电常数,所以它通常用作半导体制造中的介电膜。
TEMAH 由于其低沸点以及与水和臭氧的反应性,是 ALD 的理想选择。最重要的是,它在包括玻璃、氧化铟锡(ITO)和硅(100)在内的许多基板上的吸附是自限制的。研究人员还用它在 MoS2等二维材料上沉积 HfO2薄膜。
TEMAH 也是在MoS2光电晶体管上合成铁电铪-氧化锆和Hf1-xZrxO2薄膜的有用前体。研究人员还通过 ALD 交替脉冲 TEMAH 和氨沉积了氮化铪(Hf3N4)薄膜。
特点与优势:
热稳定性。
它具有足够的挥发性,适合用于气相沉积。
完全自我限制的表面反应。
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) (TEMAH) is a colorlessliquid that is sensitive to water and air. It freezes at -50 °C and boilsaround 78 °C at 0.1 Torr.
Application:
TEMAH is used as a precursor for atomic layer deposition (ALD)of hafnium oxide (HfO2) thin films. Because HfO2 has a high dielectric constant of 16-25, it is commonly used as a dielectric film in semiconductor fabrication.
TEMAH is ideal for ALD because of its low boiling point and its reactivity with water and ozone. Most importantly, its adsorption is self-limiting on a number of substrates including glass, indium-tin oxide(ITO), and Si(100). Researchers have also used it to deposit thin films ofHfO2 on 2D materials, like MoS2.
TEMAH is also useful precursor in the synthesis of ferroelectric hafnium zirconium oxide and Hf1-xZrxO2 thin films on MoS2 phototransistors. Researchers have also deposited thin films of hafnium nitride (Hf3N4) by ALD alternatively pulsing TEMAH and ammonia.
Features and Benefits:
Thermally stable.
It has sufficient volatility and is suitable for use in vapor deposition.

Completely self-limiting surface reactions.

规格

别名
TEMAH, 四(乙基甲基氨基)铪
英文别名
Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV), packaged for use in deposition systems | SCHEMBL237323 | Tetrakis(ethylmethylamido)hafnium(IV) | Hafnium tetrakis(ethylmethylamide) | Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium 99.999% | MFCD03427130 | Tetrakis(ethylmethylami
规格或纯度
PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis
英文名称
Tetrakis(ethylmethylamino)hafnium(TEMAH)
储存条件
2-8°C储存,避光,充氩,干燥
运输条件
低温运输
法律信息
High temperature Swagelok® cylinder assembly 96-1071 available at extra cost.
纯度
≥99.999% metals basis
名称和识别符
EC号
629-684-4
分子类型
小分子
IUPAC Name
ethyl(methyl)azanide;hafnium(4+)
INCHI
1S/4C3H8N.Hf/c4*1-3-4-2;/h4*3H2,1-2H3;/q4*-1;+4
InChi Key
NPEOKFBCHNGLJD-UHFFFAOYSA-N
Smiles
CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.[Hf+4]
Isomeric SMILES
CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.CC[N-]C.[Hf+4]
UN Number
分子量
410.90

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高级数据

三维结构
交互式化学结构模型





化学和物理性质
密度
1.324
敏感性
对空气敏感;对光线敏感;对湿度敏感
闪点(℉)
52 °F
闪点(℃)
11 °C - closed cup
沸点
78 °C
熔点
<-50 °C
安全和危险性(GHS)
象形图
GHS02,   GHS05,   GHS06,   GHS07
信号词
危险
危险声明

H225: 高度易燃的液体和蒸气

H261: 与水接触释放出易燃气体

H302: 吞食有害

H311: 皮肤接触有毒

H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤

H315: 引起皮肤刺激

H319: 引起严重眼睛刺激

H331: 吸入会中毒

H335: 可能引起呼吸道刺激

预防措施声明

P210: 远离热源,热表面,火花,明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。

P233: 保持容器密闭。

P240: 地面/粘结容器和接收设备

P241: 使用防爆的[电气/通风/照明/.../]设备。

P242: 仅使用无火花的工具。

P243: 采取防静电措施

P260: 不要吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾。

P261: 避免吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾

P264: 处理后要彻底洗手。

P270: 使用本产品时,请勿进食、饮水或吸烟。

P271: 仅在室外或通风良好的地方使用。

P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。

P231+P232: 在惰性气体中操作。防潮。

P321: 特殊处理(请参阅此标签上的...)。

P330: 漱口

P363: 再次使用之前,请清洗受污染的衣物。

P301+P330+P331: 如误吞咽:漱口。不要诱导呕吐。

P302+P352: 如皮肤沾染:用水充分清洗。

P303+P361+P353: 如皮肤(或头发)沾染:立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。

P304+P340: 如误吸入:将人转移到空气新鲜处,保持呼吸舒适体位。

P305+P351+P338: 如进入眼睛:用水小心冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取出,取出隐形眼镜。继续冲洗。

P361+P364: 立即脱掉所有沾染的衣服,清洗后方可重新使用。

P362+P364: 脱掉沾污的衣服,清洗后方可重新使用。

P370+P378: 火灾时:使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。

P405: 密闭存放

P402+P404: 存放于干燥处。存放于密闭的容器中。

P403+P233: 存放在通风良好的地方。保持容器密闭。

P403+P235: 存放在通风良好的地方。保持低温。

P501: 将内容物/容器处理到。。。

P264+P265: 处理后彻底洗手[和…]。不要触摸眼睛。

P301+P317: 如果被吞咽:请寻求医疗帮助。

P305+P354+P338: 如果进入眼睛:立即用水冲洗几分钟。取下隐形眼镜(如果有的话),并且操作简单。继续冲洗。

P337+P317: 如果眼睛刺激持续:寻求医疗帮助。

P332+P317: 如果出现皮肤刺激:请寻求医疗帮助。

P302+P361+P354: 如果接触皮肤:立即脱掉所有被污染的衣服。立即用水冲洗几分钟。

P316: 立即寻求紧急医疗救助。

P319: 如果你感到不适,请寻求医疗帮助。

RIDADR
UN3398 - DOT UN3399 class 4.3 - PG 1 - Organometallic substance, liquid, water-reactive, HI: all (not BR)
质检证书(CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
C of A & Other Certificates(BSE/TSE, COO):
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