四(二甲基氨基)铪(Ⅳ)(TDMAH)

CAS: 19782-68-4 货号: T432281 分子式: C8H24HfN4 分子量: 354.79 EC号: 629-069-0 PubChem CID: 140609
有货
级别和纯度: ≥99.99%
别名
四(二甲胺基)铪(IV), TDMAH
储存条件
2-8°C储存,避光,充氩
运输条件
低温运输
★
规格
库存
价格
数量
5g
T432281-5g
期货 Stock Image
¥3,199.90
请输入您要添加的产品数量

概述

四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物,由中心的铪原子(Hf)和周围的四个二甲基氨基配体(NMe2)组成。通常用作CVD/ALD前体,生产高质量的Hf薄膜。它是一种低熔点固体。

Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) is an organometallic compound consisting of a central hafnium atom (Hf) surrounded by four dimethylamido ligands (NMe2). It is commonly used as a CVD/ALD precursor to produce high-quality Hf thin films. It is a solid with low melting point.

规格

别名
四(二甲胺基)铪(IV), TDMAH
英文别名
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) | Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV) | TDMAH | Hafnium, tetrakis(dimethylamino)- | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV), packaged for use in deposition systems | dimethylazanide;hafnium(4+) | TETRAKIS(DIMETHYLAMINO)HAFNIUM | TETRAKIS(DIMETHYLAMIDO)HAFNIUM(IV),
规格或纯度
≥99.99%
英文名称
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)(TDMAH)
应用
四(二甲基氨基)铪(IV)可用于: 作为原子层沉积(ALD)前驱体,沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。 作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。 使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)3]前驱体和H2O,通过ALD法在Ge衬底上制备HfO2、CeO2和Ce掺杂HfO2薄膜。 在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf3N4薄膜。
储存条件
2-8°C储存,避光,充氩
运输条件
低温运输
纯度
≥99.99%
名称和识别符
EC号
629-069-0
分子类型
小分子
IUPAC Name
dimethylazanide;hafnium(4+)
INCHI
1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
InChi Key
ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N
Smiles
C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Hf+4]
Isomeric SMILES
C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Hf+4]
PubChem CID
UN Number
分子量
354.79

高级数据

系统学分类

分类树(Taxonomy Tree)

界(kingdom) 有机化合物
超类(Superclass) 有机盐
类(Class) 有机金属盐
亚类(Subclass) 有机过渡金属盐
中间层级节点(Intermediate Tree Nodes) 暂无
直接上位类(Direct Parent) 有机过渡金属盐
其他上位类(Alternative Parents) 有机光子化合物  有机氮化合物  碳氢化合物衍生物  
分子骨架(Molecular Framework) 暂无
取代基(Substituents) 脂肪族非环化合物 - 烃衍生物 - 有机硝基化合物 - 有机过氧化物 - 有机氮化合物 - 有机氮化合物
描述(Description) 该化合物属于有机过渡金属盐类。这类有机盐化合物含有以离子形式存在的过渡金属原子。
外部描述符(External Descriptors) 暂无
三维结构
交互式化学结构模型





化学和物理性质
密度
1.098g/mLat 25°C
敏感性
对空气敏感;对光线敏感;对湿度敏感
闪点(℉)
109 °F
沸点
85°C/0.1mm
熔点
26-29 °C
分子量
354.790 g/mol
XLogP3
氢键供体数Hydrogen Bond Donor Count
0
氢键受体数Hydrogen Bond Acceptor Count
4
可旋转键计数Rotatable Bond Count
0
精确质量Exact Mass
356.147 Da
单同位素质量Monoisotopic Mass
356.147 Da
拓扑极表面积Topological Polar Surface Area
4.000 Ų
重原子数Heavy Atom Count
13
形式电荷Formal Charge
0
复杂度Complexity
24.100
同位素原子数Isotope Atom Count
0
定义的原子立体中心计数Defined Atom Stereocenter Count
0
未定义的原子立体中心计数Undefined Atom Stereocenter Count
0
定义的键立体中心计数Defined Bond Stereocenter Count
0
未定义的键立体中心计数Undefined Bond Stereocenter Count
0
所有立体化学键的总数The total count of all stereochemical bonds
0
共价键合单元计数Covalently-Bonded Unit Count
5
安全和危险性(GHS)
象形图
GHS02,   GHS05
信号词
危险
危险声明

H228: 易燃固体

H261: 遇水放出易燃气体

H314: 造成严重皮肤灼伤和眼损伤

预防措施声明

P210: 远离热源,热表面,火花,明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。

P240: 地面/粘结容器和接收设备

P241: 使用防爆的[电气/通风/照明/.../]设备。

P260: 不要吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾。

P264: 处理后要彻底洗手。

P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。

P231+P232: 在惰性气体中操作。防潮。

P321: 特殊处理(请参阅此标签上的...)。

P363: 再次使用之前,请清洗受污染的衣物。

P301+P330+P331: 如误吞咽:漱口。不要诱导呕吐。

P304+P340: 如误吸入:将人转移到空气新鲜处,保持呼吸舒适体位。

P370+P378: 火灾时:使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。

P405: 密闭存放

P402+P404: 存放于干燥处。存放于密闭的容器中。

P501: 将内容物/容器送到批准的废物处理厂处理

P305+P354+P338: 如果进入眼睛:立即用水冲洗几分钟。取下隐形眼镜(如果有的话),并且操作简单。继续冲洗。

P302+P361+P354: 如果接触皮肤:立即脱掉所有被污染的衣服。立即用水冲洗几分钟。

P316: 立即寻求紧急医疗救助。

RIDADR
UN 3396 4.1(4.3) / PGII
质检证书(CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
C of A & Other Certificates(BSE/TSE, COO):
输入批号以搜索分析图谱:
技术文档和文章
溶液计算器