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为什么选择此级别
提供 ≥99.99% 纯度，适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
储存与运输
2-8°C储存,避光,充氩。低温运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
质量文档
SDS、COA、产品数据表及规格说明书均可下载。可通过批号查询获取批次 COA。
文献证明
在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
概述
四(二甲基氨基)铪(IV)是一种 有机金属化合物，由中心的铪原子(Hf)和周围的四个二甲基氨基配体(NMe2)组成。通常用作CVD/ALD前体，生产高质量的Hf薄膜。它是一种低熔点固体。
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) is an organometallic compound consisting of a central hafnium atom (Hf) surrounded by four dimethylamido ligands (NMe2). It is commonly used as a CVD/ALD precursor to produce high-quality Hf thin films. It is a solid with low melting point.
规格
别名
四(二甲胺基)铪(IV), TDMAH
英文别名
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV), >=99.99% | MFCD01862473 | SCHEMBL54871 | Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV) 99.999% | Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV) | Tetrakis(dimethylamino)hafnium(IV) | TDMAH | Hafnium, tetrakis(dimethylamino)- | Tetrakis(dimeth
规格或纯度
≥99.99%
英文名称
Tetrakis(dimethylamido)hafnium(IV)(TDMAH)
应用
四(二甲基氨基)铪(IV)可用于：
作为原子层沉积（ALD）前驱体，沉积用于先进半导体器件的氧化铪薄膜。
作为制造聚合物衍生陶瓷纳米复合材料的前驱体。
使用三(异丙基-环戊二烯基)铈[Ce(iPrCp)3]前驱体和H2O，通过ALD法在Ge衬底上制备HfO2、CeO2和Ce掺杂HfO2薄膜。
在150−250 °C的低衬底温度下用TDMAH和氨制备Hf3N4薄膜。
储存条件
2-8°C储存,避光,充氩
运输条件
低温运输
纯度
≥99.99%
名称和识别符
技术文档
高级数据
系统学分类
分类树（Taxonomy Tree）
| 界（kingdom) | 有机化合物 |
|---|---|
| 超类（Superclass) | 有机盐 |
| 类（Class) | 有机金属盐 |
| 亚类（Subclass） | 有机过渡金属盐 |
| 中间层级节点（Intermediate Tree Nodes） | 暂无 |
| 直接上位类(Direct Parent) | 有机过渡金属盐 |
| 其他上位类（Alternative Parents） | 有机光子化合物 有机氮化合物 碳氢化合物衍生物 |
| 分子骨架（Molecular Framework) | 暂无 |
| 取代基（Substituents） | 脂肪族非环化合物 - 烃衍生物 - 有机硝基化合物 - 有机过氧化物 - 有机氮化合物 - 有机氮化合物 |
| 描述（Description） | 该化合物属于有机过渡金属盐类。这类有机盐化合物含有以离子形式存在的过渡金属原子。 |
| 外部描述符（External Descriptors） | 暂无 |
三维结构
交互式化学结构模型
化学和物理性质
密度
1.098g/mLat 25°C
敏感性
对空气敏感;对光线敏感;对湿度敏感
闪点(℉)
109 °F
沸点
85°C/0.1mm
熔点
26-29 °C
分子量
354.790 g/mol
XLogP3
氢键供体数Hydrogen Bond Donor Count
0
氢键受体数Hydrogen Bond Acceptor Count
4
可旋转键计数Rotatable Bond Count
0
精确质量Exact Mass
356.147 Da
单同位素质量Monoisotopic Mass
356.147 Da
拓扑极表面积Topological Polar Surface Area
4.000 Ų
重原子数Heavy Atom Count
13
形式电荷Formal Charge
0
复杂度Complexity
24.100
同位素原子数Isotope Atom Count
0
定义的原子立体中心计数Defined Atom Stereocenter Count
0
未定义的原子立体中心计数Undefined Atom Stereocenter Count
0
定义的键立体中心计数Defined Bond Stereocenter Count
0
未定义的键立体中心计数Undefined Bond Stereocenter Count
0
所有立体化学键的总数The total count of all stereochemical bonds
0
共价键合单元计数Covalently-Bonded Unit Count
5
安全和危险性（GHS）
信号词
危险
危险声明
H228: 易燃固体
H261: 与水接触释放出易燃气体
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
预防措施声明
P210: 远离热源，热表面，火花，明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。
P240: 地面/粘结容器和接收设备
P241: 使用防爆的[电气/通风/照明/.../]设备。
P260: 不要吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾。
P264: 处理后要彻底洗手。
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P231+P232: 在惰性气体中操作。防潮。
P321: 特殊处理（请参阅此标签上的...）。
P363: 再次使用之前，请清洗受污染的衣物。
P301+P330+P331: 如误吞咽：漱口。不要诱导呕吐。
P304+P340: 如误吸入：将人转移到空气新鲜处，保持呼吸舒适体位。
P370+P378: 火灾时：使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。
P405: 密闭存放
P402+P404: 存放于干燥处。存放于密闭的容器中。
P501: 将内容物/容器处理到。。。
P305+P354+P338: 如果进入眼睛：立即用水冲洗几分钟。取下隐形眼镜（如果有的话），并且操作简单。继续冲洗。
P302+P361+P354: 如果接触皮肤：立即脱掉所有被污染的衣服。立即用水冲洗几分钟。
P316: 立即寻求紧急医疗救助。
RIDADR
UN 3396 4.1(4.3) / PGII
质检证书（CoA,COO,BSE/TSE 和分析图谱)
C of A & Other Certificates(BSE/TSE, COO):
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