混合金属/非金属化合物
描述:
同时含有金属原子和非金属原子的化合物。
上级分类:
产品列表
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四羟基二硼烷（BBA）有现货 货号: T167102查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- hypoboric acid
- SMILES
- B(B(O)O)(O)O
- InChIKey
- SKOWZLGOFVSKLB-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/B2H4O4/c3-1(4)2(5)6/h3-6H
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四氟硼酸镍(II)六水合物有现货 货号: N189039查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- nickel(2+);ditetrafluoroborate;hexahydrate
- SMILES
- [B-](F)(F)(F)F.[B-](F)(F)(F)F.O.O.O.O.O.O.[Ni+2]
- InChIKey
- BFFWGFMAXHCLDV-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2BF4.Ni.6H2O/c2*2-1(3,4)5;;;;;;;/h;;;6*1H2/q2*-1;+2;;;;;;
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高氯酸镍(II) 六水合物Ni;15.2-16.9%有现货 货号: N189003查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- nickel(2+);diperchlorate;hexahydrate
- SMILES
- O.O.O.O.O.O.[Ni++].[O-]Cl(=O)(=O)=O.[O-]Cl(=O)(=O)=O
- InChIKey
- WHGYCGOFTBFDLW-UHFFFAOYSA-L
- InChI
- 1S/2ClHO4.Ni.6H2O/c2*2-1(3,4)5;;;;;;;/h2*(H,2,3,4,5);;6*1H2/q;;+2;;;;;;/p-2
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硒化镓PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis 200 mesh有现货 货号: G196262查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- digallium;selenium(2-)
- SMILES
- [Ga+3].[Ga+3].[Se-2].[Se-2].[Se-2]
- InChIKey
- ZZEMEJKDTZOXOI-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Ga.3Se/q2*+3;3*-2
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硒化镓PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis ≥100mesh有现货 货号: G196261查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- digallium;selenium(2-)
- SMILES
- [Ga+3].[Ga+3].[Se-2].[Se-2].[Se-2]
- InChIKey
- ZZEMEJKDTZOXOI-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Ga.3Se/q2*+3;3*-2
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无水氯化镓PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: G196258查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- trichlorogallane
- SMILES
- Cl[Ga](Cl)Cl
- InChIKey
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.Ga/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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硒化钼(IV)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis ≥100目有现货 货号: M196231查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- bis(selanylidene)molybdenum
- SMILES
- [Se]=[Mo]=[Se]
- InChIKey
- MHWZQNGIEIYAQJ-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/Mo.2Se
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