混合金属/非金属化合物
描述:
同时含有金属原子和非金属原子的化合物。
上级分类:
产品列表
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高纯度硅胶(FUJI SILYSIA)40-75μm ,70Å,Bet:480m2/g有现货 货号: G118307查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- dioxosilane
- SMILES
- O=[Si]=O
- InChIKey
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/O2Si/c1-3-2
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氧化镓PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: G110982查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- digallium;oxygen(2-)
- SMILES
- [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3]
- InChIKey
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Ga.3O/q2*+3;3*-2
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氧化镓PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: G110981查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- digallium;oxygen(2-)
- SMILES
- [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3]
- InChIKey
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2Ga.3O/q2*+3;3*-2
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硝酸钆,六水PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: G106605查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- gadolinium(3+);trinitrate;hexahydrate
- SMILES
- [N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].O.O.O.O.O.O.[Gd+3]
- InChIKey
- XWFVFZQEDMDSET-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/Gd.3NO3.6H2O/c;3*2-1(3)4;;;;;;/h;;;;6*1H2/q+3;3*-1;;;;;;
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硝酸钆,六水PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: G106606查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- gadolinium(3+);trinitrate;hexahydrate
- SMILES
- [N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].[N+](=O)([O-])[O-].O.O.O.O.O.O.[Gd+3]
- InChIKey
- XWFVFZQEDMDSET-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/Gd.3NO3.6H2O/c;3*2-1(3)4;;;;;;/h;;;;6*1H2/q+3;3*-1;;;;;;
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氧化锗PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis ≥200目有现货 货号: G105882查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- dioxogermane
- SMILES
- O=[Ge]=O
- InChIKey
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/GeO2/c2-1-3
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氧化钆PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: G105875查看产品价格与包装
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