混合金属/非金属化合物
描述:
同时含有金属原子和非金属原子的化合物。
上级分类:
产品列表
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氧化钽(V)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 光玻级 ? 光学级 —— 受控的澄清度和低散射，供光学元件使用。适用于透光性重要的透镜、窗口和介质。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: T104744查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- oxygen(2-);tantalum(5+)
- SMILES
- [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5]
- InChIKey
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/5O.2Ta/q5*-2;2*+5
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氧化钽(V)PureSpectra™ ? PureSpectra™ —— 阿拉丁面向光谱应用的高端系列。当低光谱背景可确保洁净的 UV/Vis/IR 测量时使用。 光谱纯 ? 光谱纯 —— 杂质控制到光谱洁净基线水平。适用于背景信号须极低的光谱分析。有现货 货号: T104739查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- oxygen(2-);tantalum(5+)
- SMILES
- [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5]
- InChIKey
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/5O.2Ta/q5*-2;2*+5
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钨酸PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: T104563查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- dihydroxy(dioxo)tungsten
- SMILES
- O[W](=O)(=O)O
- InChIKey
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L
- InChI
- 1S/2H2O.2O.W/h2*1H2;;;/q;;;;+2/p-2
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三氯化钛(III)溶液AR ? 分析纯（AR）—— 符合严格含量限度的高纯度试剂，适用于实验室分析。当精度要求高、痕量杂质可能影响结果时使用。 15.0～20.0% TiCl3 basis in 30%HCl有现货 货号: T104373查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- trichlorotitanium
- SMILES
- Cl[Ti](Cl)Cl
- InChIKey
- YONPGGFAJWQGJC-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.Ti/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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二氧化碲PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: T103865查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- tellurium dioxide
- SMILES
- O=[Te]=O
- InChIKey
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/O2Te/c1-3-2
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二氧化碲PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: T103864查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- tellurium dioxide
- SMILES
- O=[Te]=O
- InChIKey
- LAJZODKXOMJMPK-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/O2Te/c1-3-2
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