其他非金属有机物
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升华硫(易制爆)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis flakes有现货 货号: S106613查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- sulfur
- SMILES
- [S]
- InChIKey
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/S
- 关联靶标
- Carbonic anhydrase 1
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高纯硫(易制爆)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: S105119查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- sulfur
- SMILES
- [S]
- InChIKey
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/S
- 关联靶标
- Carbonic anhydrase 1
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高纯硫(易制爆)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: S105118查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- sulfur
- SMILES
- [S]
- InChIKey
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/S
- 关联靶标
- Carbonic anhydrase 1
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氨基磺酸PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: S103532查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- sulfamic acid
- SMILES
- NS(=O)(=O)O
- InChIKey
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/H3NO3S/c1-5(2,3)4/h(H3,1,2,3,4)
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氨基磺酸PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: S103530查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- sulfamic acid
- SMILES
- NS(=O)(=O)O
- InChIKey
- IIACRCGMVDHOTQ-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/H3NO3S/c1-5(2,3)4/h(H3,1,2,3,4)
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五氧化二磷PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.997% metals basis有现货 货号: P116349查看产品价格与包装技术标识符
- SMILES
- O=P(=O)OP(=O)=O
- InChIKey
- YWEUIGNSBFLMFL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/O5P2/c1-6(2)5-7(3)4
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