计算溶液所需的质量、体积或浓度。
电子级 ,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
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在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
本品是半导体 / 微电子、显示面板等领域刻蚀铝及铝合金(Al、Al - Si、Al - Cu 等)的核心酸性刻蚀体系,又称磷酸 - 硝酸 - 乙酸腐蚀液,通过磷酸络合、硝酸氧化、乙酸助溶协同作用,实现可控、均匀的各向同性 / 微各向异性刻蚀,对光刻胶兼容性好,广泛适配晶圆级金属布线、显示面板栅极 / 源漏极铝膜刻蚀等场景
This etching solution is a core acidic etching system for etching aluminum and aluminum alloys (Al, Al-Si, Al-Cu, etc.) in the fields of semiconductors/microelectronics and display panels. It is also known as a phosphoric acid-nitric acid-acetic acid etching solution. Through the synergistic effects of phosphoric acid complexation, nitric acid oxidation, and acetic acid dissolution assistance, it achieves controllable, uniform isotropic/micro-anisotropic etching. It has good compatibility with photoresists and is widely suitable for wafer-level metal wiring, display panel gate/source-drain aluminum film etching, and other scenarios;
H290: 可能腐蚀金属
H300: 吞咽致命
H310: 与皮肤接触致命
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H318: 造成严重的眼睛损伤
H330: 吸入致命
P260: 不要吸入灰尘/烟雾/气体/雾/蒸汽/喷雾。
P262: 不要进入眼睛、皮肤或衣服。
P264: 处理后要彻底洗手。
P270: 使用本产品时,请勿进食、饮水或吸烟。
P271: 仅在室外或通风良好的地方使用。
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P284: 如果通风不良,请佩戴呼吸防护装置。
P310: 立即致电解毒中心或医生。
P321: 特殊处理(请参阅此标签上的...)。
P363: 再次使用之前,请清洗受污染的衣物。
P301+P330+P331: 如误吞咽:漱口。不要诱导呕吐。
P303+P361+P353: 如皮肤(或头发)沾染:立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P304+P340: 如误吸入:将人转移到空气新鲜处,保持呼吸舒适体位。
P305+P351+P338: 如进入眼睛:用水小心冲洗几分钟。如戴隐形眼镜并可方便地取出,取出隐形眼镜。继续冲洗。
P501: 将内容物/容器处理到。。。