光学与光电材料选型导览：按“产生—引导—调控—读出”定位材料、关键指标与验证路径（含产品导航与表1–表4）
光学与光电材料选型导览：按“产生—引导—调控—读出”定位材料、关键指标与验证路径（含产品导航与表1–表4）
光学材料看起来很杂：染料、非线性晶体、波导树脂、变色材料、探测器、薄膜镀膜、光学玻璃……但它们在系统里其实都在做同一件事：先让光被产生，再把光低损耗地引导到指定位置，按需求调控其相位/强度/偏振/频谱，最后把光可靠地读出为可测信号。
因此本文用“产生—引导—调控—读出”作为主框架，来统一材料分类、关键指标与最小验证路径。
1.核心概念
1. 光子（photon）是光的量子单位；单个光子的能量为 E ，在不同介质中频率 ν 不变、波长 λ 会随折射率改变，因此工程上仍以“目标波段”来定材料窗口。
2. 光子学（Photonics）可以理解为：围绕光子的产生、操控/调制、传输、探测与应用的一整套科学与工程。
3. 光学材料（Optical materials）是实现上述功能的物理/化学载体，形态可为小分子、聚合物、晶体、薄膜、复合材料、器件平台等。
4. 光子器件/系统（Devices/Systems）是把材料做成可用模块（光源、波导、调制器、探测器、滤光/镀膜与封装等），并通过耦合与封装形成可工作的系统。
2．用三个问题来定方向
1. 目标波段 λ 是什么？（决定“发什么/导什么/探什么”是否物理可行）
2. 材料形态是什么？（溶液/薄膜/晶体/粉体/器件平台；决定工艺与评价方法）
3. 系统最怕的代价是什么？（损耗、噪声、速度不够、温漂、寿命、驱动功耗/电压、可逆性差等）
3. 四大任务：材料在系统里发挥的作用
四大任务 | 系统角色 | 典型模块/场景 | 选材时关注点 |
① 产生/发光（Emission & Conversion） | 让系统“有光可用”，并落在目标波段 | 发光薄膜、荧光/激光体系、（必要时）频率转换 | 波段匹配、效率、稳定性 |
② 传输/约束（Guiding） | 让光“按规定路线走”，并尽量少损耗 | 光纤、平面波导、集成波导、封装光路 | 折射率设计（能否导住）、传播损耗、温漂/工艺容差 |
③ 调制/开关（Modulation & Switching） | 让光“可控”：改相位/强度/偏振/路径 | 调制器、开关、可调滤波、智能窗/变色指示 | 可控幅度（效率）、速度/带宽、代价（插损/驱动/寿命） |
④ 探测/读出（Detection & Readout） | 把光变成“可测信号”（电信号/图像/读数） | 光电探测、成像、传感 | 灵敏度（响应度/量子效率）、噪声/暗信号、速度/线性范围 |
4. 四大任务 → 关键效应/指标
任务 | 关键物理效应 | 常用的 3 类指标 |
产生/发光 | 吸收—发射、能量转移、辐射/非辐射竞争 | 吸收/发射谱与目标波段匹配；量子效率/发光强度；光/热/化学稳定性 |
传输/约束 | 折射率对比与模式约束、材料吸收/散射 | n/k（折射率/消光系数）；传播损耗（dB/cm 等）；温漂 dn/dT、表面粗糙/工艺窗口 |
调制/开关 | 电光效应（Pockels/Kerr）、载流子效应、吸收变化；或可逆变色/相变 | Δn 或 Δα（能调多大）；速度/带宽；插损/驱动电压/能耗与循环寿命 |
探测/读出 | 光生载流子→电信号（PN/雪崩/有机等） | 响应度（A/W）与量子效率；暗电流/噪声；响应速度与线性范围 |
注：响应度（responsivity）是光探测器“输出光电流/入射光功率”的比值，是最常用的灵敏度表征之一。
5. 代表材料与应用
说明：下面 A–H 是“以机制为主”的索引，不是互斥分类；同一种材料可因不同效应跨线出现（例如 LiNbO₃ 既可用于频率转换/非线性，也可用于电光调制）。
材料主线 | 代表材料 | 这类材料在系统里“负责什么” | 典型应用场景 |
A 发光/染料（可见–NIR） | 罗丹明、香豆素、氰染料（Cy5/Cy7）、BODIPY、Perylene/PDI、DPP、卟啉/酞菁 | 提供可控吸收/发射谱线（“让系统有光/有颜色/有信号”） | 标记与探针、显示与光谱探测、激光染料、能量转移体系 |
B 无机发光与发光粉体 | 稀土发光（Eu³⁺/Tb³⁺/Ce³⁺）、YAG:Ce、量子点（CdSe、InP 等）、上转换 NaYF₄:Yb/Er | 高稳定发光、窄谱线或可调色（“让光更稳、更耐用”） | 白光 LED 荧光粉、显示/背光、长寿命标记、上转换成像 |
C 非线性光学（NLO）与频率转换 | LiNbO₃（含 PPLN）、KTP、BBO、LBO、有机发色团（如 DR1 类作概念代表） | 改变光的频率/相位（“把光变频、变性质”） | 倍频/差频、OPO、超快光学、非线性器件平台 |
D 波导与折射率（RI）材料 | PMMA、SU-8、PI、PDMS、氟聚合物（如 CYTOP）、高 n 树脂（芳香/含硫/卤化体系） | 让光导得住、损耗低（“让光走得稳”） | 平面/集成波导、光学封装/耦合、微流控光学、柔性光路（CYTOP 常作低 n 包层/匹配材料） |
E 电光/可调与变色材料 | 液晶；电光晶体（LiNbO₃ 的 Pockels 效应）；电光聚合物（EO polymer）；偶氮苯、二芳基乙烯、螺吡喃；相变材料（GST） | 外场驱动改变折射率/吸收（“让光可控”） | 调制器、可调滤波、智能窗/光开关、防伪与可逆显示（电光调制通常基于 Pockels 效应） |
F 探测/成像（光电转换） | Si、Ge、InGaAs、钙钛矿（新兴代表）、有机光电二极管（OPD 概念） | 把光变成电信号（“让光被读出”） | 光电探测、NIR 探测、成像传感、低成本大面积探测（光照→PN 结产生电流/电压是最典型路线） |
G 基底/窗口/光学玻璃与晶体（你系统里的“地基”） | 熔融石英/石英玻璃（fused silica）、BK7（常见可见-近红外光学玻璃）、蓝宝石、CaF₂/MgF₂（UV/低色散场景常见） | 提供透过/成像/机械与热稳定基础；很多系统的“背景荧光、温漂、吸收/散射”来自它 | 透镜/棱镜/窗口片/样品池/基底（BK7 常用于可见-近红外透射光学；fused silica 常用于 UV–可见高稳定场景） |
H 光学薄膜/镀膜/滤光（把“可用光”从系统里省出来） | 增透 AR、反射 HR、分光/二向色、带通/截止滤光、ND、中性与偏振相关薄膜 | 管理界面反射与杂散光，提升通光量/对比度；也可作为“光路功能件” | 任何包含多表面的系统（AR 镀膜用于提高透过、降低反射与鬼影；多层薄膜实现带通/截止等光谱功能） |
6. 最小证据链：每条主线优先做的验证
1. 发光/染料（A/B）：先测吸收/发射谱（是否覆盖目标波段）→ 再看光稳定/热稳定（是否跑得久）。
2. 波导/RI（D）：先看 n/k（能否导住、是否本征吸收大）→ 再做小样传播损耗或端面耦合对比。
3. 调制/可调（E）：先确认你依赖的效应是哪一种（Pockels/吸收变化/变色/相变）→ 再测 Δn/Δα 与速度/循环稳定。
4. 探测/读出（F）：先确认材料/器件对目标波段是否有响应（带隙/光谱响应）→ 再测响应度与暗电流/噪声的组合是否够用。
5. 基底/窗口（G）：先确认透过窗口与背景（吸收、杂散、（可能的）自发荧光）→ 再看热稳定/应力双折射/加工与成本。
6. 薄膜/滤光（H）：先确认工作波段 + 入射角（AOI）+ 偏振条件 → 再看耐久性/激光损伤阈值/环境稳定（你的系统是否会漂）。
7. 术语备注
1. n/k（折射率/消光系数）：n 决定折射与导光条件，k 代表吸收损耗的来源之一。
2. 传播损耗：光在波导里“每走一段衰减多少”。
3. 插损：器件加进去后额外损失多少光。
4. 响应度（A/W）：探测器输出光电流 / 入射光功率。
5. 暗电流/暗信号：在无光条件下仍存在的输出，是噪声与灵敏度下限的重要来源。
6. Pockels 效应：电场使折射率发生与电场强度成正比的变化，是许多高速电光调制器的基础。
7. AR 镀膜：通过薄膜降低界面反射、提高系统通光量并减少反射引起的鬼影/反馈。
8. 产品导航表｜光学与光电子材料：按科研任务快速定位表1–表4
科研情况/实验需求 | 建议优先看哪张表 | 为什么先看它 | 表内代表产品 |
做光学镀膜/干涉滤光片/高反镜/增透膜（关心折射率、吸收、散射、膜层稳定） | 表1｜无机光学材料与晶体/半导体 | 镀膜与光学损耗往往首先由无机氧化物/氟化物决定；优先从高折射率层、低折射率层与基底材料入手，才能建立可靠的光学常数与工艺窗口 | Ta₂O₅、HfO₂、TiO₂、Nb₂O₅；MgF₂（低 n 层）、CaF₂（窗口/低色散） |
做红外窗口/红外光谱透过材料与元件（IR 透过、吸收带、杂质背景） | 表1 | IR 元件核心在材料本征透过与杂质/缺陷吸收；先锁定窗口/基底材料，再谈镀膜与封装 | Ge、ZnSe、PbS（NIR/IR 对照）、CaF₂、MgF₂ |
做电光/非线性/频率转换（EO 调制、倍频、参量过程、波导）或晶体生长相关 | 表1 | 这类任务材料选择高度依赖电光/非线性晶体与其高纯配盐/生长体系；先选对晶体体系与纯度等级 | LiNbO₃、LiTaO₃；KDP（磷酸二氢钾）、ADP（磷酸二氢铵） |
做集成光子/通信光电器件材料（外延、探测、激光、光电转换） | 表1 | 器件性能首先受III–V/II–VI 半导体基底与材料缺陷限制；先从基底/材料体系与纯度入手，再配界面层与封装 | GaAs、InP、CdTe、CdSe（量子点/发光相关） |
做透明基材/光学结构件/导光件/微流控光学芯片（看透明度、加工、耐久） | 表2｜光学聚合物/薄膜与系统配套 | 这类任务关键是材料成型与光学透明/耐久；先选“基材”，再考虑表面处理与光学耦合 | PMMA、PC、PS |
做漫反射/扩散层/积分球反射对照/散射介质（看反射率、散射稳定性） | 表2（先）+ 表1（补） | 漫反射/扩散通常用聚合物散射体系先做“反射/散射基准”，需要结构色/胶体散射再补充无机颗粒体系 | PTFE 微粉（反射/扩散基准）；介孔 SiO₂（胶体/散射/结构色） |
做薄膜功能膜/耐化学膜/压电或传感相关薄膜（需要成膜、稳定、功能耦合） | 表2 | 成膜与长期稳定性往往由聚合物膜材料决定；先从膜基体选型，再考虑填料/电极/界面层 | PVDF（功能膜/对照）；必要时配 PEDOT:PSS（界面/电极） |
做 OLED/有机发光薄膜与器件（真空蒸镀/掺杂、能量传递、寿命） | 表3｜有机/分子光电与光调制材料（OLED/OPV/液晶） | OLED 的关键是发光体/传输体/界面匹配；先从经典基准材料建体系，再细调纯度与掺杂比例 | Ir(ppy)₃（铱配合物）、Alq₃、酞菁铜、苝；（界面层可再看表2：PEDOT:PSS） |
做有机光伏/光电探测（OPV）或“供体-受体”模型体系（看吸收、电荷分离、形貌） | 表3（先）+ 表2（补） | 先锁定供体/受体基准体系，建立可重复的光谱与器件基线；再补界面层/封装材料 | P3HT（供体）、PCBM（受体）、PTCDA（模型半导体/界面）；PEDOT:PSS（表2，界面层） |
做液晶取向、电光响应测试、显示/调制原理验证（看双折射、介电各向异性、取向层） | 表3 | 先用“基准液晶/模型分子”建立电光响应与取向工艺，再扩展到配方体系 | 5CB；N-(4-甲氧基亚苄基)-4-丁基苯胺（取向/相行为模型） |
做荧光显微/光谱测量体系搭建与标定（激发/发射匹配、校准、背景控制） | 表4｜荧光染料/探针/光响应分子与光固化引发剂 | 先用经典染料建立光谱通道、滤光片与仪器响应基线，再进入复杂材料体系 | 荧光素、罗丹明6G、罗丹明B、香豆素6、FITC、尼罗红 |
做近红外（NIR）吸收/发光验证、探测器响应与光热/光声对照 | 表4（先）+ 表1（补） | NIR 任务先用“标准 NIR 染料”快速验证光路与探测响应；涉及 IR 窗口/基底再回表1 | ICG（表4）；Ge/ZnSe（表1，窗口/基底） |
做光响应/光开关/光致变色材料（可逆性、疲劳、光谱变化） | 表4 | 这类任务最需要“明确的光化学模型分子”作为机制与稳定性对照 | 偶氮苯溶液、分散红1 |
做 UV 固化光学胶、透明涂层、微结构复制/封装（看固化深度、黄变、收缩） | 表4（先）+ 表2（补） | UV 固化体系优先从光引发剂类型与固化深度入手；需要树脂骨架/封装胶再补表2 | 1173/184 类（2-羟基-2-甲基苯丙酮、1-羟环己基苯酮等）、BAPO、TPO；BADGE（表2，环氧基体） |
搭建光路/样品耦合、折射率匹配、临时封装与减振（“先让系统跑起来”） | 表2 | 光学实验常见瓶颈是耦合与环境；先用通用材料快速降低界面反射与机械噪声 | 硅油（耦合/匹配）、活性氧化铝球（控湿） |
表1｜无机光学材料与晶体/半导体（窗口、薄膜、纳米、多晶体与配盐）
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 应用场景与用途（光学/光电） |
非线性光学晶体生长盐/高纯配盐 | 7778-77-0 | 磷酸二氢钾 | 无水级, 超纯级, ≥99.995% metals basis | KDP 体系关键原料盐之一，常用于KDP 类晶体生长/光学级原料（金属杂质低→有助于降低吸收与散射缺陷）；亦可用于高纯缓冲/离子环境构建的光谱对照。 | |
非线性光学晶体生长盐/高纯配盐 | 7722-76-1 | 磷酸二氢铵（ADP） | 无水级, ACS, ≥98% | ADP 体系相关原料盐，常用于晶体生长与光学材料前驱体体系；也可用于配制缓冲/离子强度环境，做光学测量体系稳定性对照。 | |
无机高折射率/光学薄膜氧化物 | 13463-67-7 | 二氧化钛（IV） | 优级品, ≥99% | 高折射率氧化物代表：用于高折射率薄膜（增反/干涉滤光层）、散射/增白填料、光学反射与遮光层；亦常作光催化对照材料（若涉及光照稳定性/表面反应评估）。 | |
光学薄膜高折射率氧化物（镀膜/干涉层） | 1314-61-0 | 氧化钽(V) | PureSpectra™, 光谱纯 | Ta₂O₅ 典型高折射率、低吸收薄膜材料，用于增透/高反/干涉滤光片、波导层等；光谱纯更适合对散射/吸收损耗敏感的光学镀膜研究。 | |
无机高折射率/光学薄膜氧化物 | 12055-23-1 | 氧化铪(IV) | 颗粒，直径x厚度13mm×5mm | HfO₂ 常用作高折射率、低吸收的光学镀膜材料（增反/高反镜/耐激光薄膜等的高折射率层）；该形态也便于用于蒸镀/溅射前驱体或工艺对照。 | |
无机高折射率/光学薄膜氧化物 | 1313-96-8 | 独石氧化铌 | 电子级, ≥99.98% metals basis | Nb₂O₅（独石相/单斜相关相）常用于高折射率光学薄膜（干涉滤光/波导层）、电致变色与介电功能薄膜；电子级低金属杂质更适合做低损耗光学与器件界面研究。 | |
透明导电/功能氧化物（TCO/电子-光学） | 18282-10-5 | 氧化锡(IV) | 基础级试剂, 用于制备 | SnO₂ 是常见透明导电/功能氧化物体系：用于透明电极相关薄膜研究（TCO）、光电器件电子传输层/界面层、气敏与光学-电学耦合材料的制备与对照。 | |
纳米/多孔结构光子材料（载体/结构色） | 7631-86-9 | 二氧化硅 | 纳米颗粒, 介孔, Outer diameter 450-550nm,aperture 2-4nm | 介孔大尺寸 SiO₂ 颗粒常用于胶体组装（结构色/光子晶体）、散射介质、折射率调控与多孔载体（装载染料/发光体）；孔径适合做分子吸附与光谱响应材料。 | |
半导体纳米材料（纳米光子学/光散射） | 7440-21-3 | 硅 | 纳米粉末＜100纳米(BET)＜3%氧钝化 | Si 纳米材料用于纳米光子学（Mie 共振/散射）、硅纳米晶光致发光、光热与光电探测等；氧钝化有助于提高储存稳定性并降低表面反应带来的光学漂移。 | |
半导体基底与红外光学材料（Ge） | 7440-56-4 | 锗 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis, sheet,thickness 2.0 mm,size 10 × 24 mm | Ge 为重要红外材料与半导体基底：用于红外透过/反射元件研究、红外探测器相关材料/电学-光学表征、器件基片与封装窗口对照；超高纯降低自由载流子/杂质吸收。 | |
III–V 半导体（光电/激光/探测基底） | 1303-00-0 | 砷化镓 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis, pieces | GaAs 经典 III–V：用于激光/探测/高速光电器件材料研究、外延/器件工艺对照；高纯度有助于降低缺陷相关吸收与非辐射复合。 | |
III–V 半导体（光子学/高速光电） | 22398-80-7 | 磷化铟 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | InP 为长波通信与高速光电核心基底：用于光通信器件材料/外延工艺、光电探测与集成光子学基底对照；高纯降低缺陷与光吸收损耗。 | |
无机半导体/量子点与发光材料 | 1306-24-7 | 硒化镉 | 团块,最大团块尺寸15毫米,重量50克 | 典型 II–VI 半导体：用于CdSe 纳米晶/量子点制备与光致发光研究（发射可调）、光电探测与发光器件材料探索；团块形态便于作为合成/蒸发原料来源。 | |
II–VI 半导体（红外探测/光电转换） | 1306-25-8 | 碲化镉 | PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis | CdTe 常用于X/γ 探测、光伏/光电探测、红外相关光电材料对照；超高纯更利于降低陷阱态与暗电流相关问题。 | |
无机半导体/窗口与发光基质材料 | 1314-98-3 | 硫化锌 | 升华级, granular,1-4 mm | ZnS 是常见 II–VI 材料：用于红外/可见相关光学材料研究、发光/磷光体系基质或对照；升华级更适合对纯度与光学损耗敏感的实验（如蒸镀/发光对照）。 | |
无机半导体/红外光学材料 | 1315-09-9 | 硒化锌 | 粉末,45最大粒径 (μm),重量 20g | ZnSe 是重要的红外光学材料体系：用于红外窗口/光学元件材料研究、红外透过与吸收特性对照；粉末形态也常用于陶瓷/薄膜制备探索或材料筛选。 | |
无机半导体/红外探测材料 | 1314-87-0 | 硫化铅 | 方铅矿(Galena),天然,0.06-0.19inch | PbS 为窄带隙材料体系：可用于近红外吸收/光导等材料响应对照；天然矿物样品更适合做光谱与结构表征参考。 | |
光学窗口晶体/低色散材料（氟化物） | 7789-75-5 | 氟化钙 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | CaF₂ 典型光学窗口材料：用于UV–可见–近红外窗口/透镜、低色散光学元件、光谱系统标定与透过率对照；高纯降低杂质吸收与荧光背景。 | |
光学窗口/增透镀膜材料（氟化物） | 7783-40-6 | 氟化镁 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | MgF₂ 经典增透镀膜/低折射率层材料，也可作 UV 窗口相关对照；高纯有利于获得低吸收、低散射薄膜与稳定光学常数。 | |
电光/非线性晶体（EO/NLO/波导） | 12031-63-9 | 铌酸锂 | PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis | LiNbO₃ 是电光与非线性光学“王牌”：用于电光调制、倍频/参量过程、集成波导与声光器件等；高纯更利于降低光损耗与漂移。 | |
电光/非线性晶体（EO/NLO/波导） | 12031-66-2 | 钽酸锂 | ≥99.998% metals basis | LiTaO₃ 常用于声光/电光器件、非线性频率转换与波导研究；超高纯更利于降低吸收与缺陷引发的光学损耗。 |
表2｜光学聚合物/薄膜与系统配套（透明基材、功能膜、导电聚合物、封装与耦合）
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 应用场景与用途（光学/光电） |
光学液体与折射率匹配/耦合 | 63148-62-9 | 硅油 | 粘度5 cSt(25°C) | 低黏度透明介质，常用于折射率匹配/光学耦合（临时浸没、接触耦合）、减振阻尼、光学器件与样品的润湿与隔离；在光路搭建与微流控光学实验中也常见。 | |
光学环境与系统配套（干燥/净化） | 1344-28-1 | 活性氧化铝球 | 用作吸附剂，通用型 | 常用干燥/除水与净化材料：用于手套箱、气路、样品与器件封装环境的控湿，减少水汽对光学薄膜、荧光材料、易水解前驱体/晶体的影响。 | |
光学聚合物基材（透明/加工成型） | 9011-14-7 | 聚（甲基丙烯酸甲酯）（PMMA） | 通用型射出级 | 透明光学塑料代表：用于透镜/导光件/光学窗口、微流控芯片、波导与涂层基材；射出级适合做尺寸稳定的结构件与光路封装件。 | |
光学聚合物基材/模型材料 | 9003-53-6 | 聚苯乙烯(PS) | 通用型III,高强度、押出用、食品用 | 透明度与加工性好，常作为光学透明基材、薄膜/器件封装与光谱对照材料；在胶体/微球体系中也常见（用于结构色/光子晶体相关研究的聚合物体系对照）。 | |
光学聚合物薄膜/压电与功能膜材料 | 24937-79-9 | 聚偏二氟乙烯 (PVDF) | 熔体粘度(K Poise)： 23.5~29.5，粉末 | 兼具成膜性与功能性的聚合物：常用于功能薄膜/复合膜基体、压电/传感相关薄膜对照、器件封装与耐化学薄膜；粉末便于溶液法成膜或复合改性。 | |
光学漫反射/扩散与低折射率材料 | 9002-84-0 | 聚四氟乙烯微粉树脂 | 平均粒径：~610μm，表观密度：~490g/L | PTFE 低折射率、强散射体系常用于漫反射/扩散层、积分球内衬/反射对照、光学散射与反射率评估；微粉便于压制/涂覆形成高反射或扩散结构。 | |
光学聚合物基材（抗UV/结构件） | 25037-45-0 | 聚碳酸酯 | 抗紫外线级，melt index：5 g/10 min (300°C/1.2kg) | 透明、耐冲击且可改性：用于光学防护罩、透镜/扩散片、光学器件结构件；抗 UV 等级更适合做光照环境下的长期稳定性对照与外壳材料。 | |
导电聚合物/透明电极与界面层 | 155090-83-8 | 聚(3,4-亚乙二氧基噻吩)-聚(苯乙烯磺酸)（PEDOT:PSS） | PEDOT:PSS=1：6, 1.5% in water | 常用透明导电/空穴注入与界面层材料：用于OLED/OPV/钙钛矿器件界面、柔性透明电极/抗静电涂层；水分散便于旋涂/刮涂成膜与工艺窗口探索。 | |
光学胶/封装与UV固化树脂前体 | 1675-54-3 | 双酚A二缩水甘油醚（BADGE） | Moligand™, ≥85% | 典型环氧单体：用于光学封装胶、透明结构胶、光学器件/传感器灌封与粘接；也常作为UV/热固化体系的基础树脂骨架（配合引发剂/固化剂）。 |
表3｜有机/分子光电与光调制材料（OLED/OPV/有机半导体/卟啉/液晶）
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 应用场景与用途（光学/光电） |
有机光电材料（吸收/电荷传输） | 147-14-8 | 酞菁铜(II) | 升华级, ≥99.95% metals basis, triple-sublimed | 典型强吸收有机染料/有机半导体：常用于薄膜吸收层、光电探测/有机光伏、OLED 电荷传输/界面层对照；三次升华高纯更适合真空蒸镀与器件级薄膜研究。 | |
有机发光/有机半导体（芳烃发光体） | 198-55-0 | 苝 | 升华级, ≥99.5% | 典型多环芳烃发光与有机半导体分子，用于发光层模型体系、光谱/荧光对照、结晶/聚集态发光行为研究；升华级更适合薄膜光学与器件相关对照。 | |
OLED 磷光发光体/光电器件材料 | 94928-86-6 | 三[2-苯基吡啶-C2,N]铱(III) | 升华级 | 经典绿色磷光发光体（Ir(ppy)3 类型），用于OLED 发光层/掺杂体系、能量传递与激子动力学研究；升华级适配真空蒸镀与高纯薄膜光学表征。 | |
OLED有机小分子（发光/电子传输） | 2085-33-8 | 8-羟基喹啉铝 | ≥99.995% metals basis | Alq₃ 经典 OLED 材料：常作电子传输层/发光层基准材料，用于薄膜光致发光、器件寿命与能级匹配等对照；高纯有助于降低淬灭与陷阱。 | |
共轭聚合物半导体（OPV/探测/传输） | 104934-50-1 | 聚(3-己基噻吩-2,5-二基)(立构规整) | 平均Mw25000-50000 | P3HT 是有机半导体标杆材料之一：用于有机光伏(OPV)、光电探测、薄膜晶体管与电荷传输研究；立构规整→更易形成有序堆积，适合作为形貌-性能关联的模型体系。 | |
有机光伏受体/电子受体（富勒烯） | 160848-22-6 | [6,6]-苯基 C 61 丁酸甲酯 | ≥99.5% | PCBM 为 OPV 经典受体：用于光致电荷分离、电子传输、薄膜形貌-性能关联研究；常与 P3HT 等形成模型体系。 | |
有机半导体/有机颜料（强吸收、薄膜模型） | 128-69-8 | 苝-3,4,9,10-四羧酸二酐（PTCDA） | ≥98% | 经典有机半导体/颜料：用于有机薄膜光学吸收、光电器件界面与传输模型、真空蒸镀薄膜对照；常用于研究分子堆积与光谱/电学的关联。 | |
卟啉/光敏染料（光谱与光敏化） | 917-23-7 | 间-四苯基卟吩 | ≥99%, Chlorin free | 自由卟啉骨架强吸收，用于光敏化/能量转移/自组装与薄膜光学研究；Chlorin free 有利于避免杂质带来的额外吸收峰与光化学干扰。 | |
卟啉/光敏染料（光吸收/光动力/光谱对照） | 14074-80-7 | 5,10,15,20-四苯基-21H,23H-卟吩锌 | 低氯 | Zn-卟啉强吸收（Soret/Q 带）代表，用于光敏化/光诱导电子转移、光谱学对照、光学非线性/能量传递模型体系；低氯更利于减少杂质导致的吸收背景与猝灭。 | |
液晶材料（向列相基准） | 40817-08-1 | 4-氰基-4'-戊基联苯（5CB） | ≥98% | 向列相液晶“基准材料”：用于液晶显示/调制原理验证、取向层与电光响应测试、介电/双折射参数对照；也是液晶配方研究的常用参考。 | |
液晶/光响应有机分子（取向/介电对照） | 26227-73-6 | N-(4-甲氧基亚苄基)-4-丁基苯胺 | ≥97% | 典型芳香席夫碱类结构，常用于液晶/取向与介电各向异性相关研究的模型化合物或配方对照；也可用于研究分子各向异性对光学双折射/相行为的影响。 |
表4｜荧光染料/探针/光响应分子与光固化引发剂（光谱标定、成像、光开关、UV固化）
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 应用场景与用途（光学/光电） |
荧光染料与光谱校准 | 2321-07-5 | 荧光素 | 指示剂 | 经典高亮度荧光染料（绿光区），常用于荧光/吸收光谱仪校准、荧光成像与示踪、光学传感验证；也可作为“基准发光分子”做体系对照（溶剂、pH、猝灭/增强）。 | |
荧光染料与激光染料 | 989-38-8 | 罗丹明6G | 生物染色剂 | 高量子产率染料，经典荧光强度/波长响应对照；在光学领域常用于荧光标定、光致发光体系验证，也常被用作染料激光/增益介质研究的代表分子。 | |
荧光染料与光谱校准 | 81-88-9 | 罗丹明B | 高级纯, ≥95%(HPLC) | 常用红光区荧光染料：用于荧光强度/波长校准、光致发光体系对照、吸收-发射与能量转移实验；HPLC 级纯度有利于降低杂质引起的背景吸收与猝灭。 | |
近红外染料（NIR成像/吸收对照） | 3599-32-4 | 吲哚菁绿（ICG） | Moligand™, ≥75% | 典型 NIR 吸收/发射染料：用于近红外吸收与荧光实验、光热/光声对照、光谱系统与探测器响应验证（科研表征用途）。 | |
荧光标记染料（FITC/绿色通道） | 3326-32-7 | 5-异硫氰酸荧光素 (异构体I)[5-FITC(isomer I)] | Ex:498nm, Em:517nm, ≥95%(HPLC) | 经典绿色荧光标记：用于荧光标定、标记化学（-NCS 与胺反应）、荧光显微/流式/光谱学对照；给出 Ex/Em 便于做滤光片与光路匹配。 | |
荧光探针（疏水环境/红光通道） | 7385-67-3 | 尼罗红 | BioReagent, 适用于荧光分析, ≥95%(HPLC) | 疏水环境敏感染料：用于膜/聚合物微环境、脂滴/疏水域荧光探测；在材料领域常作微相分离、孔道/载体疏水性的荧光指示与对照。 | |
荧光染料/激光染料（绿色强荧光） | 38215-36-0 | 香豆素6 | ≥98%(HPLC) | 高亮度绿色荧光染料：用于荧光标定、染料激光/增益介质研究、OLED/聚合物薄膜荧光掺杂对照；HPLC 级有助于降低杂质猝灭。 | |
BODIPY 荧光染料（高亮度、窄带发射） | 154793-49-4 | 4,4-二氟-1,3-二甲基-4-硼-3a,4a-二氮杂对称引达省 | ≥97% | BODIPY 核心染料：以高荧光量子产率、窄带发射、光稳定著称，常用于荧光探针、能量转移(FRET)模型、薄膜/纳米载体发光对照。 | |
光响应分子/光化学模型与标准品 | 103-33-3 | 偶氮苯 溶液 | 分析标准品, 2000 μg/mL in methanol | 经典光致顺反异构模型分子：用于UV-Vis 光谱标定、光开关/光致变色机理验证、光响应材料（掺杂聚合物/薄膜）的对照实验；标准溶液便于做定量与一致性比较。 | |
光响应分子/吸收染料标准品 | 2872-52-8 | 分散红1 | 分析标准品 | 常见强吸收偶氮染料：用于吸收/透过率定量、光响应掺杂体系对照、光致取向/非线性光学掺杂模型等；作为标准品适合做光谱强度与配方浓度的准确标定。 | |
光固化引发剂（UV固化/光刻） | 24650-42-8 | 2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮 | ≥99% | 常用 I 型光引发剂：用于UV 固化胶、光学封装、透明涂层与微结构复制；适合做固化速率/透过率窗口与黄变风险对照。 | |
光固化引发剂（温和/水相兼容体系常用） | 106797-53-9 | 2-羟基-4’-(2-羟乙氧基)-2-甲基苯丙酮 | ≥98%(HPLC) | 常用于UV 固化与光交联体系（对配方/溶剂兼容性更友好），适合做透明水凝胶/涂层等光固化研究与对照。 | |
光固化引发剂（UV固化/涂层常用） | 947-19-3 | 1-羟环己基苯酮 | ≥98% | 常用 I 型光引发剂：用于UV 固化涂层、光学胶、油墨与微结构固化；适合做固化深度、表干/内固、收缩与光学透过率影响评估。 | |
光固化引发剂（UV固化通用） | 7473-98-5 | 2-羟基-2-甲基苯丙酮 | ≥97% | 常用 I 型光引发剂：用于UV 固化树脂、光学胶/涂层；适合做不同光强/厚度下的固化速率、黄变与残余单体影响的快速筛选。 | |
光固化引发剂（深固化/LED适配常用） | 75980-60-8 | 二苯基（2，4，6-三甲基苯甲酰基）氧化膦 | ≥97% | 高效磷氧化物类引发剂：常用于厚膜/深度固化、LED 光源固化、低黄变光学胶与涂层；适合作为深固化能力与透过率窗口的对照。 | |
光固化引发剂（深固化/高反应活性） | 162881-26-7 | 苯基双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)氧化膦（BAPO） | ≥97% | 多官能引发、固化效率高：用于厚膜/高遮光体系的深固化、快速固化光学封装/3D 光固化配方；常用于提升固化速度与降低残留引发剂风险的配方优化。 |
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