阿伏苯宗的UVA吸收机制:酮—烯醇互变、光化学失稳与配方光稳定化策略
阿伏苯宗的UVA吸收机制:酮—烯醇互变、光化学失稳与配方光稳定化策略
1 阿伏苯宗的基本性质与防护波段
1.1 基本化学信息
阿伏苯宗的国际化妆品原料名称为 Butyl Methoxydibenzoylmethane,中文名称为丁基甲氧基二苯甲酰基甲烷,属于二苯甲酰甲烷衍生物和β-二酮类化合物。[1]
项目 | 内容 |
常用名称 | 阿伏苯宗,Avobenzone |
INCI名称 | Butyl Methoxydibenzoylmethane |
CAS号 | 70356-09-1 |
分子式 | C₂₀H₂₂O₃ |
相对分子质量 | 310.39 |
外观 | 白色至淡黄色结晶性粉末 |
溶解性 | 几乎不溶于水,可溶于多种化妆品油脂和有机溶剂 |
主要防护波段 | 紫外线A波段 |
最大吸收波长 | 通常约为357 nm,随溶剂和配方环境变化 |

阿伏苯宗的二酮式骨架可简化表示为:
Ar¹—CO—CH₂—CO—Ar²
其中:
①Ar¹代表带叔丁基取代的芳环;
②Ar²代表带甲氧基取代的芳环。
两个芳环和中间的β-二羰基结构共同决定其电子分布、油溶性、互变异构及紫外吸收特性。
1.2 阿伏苯宗主要吸收哪一段紫外线
到达地表并与防晒评价密切相关的紫外线通常分为:
① 紫外线B(Ultraviolet B,UVB):约290—320 nm;
② 紫外线A2(Ultraviolet A2,UVA2):约320—340 nm;
③ 紫外线A1(Ultraviolet A1,UVA1):约340—400 nm。
阿伏苯宗的吸收带覆盖UVA2并延伸至UVA1,最大吸收通常位于约357 nm,因此它在防晒配方中的主要作用,是补充340 nm以上的长波UVA吸收。[2]
阿伏苯宗在接近400 nm区域的吸收会逐渐降低,它也不能单独提供完整的UVB防护,通常需要与UVB过滤剂及其他UVA过滤剂组合使用。
2 阿伏苯宗吸收UVA的分子基础

2.1 酮—烯醇互变异构
阿伏苯宗具有β-二酮结构,在二酮式和烯醇式之间存在互变异构:
二酮式:
Ar¹—CO—CH₂—CO—Ar²
烯醇式:
Ar¹—CO—CH=C(OH)—Ar²
互变过程中不仅发生氢原子位置变化,还伴随羰基和碳碳双键位置的重新排列。
在许多有机溶剂和防晒油相中,基态阿伏苯宗主要以螯合烯醇式存在。烯醇羟基可以与相邻羰基氧形成分子内氢键:
Ar¹—CO···H—O—C=CH—Ar²
这一分子内氢键形成近似六元环的螯合结构,有助于维持分子中间骨架的平面性,并稳定烯醇式。[2][3]
2.2 螯合烯醇式为什么能够吸收长波UVA
光子的能量与波长之间满足以下关系:
E = hc/λ
其中:
· E为光子能量;
· h为普朗克常数;
· c为光速;
· λ为光波长。
波长越长,单个光子的能量越低。一个分子若要吸收长波UVA,其电子基态与激发态之间需要具有与这类低能量光子相匹配的能级差。
在螯合烯醇式中,芳环、碳碳双键和羰基之间形成较连续的π电子共轭体系。π电子可以在较大范围内离域,使相关电子轨道之间的能量差减小,因而能够吸收波长较长的UVA光子。
甲氧基的给电子作用、两个芳环的取代结构以及分子的平面程度,也会影响电子离域和吸收峰位置。溶剂极性、氢键作用和局部微环境发生变化时,阿伏苯宗的吸收峰和吸收强度也会随之改变。[2]
其吸光过程可简化为:
AB-E(S₀)+hν → AB-E*(S₁)
其中:
· AB-E代表烯醇式阿伏苯宗;
· S₀代表电子基态;
· S₁代表第一激发单重态;
· hν代表UVA光子的能量。
阿伏苯宗吸收UVA的本质,是入射光子的能量转移给分子的电子体系,使电子由基态进入激发态。
2.3 二酮式为什么缺少同等强度的UVA1吸收
二酮式的中间结构为:
Ar¹—CO—CH₂—CO—Ar²
两个羰基之间由近似饱和的亚甲基隔开,难以形成与螯合烯醇式相同程度的连续共轭。电子跃迁所需能量相应升高,吸收光谱向较短波长移动。
因此,二酮式并非完全不吸收紫外线,而是缺少螯合烯醇式所具有的强长波UVA吸收。当光照使螯合烯醇式比例下降,或者使分子形成非螯合、非平面的结构时,UVA1区域的吸光度会降低。
3 阿伏苯宗吸收光子后的能量变化
3.1 理想的光物理失活过程
阿伏苯宗吸收UVA后进入激发态。激发态具有较高能量,需要通过能量释放过程返回基态。
为便于说明,较理想的非辐射失活过程可简化表示为:
AB-E(S₀)+hν → AB-E*(S₁)
AB-E*(S₁)→ AB-E(S₀)+热
在这一过程中,激发态分子通过振动弛豫和内转换等非辐射过程,将能量传递给周围介质。分子返回原有基态结构后,可以继续吸收后续UVA光子。
这种“吸光—失活—复原”的循环,是有机紫外线过滤剂持续工作的基础。
3.2 激发态的三类主要去向
激发态去向 | 分子结果 | 对UVA吸收的影响 |
非辐射失活 | 返回原有螯合烯醇基态 | 分子可继续吸收UVA |
结构转化 | 形成非螯合烯醇式、其他几何异构体或二酮式 | 长波UVA吸收下降,部分过程可在暗处恢复 |
光化学反应 | 发生氧化、自由基反应、重排或化学键断裂 | 原分子被消耗,吸收能力不可逆下降 |
这三类过程既可能相互竞争,也可能前后衔接。阿伏苯宗的光稳定性取决于激发能量有多少沿非破坏性失活路径释放,又有多少进入结构转化和化学降解路径。
3.3 系间窜越与三重激发态
部分激发单重态阿伏苯宗可以通过系间窜越(Intersystem Crossing,ISC)进入三重激发态:
AB*(S₁)→ AB*(T₁)
三重激发态通常具有较长寿命,使分子有更多机会与氧气、油脂、其他过滤剂或杂质发生碰撞。
三重态可能发生的过程包括:
① 返回基态;
② 向其他分子传递能量;
③ 与氧发生能量转移或电子转移;
④ 进入分子重排或化学键断裂路径。
三重态本身不等于阿伏苯宗已经降解,但其寿命和反应性会影响后续光化学反应的发生概率。[3]
4 光致结构转化与不可逆光降解
4.1 光致结构转化
光致结构转化是指分子吸收光后,在主体分子骨架仍可能保留的情况下,转变为不同的几何异构体、构象或互变异构体。
阿伏苯宗可能发生的结构变化包括:
① 螯合烯醇式转变为非螯合烯醇式;
② 烯醇结构中的双键几何构型改变;
③ 分子内氢键断开;
④ 芳环与中间共轭骨架发生扭转;
⑤ 酮—烯醇平衡发生移动。
这些变化会降低分子平面性、缩短有效共轭长度,或者改变电子轨道之间的能量差,从而使UVA1吸收减弱。
部分结构可在停止照射后重新转化为螯合烯醇式,表现为一定程度的暗恢复。暗恢复说明吸收下降不完全来自分子碎裂,其中一部分可能来自可逆的结构转化。
4.2 光解裂反应
光解裂反应是指阿伏苯宗吸收光后发生共价键断裂,形成不同于原分子的产物。
其过程可简化表示为:
阿伏苯宗+hν → 激发态阿伏苯宗 → 自由基或高反应性中间体 → 芳香羰基化合物及其他降解产物
阿伏苯宗的β-二羰基区域是光化学反应的重要部位。不同条件下可能发生羰基α位碳—碳键断裂、氧化、重排及后续自由基反应。
光致结构转化与光解裂反应的区别如下:
项目 | 光致结构转化 | 光解裂反应 |
主体骨架 | 通常仍保留 | 发生断裂或不可逆重排 |
分子式 | 通常不变 | 形成新的分子 |
暗恢复 | 部分结构可能恢复 | 通常不能恢复为原分子 |
防护衰减原因 | 有效吸收结构比例下降 | 有效阿伏苯宗含量下降 |
是否产生小分子产物 | 不一定 | 可能产生 |
4.3 光氧化与油相自由基链反应
阿伏苯宗吸收UVA后进入激发态。多数激发分子可通过内转换和振动弛豫返回基态;另一部分可能发生结构转化、系间窜越或光解。在特定溶剂、氧浓度和配方环境中,阿伏苯宗激发态及其初级光解中间体可能参与电子转移、氢转移或能量转移反应,形成自由基型中间体或活性氧物种。
AB+hν → AB*
AB* → R·或其他光反应中间体
其中,AB表示阿伏苯宗,AB*表示其激发态,R·表示由阿伏苯宗光化学或体系中其他光氧化过程形成的初级自由基。
当配方中含有易氧化脂质时,初级自由基可能从脂质分子中夺取氢原子,启动脂质过氧化链,以下反应式表示一种可能的继发脂质氧化路径:
LH+R· → L·+RH
L·+O₂ → LOO·
LOO·+LH → LOOH+L·
其中:
· LH代表可被氧化的脂质;
· L·代表脂质自由基;
· LOO·代表脂质过氧自由基;
· LOOH代表脂质过氧化物。
油脂的不饱和程度、原料初始过氧化值、氧扩散、痕量金属、抗氧化剂及防晒膜结构都会影响脂质过氧化的发展。包装透氧性主要影响产品储存期间的氧化稳定性;涂抹后则主要受防晒膜与空气接触及局部扩散条件影响。
5 光降解产物与皮肤光反应
5.1 不同实验条件下的降解产物
阿伏苯宗的降解产物与实验条件密切相关。光源波长、照射剂量、溶剂、氧浓度、水分、pH、金属离子和余氯均会改变反应路径。
在普通有机溶剂、含氧体系或含氯水与紫外线共同作用的研究中,曾检测到以下类型的产物:
① 取代芳香醛;
② 取代芳香酸;
③ 酚类化合物;
④ 苯乙酮类化合物;
⑤ 含氯芳香族衍生物。
其中,含氯产物主要与游泳池水或含氯水模型有关。此类实验反映的是紫外线、余氯和水环境共同作用下的反应,并不能直接代表防晒霜在正常皮肤表面形成的产物谱。[6]
防晒膜中的油相、成膜剂、抗氧化剂、皮脂、水分和氧扩散条件均与稀溶液或含氯水模型不同,因此需要依据完整成品的照射试验判断真实降解情况。
5.2 芳基乙二醛是否属于已确认的主要产物
芳基乙二醛类化合物属于α-二羰基化合物,具有一定亲电反应活性,在适当条件下可与蛋白质中的亲核基团发生反应。
从有机反应机理看,阿伏苯宗某些氧化或裂解路径存在形成活性羰基中间体的可能。然而,现有研究尚未将芳基乙二醛确定为阿伏苯宗在常规皮肤使用条件下普遍存在的主要光降解产物。
公开研究中较常报道的是芳香醛、芳香酸、酚类和苯乙酮类产物,且部分结果来自水溶液或含氯水体系。[6]
5.3 蛋白结合与光过敏
含醛基、α-二羰基或其他亲电基团的化合物,在化学反应条件适合时,可以与蛋白质中的赖氨酸、精氨酸或半胱氨酸残基形成加合物。
从一般化学致敏机制看,如果阿伏苯宗或其光产物参与光接触致敏,理论上可能经历以下过程:
光产物形成 → 进入角质层或活体表皮 → 与皮肤蛋白反应 → 形成免疫系统可识别的复合物 → 发生致敏 → 再次接触后出现免疫反应
阿伏苯宗本身及其他防晒剂可在少数个体中引起接触性或光接触性过敏。具体致敏来源还可能涉及香精、防腐剂、其他过滤剂及光降解产物。
6 配方如何提高阿伏苯宗的光稳定性
阿伏苯宗的稳定设计主要围绕四个目标:
① 维持阿伏苯宗在油相和防晒膜中的均匀溶解或分散,减少析晶;
② 缩短高反应性激发态的有效寿命;
③ 降低激发态与氧、金属离子及不相容成分接触的概率;
④ 终止已经形成的自由基链反应。
6.1 与奥克立林复配
奥克立林的国际化妆品原料名称为 Octocrylene,主要吸收UVB,并覆盖部分短波UVA。它与阿伏苯宗复配时,可能从三个方面改善体系表现。
① 补充光谱
奥克立林分担UVB和部分UVA2区域的吸收,阿伏苯宗主要负责UVA1。两者复配有利于形成较连续的紫外吸收曲线。
② 改善油相溶解状态
奥克立林为油状、亲脂性成分,可改善部分结晶型过滤剂在油相中的溶解状态,并可能降低阿伏苯宗在储存或涂膜后析晶的风险。
③ 影响激发态过程
部分配方研究显示,奥克立林可提高阿伏苯宗照射后的吸光度保持率。其作用可能与光谱分担、油相环境和分子间相互作用有关,但具体机制具有配方依赖性。
6.2 微胶囊与包合技术
用于阿伏苯宗的载体技术包括聚合物微胶囊、环糊精包合物、脂质载体和多孔无机载体。
这些技术可能通过以下方式发挥作用:
① 减少阿伏苯宗与氧气、金属离子和不相容成分的直接接触;
② 限制分子迁移和碰撞;
③ 调整局部极性和氢键环境;
④ 降低游离阿伏苯宗的比例;
⑤ 改善其在防晒膜中的分散均匀性。
环糊精具有外部亲水、内部空腔相对疏水的结构,可以与阿伏苯宗形成主—客体包合物。部分研究显示,羟丙基-β-环糊精能够降低阿伏苯宗的光诱导降解,并改变其经皮迁移行为。[5]
包裹并不是使阿伏苯宗与光完全隔离。载体仍需要允许UVA到达阿伏苯宗,同时使分子在吸光后能够有效释放能量。包封率、粒径、载体透光性、释放行为及其在防晒膜中的分布,都会影响实际效果。
6.3 维生素E与抗氧化体系
维生素E中的生育酚可向脂质过氧自由基提供氢原子:
LOO·+Toc-OH → LOOH+Toc-O·
其中:
· Toc-OH代表生育酚;
· Toc-O·代表生育酚自由基。
生育酚自由基的反应性低于脂质过氧自由基,因此这一过程有助于减缓油相中的自由基链反应。维生素E的主要作用是控制阿伏苯宗受光后可能引发的继发氧化。
抗氧化效果还受到以下因素影响:
① 生育酚的具体形式和浓度;
② 油脂原料的初始过氧化值;
③ 配方中的氧含量;
④ 其他抗氧化剂能否参与再生;
⑤ 痕量金属和光敏杂质水平。
部分抗氧化剂在研究中能够减缓阿伏苯宗的光降解,但效果具有配方依赖性。[4]
6.4 金属离子与无机颗粒控制
阿伏苯宗的β-二羰基结构在特定条件下可与铁、铝、镁、锌等金属离子发生配位,可能带来颜色变化、沉淀或光化学性质改变。
配方中可通过控制原料金属杂质、使用适当螯合剂和避免不相容金属盐,降低金属络合及金属催化氧化。
当阿伏苯宗与二氧化钛或氧化锌共同使用时,还需要关注无机颗粒的表面处理。光催化活性较高的未包覆颗粒可能促进活性氧形成,而合适的表面包覆有助于降低这种相互作用。
7 主要市场最高允许浓度
以下数值为成品中阿伏苯宗的最高允许浓度,不等同于推荐添加量。
市场 | 最高允许浓度 |
中国 | 5% |
欧盟 | 5% |
澳大利亚 | 5% |
美国 | 3% |
加拿大 | 3% |
法规限量表示成品允许使用的上限,并不直接决定UVA-PF。实际添加量还需要结合:
① 阿伏苯宗在油相中的溶解度;
② 与其他过滤剂的光谱配合;
③ 照射后的稳定性;
④ 成膜均匀性;
⑤ 目标防晒指数(Sun Protection Factor,SPF)和紫外线A防护指数(Ultraviolet A Protection Factor,UVA-PF);
⑥ 目标市场的现行法规。
8 阿伏苯宗紫外线吸收、光化学失稳与配方稳定相关化学品分类表
表1 紫外线吸收剂与光谱配伍材料
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 产品特色与应用 |
二苯甲酰甲烷类长波紫外线A1过滤剂 | 70356-09-1 | 1-(4-叔丁基苯基)-3-(4-甲氧基苯基)-1,3-丙二酮 | ≥98% | 阿伏苯宗对应化合物;用于螯合烯醇结构、酮—烯醇互变、长波紫外线A1吸收、激发态过程及光降解动力学研究 | |
氨基苯甲酰基苯甲酸酯类长波紫外线A1过滤剂 | 302776-68-7 | 2-[4-(二乙氨基)-2-羟基苯甲酰基]苯甲酸己酯(DHHB) | ≥98% | 用于光稳定型长波紫外线A1吸收对照、长波光谱补充及与阿伏苯宗复配后的照射保持研究 | |
羟苯基三嗪类广谱过滤剂 | 187393-00-6 | 双乙基己氧基苯酚甲氧基苯三嗪 | ≥98% | 覆盖紫外线A和紫外线B;用于广谱复配、吸收曲线平衡及阿伏苯宗照射后吸收保持研究 | |
颗粒型苯并三唑类广谱过滤剂 | 103597-45-1 | 2,2'-亚甲基双[6-(苯并三唑-2-基)-4-叔辛基苯酚] | ≥98% | 用于紫外线A和紫外线B协同覆盖、颗粒分散、防晒膜均匀性及阿伏苯宗复配光稳定研究 | |
苯并三唑硅氧烷类广谱过滤剂 | 155633-54-8 | 屈美他唑三硅氧烷 | ≥98% | 用于紫外线A和紫外线B复合吸收、硅油相相容性、防晒膜分布及照射稳定性研究 | |
氰基丙烯酸酯类紫外线B/紫外线A2过滤剂 | 6197-30-4 | 2-氰基-3,3-二苯基丙烯酸-2-乙基己酯 | ≥97% | 奥克立林对应化合物;用于紫外线B和短波紫外线A补充、阿伏苯宗助溶及部分配方的光稳定协同研究 | |
三嗪类紫外线B过滤剂 | 154702-15-5 | Iscotrizinol | ≥98% | 用于强化紫外线B并补充部分紫外线A2吸收,研究复配光谱连续性和光照后保持率 | |
三嗪类紫外线B过滤剂 | 88122-99-0 | 乙基己基三嗪酮(Ethylhexyl Triazone) | ≥98% | 用于增强紫外线B吸收、降低短波光谱缺口及构建阿伏苯宗广谱复配体系 | |
肉桂酸酯类紫外线B过滤剂 | 5466-77-3 | 4-甲氧基肉桂酸-2-乙基己酯(OMC) | Moligand™, ≥96%(GC) | 用于紫外线B吸收、过滤剂相互作用、光照稳定性及阿伏苯宗复配光谱研究 | |
环己基水杨酸酯类紫外线B过滤剂 | 118-56-9 | 3,3,5-三甲基环己基水杨酸酯 (顺反混合物) | ≥98% | 用于紫外线B吸收、油相相容性及阿伏苯宗复配体系的溶解与成膜研究 | |
支链烷基水杨酸酯类紫外线B过滤剂 | 118-60-5 | 水杨酸异辛酯 | ≥98% | 兼具紫外线B吸收和油相溶剂特征;用于阿伏苯宗助溶、铺展及复配防晒研究 | |
二苯甲酮类紫外线B/紫外线A2过滤剂 | 131-57-7 | 2-羟基-4-甲氧基二苯甲酮 | ≥99% | 用于紫外线B和紫外线A2吸收对照、过滤剂间光化学相互作用及复配稳定性研究 | |
苯并咪唑磺酸类水相紫外线B过滤剂 | 27503-81-7 | 2-苯基-5-苯并咪唑磺酸 | ≥95%(T) | 用于水相紫外线B吸收和油水两相过滤剂分配研究,降低油相中结晶型过滤剂的溶解负荷 | |
氧化锌类无机广谱屏蔽材料 | 1314-13-2 | 氧化锌 | 试剂级, 高级纯, ≥99.9% metals basis, powder,<5μm | 用于紫外线A和紫外线B屏蔽、颗粒分散、表面处理及与阿伏苯宗共存时的光化学相互作用研究 | |
二氧化钛类无机紫外线B/紫外线A2屏蔽材料 | 13463-67-7 | 二氧化钛(IV) | 优级品, ≥99% | 用于紫外线B和部分紫外线A屏蔽、有机—无机复配、颗粒表面光活性及包覆效果研究 |
表2 油相溶剂、包合载体与颗粒表面处理材料
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 产品特色与应用 |
矿物油类液体油相介质 | 8042-47-5 | 石蜡 | JP, BP, 欧洲药典(Ph.Eur), NF, highly liquid | 用于考察非极性油相对阿伏苯宗溶解、酮—烯醇平衡、氧扩散和光降解速率的影响 | |
脂肪酸酯类润肤助溶剂 | 110-27-0 | 豆蔻酸异丙酯 | PharmPure™, 欧洲药典(Ph.Eur), NF | 用于阿伏苯宗及其他油溶性过滤剂的溶解、铺展、成膜均匀性和析晶行为研究 | |
己二酸酯类油相溶剂 | 105-99-7 | 己二酸二正丁酯(DBA) | ≥99% | 用于结晶型过滤剂助溶、油相黏度调节、低温析晶及照射前后溶解状态研究 | |
癸二酸酯类油相溶剂 | 7491-02-3 | 癸二酸二异丙酯(DIPS) | ≥99% | 用于过滤剂溶解、分子扩散、配方铺展及防晒膜均匀性研究 | |
水杨酸酯类防晒助溶剂 | 190085-41-7 | 水杨酸丁基辛醇酯 | ≥95% | 用于阿伏苯宗和结晶型过滤剂的助溶、油相铺展、成膜及复配光谱研究 | |
天然环糊精包合载体 | 7585-39-9 | β-环糊精 | ≥98% | 用于阿伏苯宗主—客体包合、包合比例、溶解行为和光照稳定性研究 | |
羟丙基环糊精包合载体 | 128446-35-5 | 羟丙基-β-环糊精(HP-β-CD) | PharmPure™, USP | 用于阿伏苯宗包合、分散、光稳定、释放及经皮迁移模型研究 | |
磷脂类脂质载体材料 | 8002-43-5 | 磷脂 来自向日葵(非转基因) | 天然, with ≥60% phosphatidylcholine | 用于脂质体和脂质纳米载体制备,研究阿伏苯宗包载、局部微环境和释放行为 | |
壳聚糖类多糖载体材料 | 9012-76-4 | 壳聚糖 | 中粘度,200-400 mPa.s | 用于微粒、纳米载体和复合膜制备,研究阿伏苯宗包载、释放和界面接触控制 | |
纤维素醚类微胶囊壁材 | 9004-57-3 | 乙基纤维素(EC) | 90-110mPa.s | 用于微胶囊包衣和缓释颗粒制备,研究阿伏苯宗与氧及不相容成分的隔离 | |
丙烯酸聚合物载体与成膜材料 | 9011-14-7 | 聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA) | MW~35000 | 用于聚合物载体、阿伏苯宗固定化、光学散射和防晒膜分散研究 | |
介孔二氧化硅载体 | 7631-86-9 | 二氧化硅 | 纳米颗粒, 介孔, Outer diameter 450-550nm,aperture 2-4nm | 用于阿伏苯宗吸附、负载、空间限制、控制释放及光降解行为研究 | |
球形氧化铝填充材料 | 1344-28-1 | 球形氧化铝 | ≥99.7%, 用作填充剂,粒度5um | 用于粉体填充、光学散射、流变调节、颗粒分散和防晒膜结构研究 | |
脂肪酸类疏水表面处理剂 | 57-11-4 | 硬脂酸 | 适用于合成, Moligand™ | 用于二氧化钛、氧化锌和无机载体的疏水处理,改善油相分散与界面相容性 | |
烷基硅烷类表面处理剂 | 2943-75-1 | 三乙氧基(辛基)硅烷 | ≥97%,≥99.99% metals basis, deposition grade | 用于二氧化钛、氧化锌和二氧化硅的疏水改性,研究颗粒分散和表面光化学相互作用 |
表3 抗氧化剂、检测对照物与金属离子控制剂
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 产品特色与应用 |
受阻酚类链终止抗氧化剂 | 128-37-0 | 2,6-二叔丁基对甲酚(BHT) | 超纯级, ≥99.5%(GC) | 用于抑制油相自由基链反应和脂质过氧化,评价阿伏苯宗体系的光氧化稳定性 | |
生育酚类脂相链终止抗氧化剂 | 59-02-9 | D-α-生育酚 | Moligand™, ≥97%(GC) | 用于捕获脂质过氧自由基,研究阿伏苯宗照射体系中的油相氧化和吸收保持 | |
脂溶性抗坏血酸衍生物 | 137-66-6 | L-抗坏血酸棕榈酸酯 | PharmPure™, USP | 用于脂质相氧化控制及与生育酚组成复合抗氧化体系的协同研究 | |
酚酸类抗氧化研究物 | 1135-24-6 | 阿魏酸 | Moligand™, ≥99% | 用于自由基清除、复合抗氧化及紫外吸收光谱研究,不作为防晒过滤剂用途评价 | |
醌类脂溶性氧化还原研究物 | 303-98-0 | 辅酶Q10 | ≥98% | 用于脂质相氧化还原、自由基反应及阿伏苯宗配方光氧化研究 | |
生育酚酯类稳定性对照物 | 7695-91-2 | DL-α-生育酚乙酸酯 | PharmPure™, 欧洲药典(Ph.Eur) | 用于比较游离生育酚与酯化形式对油相储存、照射稳定性和配方相容性的影响 | |
水溶性维生素E类似物与抗氧化能力对照物 | 53188-07-1 | Trolox〔6-羟基-2,5,7,8-四甲基色满-2-羧酸〕 | ≥98%, white | 用于自由基清除能力定量、抗氧化体系比较及阿伏苯宗光氧化实验的参照评价 | |
稳定自由基检测试剂 | 1898-66-4 | 2,2-二苯基-1-苦基肼基(DPPH,含10–20%苯) | ≥97%(HPLC) | 用于生育酚、阿魏酸及复合抗氧化体系的自由基清除能力测定 | |
氨基多羧酸类金属螯合剂 | 139-33-3 | 乙二胺四乙酸二钠 | ≥99% | 用于络合痕量金属离子,研究金属催化氧化、阿伏苯宗配位及配方稳定性 | |
多磷酸类金属螯合剂 | 83-86-3 | 植酸溶液 | 70% in H2O | 用于络合铁、铜等金属离子,研究金属催化氧化和阿伏苯宗配位反应控制 | |
植酸盐类水相螯合剂 | 14306-25-3 | 植酸 钠盐 水合物 | ≥75% | 用于乳液水相的金属杂质控制、氧化稳定及阿伏苯宗配方相容性研究 |
表4 分子结构、候选降解物与反应机理研究化合物
分类 | Cas编号 | 阿拉丁货号 | 名称 | 规格或纯度 | 产品特色与应用 |
β-二酮结构模型化合物 | 120-46-7 | 二苯甲酰甲烷 | ≥98%(GC) | 用于酮—烯醇互变、分子内氢键、溶剂效应及二苯甲酰甲烷类激发态光化学研究 | |
甲氧基芳香醛类研究化合物 | 123-11-5 | 对茴香醛 | ≥99% | 用于阿伏苯宗甲氧基芳环侧候选降解物的色谱保留时间比对、质谱碎片分析和路径研究 | |
叔丁基芳香醛类研究化合物 | 939-97-9 | 4-叔丁基苯甲醛 | ≥97% | 用于阿伏苯宗叔丁基芳环侧候选降解物的色谱比对、降解动力学和路径验证 | |
甲氧基芳香酸类研究化合物 | 100-09-4 | 对甲氧基苯甲酸 | ≥98% | 用于甲氧基芳香醛后续氧化产物的色谱比对及阿伏苯宗氧化路径研究 | |
叔丁基芳香酸类研究化合物 | 98-73-7 | 4-叔丁基苯甲酸 | ≥99% | 用于叔丁基芳环侧候选氧化产物的色谱比对、产物鉴定和降解路径研究 | |
甲氧基芳香酮类研究化合物 | 100-06-1 | 4-甲氧基苯乙酮 | ≥99% | 用于阿伏苯宗甲氧基芳环侧候选芳香酮产物的色谱与质谱比对 | |
叔丁基芳香酮类研究化合物 | 943-27-1 | 4′-叔丁基苯乙酮 | ≥96% | 用于阿伏苯宗叔丁基芳环侧候选芳香酮产物的色谱比对和光解机理研究 | |
α-二羰基反应模型化合物 | 1074-12-0 | 苯乙二醛 一水合物 | ≥97%(GC) | 用于活性二羰基的亲电反应、蛋白加合及潜在光降解产物生物反应机理研究 |
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参考文献
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[2] MTURI G J, MARTINCIGH B S. Photostability of the sunscreening agent 4-tert-butyl-4-methoxydibenzoylmethane (avobenzone) in solvents of different polarity and proticity[J]. Journal of Photochemistry and Photobiology A: Chemistry, 2008, 200(2–3): 410–420. DOI: 10.1016/j.jphotochem.2008.09.007.
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[13] 国家食品药品监督管理总局. 关于发布《化妆品安全技术规范(2015年版)》的公告(2015年第268号)[EB/OL]. 2015-12-23. 附件:《化妆品安全技术规范(2015年版)》第二章表5“准用防晒剂”.
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