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提供 ≥93% 纯度,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
-20°C储存,充氩。超低温运输 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
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在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
试剂用于 · Suzuki-Miyaura 偶联反应 · Mizoroki-Heck 反应(级联反应) · 分子内 Nozaki-Hiyama-Kishi 反应 · 立体选择性铜催化 γ-选择性和立体定向偶联 · 分子内 (4 + 1) 环加成反应的立体选择性控制及机理描述 · 金 (I) 催化卤代炔烃的氢磷氧基化反应和钯催化的连续交叉偶联反应合成三取代烯烃的区域和立体选择性[7] · 不对称桦木还原性烷基化 制备过程中使用的试剂 · 脂类感应分子管 · 酶抑制剂、抗生素、受体类似物和其他具有生物学意义的化合物(包括全合成)
分类树(Taxonomy Tree)
| 界(kingdom) | 有机化合物 |
|---|---|
| 超类(Superclass) | 有机酸及其衍生物 |
| 类(Class) | 硼酸衍生物 |
| 亚类(Subclass) | 硼酸酯 |
| 中间层级节点(Intermediate Tree Nodes) | 暂无 |
| 直接上位类(Direct Parent) | 硼酸酯 |
| 其他上位类(Alternative Parents) | 二氧硼戊烷 氧环化合物 有机准金属盐 有机氧化合物 有机准金属化合物 碳氢化合物衍生物 |
| 分子骨架(Molecular Framework) | 脂肪族杂单环化合物 |
| 取代基(Substituents) | 1,3,2-二氧硼烷 - 脂肪族杂单环化合物 - 硼酸酯 - 烃衍生物 - 有机类金属基团 - 有机类金属盐 - 有机氧化合物 - 有机杂环化合物 - 有机氧化合物 - 氧杂环 |
| 描述(Description) | 该化合物属于硼酸酯类有机化合物。这类化合物具有硼酸酯官能团结构:RN(X)OR'(R,R'=烷基、芳基;X=任意O、N、卤素残基)。 |
| 外部描述符(External Descriptors) | 暂无 |
H226: 易燃液体和蒸气
H316: 引起轻微皮肤刺激
H317: 可能引起皮肤过敏反应
H371: 可能会损坏器官
H411: 对水生生物有毒并具有长期持续影响
P210: 远离热源,热表面,火花,明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。
P233: 保持容器密闭。
P240: 地面/粘结容器和接收设备
P241: 使用防爆的[电气/通风/照明/.../]设备。
P242: 仅使用无火花的工具。
P243: 采取防静电措施
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P303+P361+P353: 如皮肤(或头发)沾染:立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P370+P378: 火灾时:使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。
P403+P235: 存放在通风良好的地方。保持低温。
P501: 将内容物/容器处理到。。。
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| 批号(Lot Number) | 证书类型 | 货号 |
|---|---|---|
| 分析证书 | T162336 | |
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