CVD和ALD前驱体

用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。

阿拉丁试剂(上海阿拉丁生化科技股份有限公司,上交所科创板 688179)提供 34万+ 种化学与生化试剂,仅供专业研发使用。

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  1. 三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)铟(III)
    CAS: 34269-03-9 化合物 CID: 90471634 分子式: C33H57InO6 分子量: 664.63
    有现货 货号: T282959
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    技术标识符
    IUPAC名称
    (Z)-5-bis[[(Z)-2,2,6,6-tetramethyl-5-oxohept-3-en-3-yl]oxy]indiganyloxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one
    SMILES
    CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O[In](OC(=CC(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C)OC(=CC(=O)C(C)(C)C)C(C)(C)C
    InChIKey
    YVKGYGRXJLEUTO-LWTKGLMZSA-K
    InChI
    1S/3C11H20O2.In/c3*1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h3*7,12H,1-6H3;/q;;;+3/p-3/b3*8-7-;
  2. 三(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮基)钌(III)
    CAS: 38625-54-6 化合物 CID: 24970717 分子式: C33H57O6Ru 分子量: 650.88
    PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis
    有现货 货号: T282796
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    技术标识符
    IUPAC名称
    ruthenium(3+);(Z)-2,2,6,6-tetramethyl-5-oxohept-3-en-3-olate
    SMILES
    CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)[O-].CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)[O-].CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)[O-].[Ru+3]
    InChIKey
    FKJOFKNVRUZKNK-LWTKGLMZSA-K
    InChI
    1S/3C11H20O2.Ru/c3*1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h3*7,12H,1-6H3;/q;;;+3/p-3/b3*8-7-;
  3. 三甲基镓
    CAS: 1445-79-0 化合物 CID: 15051 分子式: C₃H₉Ga 分子量: 114.83
    电子级 ? 电子级 —— 金属和颗粒杂质极低,供微电子使用。适用于不耐受污染的半导体和电子工艺。 PrimorTrace™ Ultra ? PrimorTrace™ Ultra —— PrimorTrace 痕量金属系列的最高纯度等级。适用于最严苛的超痕量金属测定。 ≥99.9999% metals basis
    期货 货号: T283549
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    技术标识符
    IUPAC名称
    trimethylgallane
    SMILES
    C[Ga](C)C
    InChIKey
    XCZXGTMEAKBVPV-UHFFFAOYSA-N
    InChI
    1S/3CH3.Ga/h3*1H3;
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