用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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氯化锗(II)二恶烷加合物1:1有现货 货号: G282561查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- C1COCCO1.Cl[Ge]Cl
- InChIKey
- NYMJLNHIEKAQSD-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C4H8O2.Cl2Ge/c1-2-6-4-3-5-1;1-3-2/h1-4H2;
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氯化钽(V)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 升华级 ? 升华级 —— 通过升华纯化,非挥发性杂质极低。适用于电子及需要高化学纯度的应用。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: T283511查看产品价格与包装
技术标识符
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无水氯化钽PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis有现货 货号: T283062查看产品价格与包装
技术标识符
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二甲基异丙氧基铝期货 货号: D281774查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- (5E)-1-(4-bromo-3-methylphenyl)-5-[(5-chloro-2-hydroxy-3-methoxyphenyl)methylidene]-1,3-diazinane-2,4,6-trione
- SMILES
- CC1=C(C=CC(=C1)N2C(=O)C(=CC3=C(C(=CC(=C3)Cl)OC)O)C(=O)NC2=O)Br
- InChIKey
- MNMGIIHDFQDVBS-NTUHNPAUSA-N
- InChI
- 1S/C19H14BrClN2O5/c1-9-5-12(3-4-14(9)20)23-18(26)13(17(25)22-19(23)27)7-10-6-11(21)8-15(28-2)16(10)24/h3-8,24H,1-2H3,(H,22,25,27)/b13-7+
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异丙基环戊二烯基铼三氯期货 货号: I283079查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- CCC[C]1[CH][CH][CH][CH]1.[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[Re]
- InChI
- 1S/C8H11.3CO.Re/c1-2-5-8-6-3-4-7-8;3*1-2;/h3-4,6-7H,2,5H2,1H3;;;;
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异丙基环戊二烯基三氯化铪期货 货号: I283051查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- cyclopenta-1,3-diene;hafnium;propane;trichloride
- SMILES
- C[CH-]C.[CH-]1C=CC=C1.[Cl-].[Cl-].[Cl-].[Hf]
- InChI
- 1S/C5H5.C3H7.3ClH.Hf/c1-2-4-5-3-1;1-3-2;;;;/h1-5H;3H,1-2H3;3*1H;/q2*-1;;;;/p-3
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六(二甲氨基)二铝(TDMAA )期货 货号: H281777查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- N-[bis(dimethylamino)alumanyl]-N-methylmethanamine
- SMILES
- CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C.CN(C)[Al](N(C)C)N(C)C
- InChIKey
- JGZUJELGSMSOID-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/6C2H6N.2Al/c6*1-3-2;;/h6*1-2H3;;/q6*-1;2*+3
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