核心问题 / 术语

定义 / 要点（更好懂版）

与“过渡金属盐”相关的直观含义

盐（salt）

由阳离子与阴离子通过静电作用构成的化合物；在溶液里不一定完全“分离成自由离子”，也可能形成离子对/配位复合物。

“金属盐”不仅是“金属离子 + 旁观阴离子”：阴离子可能配位、桥联、改变溶解度/反应性/氧化还原行为，从而改变真实起点。

过渡元素（transition element）

原子具有未充满的 d 亚层，或能形成d 亚层未充满的阳离子的元素。

更常见：多价态、更强的配位化学、更复杂的“溶液真实物种”（不止一种形态），因此更容易出现“同金属不同盐结果差很多”。

氧化态（oxidation state）

氧化态是用一套统一规则“分配电子”得到的整数标签，用来追踪氧化还原；它不等同于原子的真实电荷。

过渡金属常见 M(II)/M(III)/M(0) 等：不同氧化态通常意味着不同的电子数/配位偏好/稳定性与氧化还原窗口，也会影响是否更易被还原成金属/纳米相或更易水解。

配体（ligand）

能向中心金属提供电子对并与其形成配位键的分子/离子（可单齿、多齿）。

溶剂、阴离子、外加配体都可能“上位”：决定金属的溶解性、活化速度、选择性、副反应；很多“盐效应”本质是配体竞争。

配位实体（coordination entity）

以金属为中心、周围被配体包围形成的具体结构单元（可带电），例如 [M(L)n]^{z±}。

许多“过渡金属盐”进入体系后，真实存在的是某种（或多种）配位实体，而不是“裸金属离子”。这决定了“反应起跑线”。

水合物（hydrate）

晶体中含有一定计量的结晶水（·xH₂O），结晶水是晶体结构的一部分。

直接影响：摩尔质量（称量金属有效量）、含水引入量、溶解/水解倾向与批次一致性；对水敏体系尤其关键。

物种分布（speciation）

在给定条件下（溶剂、pH、配体、浓度、离子强度、温度等），某元素在体系中以哪些化学物种存在、以及各自所占比例（通常由平衡共同决定，可随条件变化）。

解释“为什么同金属不同盐/不同条件会得到不同结果”：因为真正反应的是当下占比最高/反应性最强的那个（或那几个）物种，而不是标签上的“某某盐”本身。

类别

形式/写法特征

核心理解要点

溶液里常见会发生什么

简单无机盐（以离子组装为主）

常写作（M=金属阳离子，A=阴离子）

标签化学式 ≠ 溶液里唯一物种：进入溶液后会溶剂化，并可能发生配位/水解/阴离子交换，从而出现“物种分布”。

取决于溶剂、pH、阴离子与配体：可能从“主要是溶剂配位的 M²⁺”到“形成卤配合物/水解物/聚合物”都有可能。

配位盐 / 配位化合物（含明确配位实体）

常写作 

差异更“直接落在配位环境上”： 以明确配位实体为单元，配体与配位数更确定；盐型差异往往直接转化为配位环境差异，进而影响反应/成核路径。

仍可能配体交换/部分解离，但通常“起点更像某个具体配位结构”，更容易影响反应路径、活性物种生成与材料成核/沉积过程。

决定因素

它本质在改变什么

常见实验现象/信号

为什么会影响结果（核心逻辑）

金属中心与氧化态

电子结构/电子计数，以及可行的氧化还原与配位偏好

颜色差异；对空气/水敏感性差异；反应启动/诱导期不同

氧化态是“按规则分配电子”的整数标签，关联电子计数与氧化还原窗口，从而影响可达的活性物种与路径。

阴离子/对离子与离子相互作用

离子对/外层相互作用稳定性；阴离子是否（弱/强）配位、桥联或竞争配位

溶解性差异；是否浑浊/沉淀；同条件下活性/选择性波动

阴离子/离子对会改变配位平衡与关键中间体比例，进而改变活性物种与选择性（不一定是“旁观者”）。

介质条件：溶剂/含水量/外加配体

溶剂化/水合与配位交换平衡，推动物种分布整体迁移

同一盐在不同溶剂中澄清度不同；颜色随时间漂移；出现絮状物/沉淀

溶剂分子、阴离子与外加配体都可能配位并竞争，改变金属周围配位环境与配位实体类型。

标签/规格信息

它指向的化学变量

为什么值得优先关注

氧化态标注（如 M(II)/M(III)）

电子状态/氧化还原窗口

直接决定是否需要还原/是否易被空气氧化，起点就不同。

阴离子类型（Cl⁻、NO₃⁻、OAc⁻、OTf⁻…）

离子相互作用与配位干预程度

反离子可参与并影响选择性与路径，尤其在带电金属物种/离子对明显的体系中。

是否水合（·xH₂O）

含水背景与有效摩尔量

水合物的水是晶体结构的一部分，会影响称量与体系含水环境。

是否为配位实体盐（如 [M(L)n]Xm）

起始配位环境是否被“预设”

配位实体由中心原子与配体阵列构成；起点配位环境不同，交换与反应路径会不同。

验证步骤

你要锁定的结论

合格信号

异常时优先排查方向

Step 1：同浓度、同溶剂、同时间窗的外观一致性

起点物种集合是否大体一致（至少无明显偏离）

澄清度/颜色/是否持续浑浊或絮状物，在目标时间窗内可复现

先查：含水量/水合态、溶剂等级与混溶顺序；再查：光照/空气暴露；再查：是否引入卤离子/碱/强配体导致快速交换

Step 2：空白对照（只保留金属盐 + 关键配体/酸碱/导电盐）

体系本身是否会驱动金属物种自发变化（不加底物也会变）

空白体系在实验时间尺度内保持稳定（外观与可复现性）

若空白已不稳定：优先更换对离子/溶剂或调整配体当量；再考虑降低含水/控制暴露条件

Step 3：一个“与目标最相关”的简易读出

你需要的活性/前驱体形态是否已建立

催化：启动时间/初速可复现；材料：成相窗口内相同形貌/相纯趋势；电化学：基线电流/电位窗口稳定

若读出漂移：回到三个变量逐一收紧（氧化态→对离子→介质/配体），避免同时改多个参数

典型领域

为什么离不开过渡金属盐

最敏感的变量

常见盐类/前驱体例子

常见失效/漂移方式

有机合成与均相催化（交叉偶联等）

金属盐/配位盐是可计量的催化前驱体，决定活性物种如何生成与稳定

价态 + 对离子/离子相互作用（并受配体/介质耦合）

Pd、Ni、Fe 体系常见盐/前驱体（如 Pd(II)、Ni(II) 类）

启动慢/失活、选择性漂移、对卤/强配位阴离子敏感、批次复现差

电化学×过渡金属催化（电合成/电催化）

电位直接参与“还原/再生”催化物种，金属盐是核心入口

价态 + 介质/配体 + 支持电解质/对离子

多种过渡金属催化体系（以溶液中金属物种循环为核心）

电位窗口漂移、沉积成金属/失活、背景电解质/阴离子引发副反应

材料前驱体（溶胶-凝胶/氧化物薄膜/催化材料制备）

金属盐常作为分子尺度均匀混合的起点前驱体

阴离子类型 + 介质条件（含水/配体）决定成胶/成相路径

金属硝酸盐/乙酸盐等作为溶胶-凝胶前驱体常见

相不纯、粒径/形貌失控、凝胶化窗口变化、残留阴离子导致缺陷

锂电正极前驱体（NMC/NCA 共沉淀路线）

常用过渡金属硫酸盐水合物溶液共沉淀制备前驱体

水合/含水背景 + 阴离子体系 + 介质条件（pH/络合）

Ni/Mn/Co 水合硫酸盐参与前驱体合成

组分偏析、粒度分布失控、杂相/残留阴离子、批次稳定性差

电镀/表面工程（Ni/Cu 等电沉积）

电镀浴本质是“金属盐电解质体系”，盐型与添加剂决定沉积质量

对离子/离子相互作用 + 介质组成（添加剂/缓冲）

Watts 镀镍：NiSO₄ + NiCl₂ + H₃BO₃；酸性硫酸铜浴中氯离子控制

粗糙/针孔、内应力、光亮度/延展性波动、对氯离子/阴离子变化敏感

需求/场景

建议优先看哪张表

选表思路

表中代表“盐类关键词”

做常规溶液配制/背景盐/离子强度对照（希望易得、稳定、便于复现）

表1 常用过渡金属盐（分析/AR/药典常见）

表1覆盖最常见的水合氯盐/硝酸盐/硫酸盐/乙酸盐，适合做“通用金属盐来源 + 阴离子对照”的起点

ZnCl₂、NiCl₂·6H₂O、CuSO₄·5H₂O、Fe(NO₃)₃·9H₂O、Co(OAc)₂·4H₂O

做电化学/电镀/水相无机反应（关心导电盐背景、金属离子稳定、配方可复现）

表1 常用过渡金属盐

表1里硫酸盐/氯盐/硝酸盐是电化学与水相最常用入口；适合快速搭建体系并做阴离子影响对比

NiSO₄·6H₂O、FeSO₄·7H₂O、CuSO₄·5H₂O、CoCl₂·6H₂O、MnCl₂·4H₂O

做材料前驱体（溶胶-凝胶/薄膜/氧化物），需要更干净/更可控的起点

表2 高纯/无水卤化物与关键前驱体盐

表2集中无水卤化物、PrimorTrace、高纯 metals basis/升华级前驱体，适合“低水/低杂质/可控水解与物种”的材料路线

TiCl₄、ZrCl₄、HfCl₄、NbCl₅、TaCl₅、WCl₆、MoCl₅

做“阴离子效应/真实物种”拆分对照（想比较 Cl⁻/Br⁻/I⁻/NO₃⁻/OAc⁻ 影响）

表1 + 表2（先表1，需更严格再表2）

表1适合做“同金属不同阴离子”的常规对照；若体系对痕量/水敏感或要排除批次杂质影响，用表2的高纯/无水盐把变量收紧

CuCl₂ vs Cu(NO₃)₂ vs CuSO₄ vs Cu(OAc)₂；NiCl₂（无水）/NiBr₂（无水）/Ni(NO₃)₂·6H₂O

做强氧化/氧化还原方法学或需要标准氧化剂（分析、清洗、机理对照）

表3 含氧酸盐与氧化物/氧锆硝酸盐前驱体

表3包含 KMnO₄ 等强氧化体系与含氧酸盐家族，适合需要“氧化还原强度、含氧阴离子化学”的实验

KMnO₄、高锰酸盐体系

做含氧酸盐路线（Mo/W/V 体系：分析方法学、氧化物前驱体、溶液化学）

表3 含氧酸盐与氧化物/氧锆硝酸盐前驱体

表3专门集中钼酸盐/钨酸盐/偏钒酸盐等含氧酸盐盐源，比从卤化物路线更直接，适合做溶液化学与氧化物前驱体

(NH₄)₂MoO₄·4H₂O、Na₂MoO₄·2H₂O、Na₂WO₄·2H₂O、NH₄VO₃

做ZrO₂ 相关材料/表面酸性位/陶瓷载体（偏水相前驱体或水合氧化物）

表3 含氧酸盐与氧化物/氧锆硝酸盐前驱体

表3里 Zr 的条目覆盖“氧锆硝酸盐（水合）”与“水合氧化锆”，更贴近 ZrO₂ 溶胶-凝胶/沉淀/控相路线

硝酸氧锆 水合物、氧化锆（IV）八水合物

做交叉偶联/均相催化/配位化学（以 Pd/Pt/Rh/Ir/Ru 为核心前驱体）

表4 过渡金属盐（贵金属/银）：催化与配位前驱体

表4集中贵金属常用前驱体（氯盐/乙酸盐/水合氯盐等），适合催化体系快速起步与可复现对照

Pd(OAc)₂、PdCl₂、RhCl₃·xH₂O、IrCl₃·xH₂O、RuCl₃·xH₂O、PtCl₂、PtCl₄

做卤离子捕获/促活化/弱配位阴离子体系（希望更“阳离子化”的金属物种或减少 Cl⁻ 干扰）

表5 弱配位阴离子盐与配合物（OTf⁻ / β-二酮）

表5提供 AgOTf、Cu(OTf)₂ 等弱配位阴离子盐，常用于“去卤/促活化/改变配位壳层”；也含可溶金属配合物作有机相前驱体

AgOTf、Cu(OTf)₂

做有机相前驱体/可溶金属源（需要更好溶解性与可加工性，如溶液成膜/热转化）

表5 弱配位阴离子盐与配合物（OTf⁻ / β-二酮）

表5的 β-二酮金属配合物（acac）更适合有机溶剂体系与成膜/热分解路线；常用于与无机盐路线做对照

乙酰丙酮铁、乙酰丙酮镍

分类

Cas编号

阿拉丁货号

名称

规格或纯度

产品特色和应用

过渡金属盐｜锌盐（Zn²⁺）｜卤化物｜氯化物

7646-85-7

Z112526

氯化锌

优级试剂, ≥98%

常用 Zn²⁺来源与典型 Lewis 酸：用于有机合成/催化（活化羰基、促进卤代/缩合等）、配位化学与金属有机体系；亦可作材料前驱体（ZnO/掺杂体系）与电解质/镀锌相关研究盐源。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜卤化物｜氯化物（水合）

7791-20-0

N112126

氯化镍,六水

优级试剂, ≥98%

常用 Ni²⁺前驱体：用于电镀/电化学、配位与催化前驱体制备（Ni 络合物、还原生成 Ni(0) 活性物种等）；水合态便于溶液配制与离子强度/盐效应对照。

过渡金属盐｜钴盐（Co²⁺）｜卤化物｜氯化物（水合）

7791-13-1

C116457

氯化钴，六水

优级试剂

常用 Co²⁺盐源：用于配位化学、催化/电化学前驱体（如 Co 氧化物/氢氧化物、电催化材料）、以及溶液配位/水合行为研究；水合氯盐对配体交换与氯离子敏感体系需做空白对照。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜卤化物｜氯化物（水合）

10125-13-0

C111678

氯化铜,二水

优级试剂

Cu²⁺与 Cl⁻来源：常用于有机合成/催化（卤化/氧化偶联、路易斯酸促进反应等）、蚀刻体系与配位化学；Cl⁻为强影响阴离子，做催化/电化学时常需评估其对配位壳层与副反应的干扰。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜硝酸盐（水合）

10031-43-3

C298895

三水合硝酸铜

优级试剂

Cu²⁺与硝酸根来源：常见氧化性/硝酸盐体系铜源，用于催化与材料前驱体（CuO/Cu₂O、MOF/配位聚合物）、腐蚀/蚀刻与溶液化学对照；硝酸根可能引入氧化/配位影响，做机理对照时需关注。

过渡金属盐｜钴盐（Co²⁺）｜硝酸盐（水合）

10026-22-9

C431137

六水合硝酸钴(II)

适用于分析, 优级品

常用 Co²⁺硝酸盐前驱体：用于制备 Co 氧化物/氢氧化物与电催化材料、配位化学与溶液体系研究；硝酸根可能影响还原/络合路径，适合作为硝酸盐体系的对照钴源。

过渡金属盐｜铬盐（Cr³⁺）｜硝酸盐（水合）

7789-02-8

C434117

九水硝酸铬(III)

适用于分析, 优级品

Cr³⁺盐源与分析级前驱体：用于配位化学、颜料/氧化铬前驱体与溶液化学研究；硝酸根带来氧化性/离子强度与配位竞争效应，适合做“阴离子/介质”对照。

过渡金属盐｜铬盐（Cr³⁺）｜卤化物｜氯化物（水合）

10060-12-5

C100293

三氯化铬(III) 六水合物

AR, ≥98%

常用 Cr³⁺盐源：用于配位化学、Cr₂O₃/铬基材料前驱体与溶液水解/络合研究；Cr³⁺配位交换慢、物种分布受配体与酸度影响大，适合做“真实物种—复现”对照体系。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜硫酸盐（水合）

10101-97-0

N431238

六水硫酸镍(II)

适用于分析, ACS, 优级品

典型 Ni²⁺电化学/电镀盐源：用于镀镍、电解质离子强度对照、配位与沉淀/控相研究；硫酸根常作“背景阴离子”但对某些体系（沉淀/络合）仍需验证兼容性。

过渡金属盐｜锰盐（Mn²⁺）｜卤化物｜氯化物（水合）

13446-34-9

M431934

四水氯化锰(II)

适用于分析, ACS, 优级品

常用 Mn²⁺来源：用于无机/配位化学、催化与电化学材料前驱体（MnOx 等），以及离子强度/盐效应对照；Cl⁻可能影响配位与腐蚀/副反应，适合做“卤离子敏感性”测试盐源。

过渡金属盐｜锰盐（Mn²⁺）｜硫酸盐（水合）

10034-96-5

M431158

一水硫酸锰(II)

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品, spray-dried

常用 Mn²⁺硫酸盐：用于分析/方法学、培养/配方与无机前驱体（MnOx、掺杂体系）；硫酸根相对“背景型”阴离子，适合做离子强度/盐效应与沉淀窗口对照。

过渡金属盐｜铁盐（Fe²⁺）｜硫酸盐（水合）

7782-63-0

I434044

七水硫酸铁（II）

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品

常用 Fe²⁺还原性铁源：用于氧化还原体系、Fenton/类 Fenton 相关机理、配位化学与沉淀/水解行为研究；Fe²⁺易被氧化，实验复现需关注溶解氧、酸度与储存条件。

过渡金属盐｜铁盐（Fe³⁺）｜硝酸盐（水合）

7782-61-8

I434042

九水硝酸铁(III)

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品

常用 Fe³⁺与硝酸根来源：用于凝聚/水解沉淀、配位化学、氧化性体系与铁氧化物前驱体（Fe₂O₃/FeOOH 等）；硝酸根与酸度窗口会影响真实物种与沉淀相。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜硫酸盐（水合）

7758-99-8

C433966

五水硫酸铜(II)

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品

经典 Cu²⁺通用盐：用于分析/滴定与配位化学、晶体生长与电化学、以及 CuO/Cu(OH)₂ 等材料前驱体；硫酸根常用于“背景阴离子”对照，但仍需注意与碱/络合剂的沉淀反应。

过渡金属盐｜锌盐（Zn²⁺）｜硫酸盐（水合）

7446-20-0

Z433480

硫酸锌 七水合物

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品

常用 Zn²⁺背景盐与锌源：用于配方/方法学、溶液离子强度对照、以及 ZnO/Zn(OH)₂ 等前驱体研究；硫酸根体系在与碳酸盐/磷酸盐等共存时需评估沉淀与络合窗口。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐（水合）

6046-93-1

C433064

一水合乙酸铜（II）

适用于分析, ACS, 优级品

常见 Cu²⁺有机酸盐：用于有机合成/催化（氧化、偶联等）、配位化学与 MOF/配位聚合物前驱体；乙酸根相对“温和配位”，常用于对比氯盐/硝酸盐体系的阴离子效应。

过渡金属盐｜锌盐（Zn²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐（水合）

5970-45-6

Z433041

二水醋酸锌

适用于分析, ACS, 优级品

常用 Zn²⁺盐源：用于配位化学、MOF（如 Zn-BDC 等体系思路）与 ZnO/掺杂材料前驱体；乙酸盐在溶液中更易形成可控络合物，适合做溶胶-凝胶/薄膜前驱体对照。

过渡金属盐｜钴盐（Co²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐（水合）

6147-53-1

C433114

四水醋酸钴(II)

适用于分析, ACS, 优级品

常用 Co²⁺乙酸盐：便于作为 Co 基材料（CoOx、Co(OH)₂ 等）与配位化学前驱体；乙酸根可参与配位/缓冲，常用于对照 CoCl₂/Co(NO₃)₂ 等不同阴离子带来的真实物种差异。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐（水合）

6018-89-9

N112914

乙酸镍(II)四水合物

AR, ≥99%

常用 Ni²⁺温和盐源：用于配位化学、NiO/Ni(OH)₂ 前驱体与催化材料制备；乙酸根相对弱配位/可控，常用于对照卤盐/硝酸盐体系的阴离子效应。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜卤化物｜溴化物

7789-45-9

C105401

溴化铜

AR, ≥99%

Cu²⁺与 Br⁻来源：用于配位化学、铜基材料前驱体与卤离子效应研究；Cu(II) 溴盐在有机合成中也常作为溴化/氧化相关反应的盐型对照，适合与 CuCl₂/Cu(NO₃)₂ 等体系做对比。

过渡金属盐｜锰盐（Mn²⁺）｜硝酸盐（水合）

20694-39-7

M191978

硝酸锰 四水合物

≥98%

常用 Mn²⁺硝酸盐：用于 MnOx 材料与电化学前驱体、溶液化学与分析对照；硝酸盐具氧化性，进入还原/有机体系时需关注副反应与安全合规要求。

过渡金属盐｜铁盐（Fe³⁺）｜硫酸盐（按金属含量标定）

10028-22-5

F684177

硫酸铁

Fe:21.0-23.0%

通用铁源与分析/水处理常见盐类：用于氧化还原/水解沉淀行为研究、铁氧化物前驱体与离子强度对照；“含铁量”标注便于按金属含量计量与配方复现。

分类

Cas编号

阿拉丁货号

名称

规格或纯度

产品特色和应用

过渡金属盐｜铌盐（Nb⁵⁺）｜卤化物｜氯化物（无水）

10026-12-7

N431134

氯化铌(V)

无水级, ≥99.995% metals basis

高纯 Nb(V) 前驱体：用于制备铌氧化物/铌基催化与光电材料（Nb₂O₅ 等）、Lewis 酸/卤化体系反应与配位化学；无水高纯更适合对水解敏感、需可控真实物种的体系。

过渡金属盐｜铜盐（Cu⁺）｜卤化物｜碘化物（无水）

7681-65-4

C433811

碘化亚铜

无水级, ≥99.995% metals basis

典型 Cu(I) 催化前驱体：常用于偶联/卤代与多种 Cu(I) 催化体系（如配体辅助反应、点击/炔烃相关体系等），也用于制备 Cu 基配位化合物与材料；无水高纯有利于控制 Cu(I)/Cu(II) 平衡与副反应。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜卤化物｜溴化物（无水）

13462-88-9

N431942

溴化镍

无水级, ≥99.9% metals basis, powder

无水 Ni²⁺盐源：常作交叉偶联/还原体系的 Ni 前驱体、配位化学与材料前驱体；卤化物阴离子会显著影响溶解/配位与活性物种分布，适合做“阴离子效应”对照。

过渡金属盐｜铪盐（Hf⁴⁺）｜卤化物｜氯化物（无水/升华级）

13499-05-3

H431978

四氯化铪

升华级, ≥99.9% metals basis

高纯 Hf 前驱体：用于 HfO₂/高 k 介电材料、薄膜沉积（前驱体路线）、无机合成与配位化学；升华级强调低杂质，适合对痕量金属/水解极敏感的材料体系。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜卤化物｜氯化物（无水, 高纯）

7718-54-9

N433839

氯化镍(II)

PrimorTrace™, 无水级, ≥99.99% metals basis, powder

超高纯无水 Ni²⁺盐源：用于痕量杂质敏感的电化学/催化/配位体系与“阴离子效应”研究；无水卤盐更利于控制水解/水合带来的物种差异，适合作为高可复现的 Ni 起点。

过渡金属盐｜钽盐（Ta⁵⁺）｜卤化物｜氯化物（升华级, 高纯）

7721-01-9

T283511

氯化钽（V）

PrimorTrace™, 升华级, ≥99.99% metals basis

高纯 Ta(V) 前驱体：常用于 Ta 氧化物/钽基薄膜与陶瓷材料前驱体、Lewis 酸相关有机合成与配位化学；升华级强调低杂质，适合对金属杂质与水解副反应敏感的材料路线。

过渡金属盐｜铜盐（Cu⁺）｜卤化物｜氯化物（高纯）

7758-89-6

C112392

氯化亚铜

PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis

典型 Cu(I) 盐源：用于 Cu(I) 配合物合成与多类 Cu 催化/偶联体系的前驱体；超高纯更适合做“痕量金属/杂质影响”敏感的机理对照（如 Cu(I)/Cu(II) 平衡与副反应）。

过渡金属盐｜镍盐（Ni²⁺）｜硝酸盐（水合, 高纯）

13478-00-7

N108888

硝酸镍,六水(易制爆)

PrimorTrace™, ≥99.999% metals basis

高纯 Ni²⁺硝酸盐：常用于溶胶-凝胶/溶液前驱体制备 NiO/Ni 基材料与分析对照；硝酸盐具氧化性与合规管理要求（标签已提示），用于还原/有机体系时需特别关注副反应与空白对照。

过渡金属盐｜钴盐（Co²⁺）｜卤化物｜溴化物（高纯）

7789-43-7

C486143

溴化钴 (II)

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis, beads,＞10 mesh

高纯 Co²⁺卤盐：用于配位化学/催化前驱体与卤离子效应研究；溴化物相对氯化物在溶解与配位竞争上可能表现不同，适合作为“卤素对照”钴源；beads 形态便于称量与转移。

过渡金属盐｜锰盐（Mn²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐（高纯, 水合）

6156-78-1

M110795

乙酸锰,四水

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis

高纯 Mn²⁺前驱体：常用于 MnOx 材料、电化学与配位化学研究；乙酸根相对温和、可参与络合与缓冲，适合做“阴离子温和度/配位可控性”对照的锰源起点。

过渡金属盐｜钼盐（Mo⁵⁺）｜卤化物｜氯化物（高纯）

10241-05-1

M401642

五氯化钼

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis

Mo(V) 高价卤化物前驱体：用于 Mo 配位化合物、Mo 基催化/材料前驱体（向 Mo 氧化物/硫化物等转化路线的上游盐源）；对水分极敏感，适合强调“无水/水解控制”与真实物种记录。

过渡金属盐｜钛盐（Ti⁴⁺）｜卤化物｜氯化物（高纯）

7550-45-0

T118447

四氯化钛

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis

经典 Ti(IV) 前驱体：常用于 TiO₂/钛基薄膜与溶胶-凝胶路线、以及 Ti 基 Lewis 酸/催化相关研究；对水分极敏感（易水解/发烟），超高纯更适合器件级薄膜与杂质敏感材料体系。

过渡金属盐｜铜盐（Cu⁺）｜卤化物｜溴化物（高纯）

7787-70-4

C104701

溴化亚铜

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis

常用 Cu(I) 溴盐：用于 Cu(I) 配合物与多类有机合成催化体系（如偶联、自由基/聚合相关催化等思路）；与 CuCl 对比可用于拆分“卤离子/溶解性/配位”对活性物种与副反应的影响。

过渡金属盐｜锌盐（Zn²⁺）｜硝酸盐（水合, 高纯）

10196-18-6

Z111706

硝酸锌,六水(易制爆)

PrimorTrace™, ≥99.99% metals basis

高纯 Zn²⁺硝酸盐：常用于 ZnO/掺杂氧化物与溶液前驱体路线、MOF/配位聚合物与分析对照；硝酸盐具氧化性与合规管理要求，做有机/还原体系时需关注兼容性与空白对照。

过渡金属盐｜钴盐（Co²⁺）｜硫酸盐（水合, 高纯）

10026-24-1

C1455809

硫酸钴,七水

Ultra pure，Co ≥ 20.5%

高纯 Co²⁺盐源：用于电化学/电镀体系、配位化学与 Co 基材料前驱体（CoOx/Co(OH)₂ 等）；硫酸根相对“背景型”阴离子，适合做离子强度/盐效应与杂质敏感实验的对照入口。

过渡金属盐｜钨盐（W⁶⁺）｜卤化物｜氯化物（无水, 高纯）

13283-01-7

T431895

氯化钨(VI)

≥99.99% metals basis, powder,purity excludes molybdenum

高纯 W(VI) 前驱体：用于制备 WO₃/钨氧化物与钨基功能材料、配位化学与催化研究；对水解敏感，高纯且排除 Mo 杂质更适合“掺杂/杂质极敏感”的材料对照。

过渡金属盐｜锆盐（Zr⁴⁺）｜卤化物｜氯化物（无水, 高纯）

10026-11-6

Z109460

氯化锆

≥99.9% metals basis

常用 Zr(IV) 前驱体：用于 ZrO₂、Zr 基 Lewis 酸催化与 Zr 配合物/材料（含部分 Zr-MOF 思路）研究；无水卤化物对水解敏感，适合强调溶剂/含水量控制与复现记录。

过渡金属盐｜铁盐（Fe²⁺）｜卤化物｜氯化物（无水）

7758-94-3

I106504

氯化亚铁，无水

≥99.5%, Powder

典型 Fe(II) 前驱体：用于无机/配位与有机金属体系、还原性铁源对照与铁基材料前驱体；Fe²⁺易被空气氧化，实验复现建议关注溶解氧、酸度与储存/称量暴露时间。

过渡金属盐｜钒盐（V³⁺）｜卤化物｜氯化物

7718-98-1

V498277

氯化钒

≥96%

V(III) 前驱体：用于钒配位/有机金属化学、还原性钒源与钒基催化/材料前段盐源；对空气/水分敏感，适合做“价态—配体—介质”对真实物种分布影响的对照体系。

分类

Cas编号

阿拉丁货号

名称

规格或纯度

产品特色和应用

过渡金属盐｜锰(VII)含氧阴离子盐｜高锰酸盐（强氧化剂）

7722-64-7

P485670

高锰酸钾(易制爆)(易制毒)

用于分析(最大0.000005%汞柱), 优级试剂, ACS

典型强氧化剂与分析用氧化还原滴定基准体系之一：用于氧化还原容量标定、氧化反应/污染物氧化机理研究、表面清洗/氧化处理等；对有机物/还原剂高度敏感，需严格按危化品规范管理与做空白对照。

过渡金属盐｜钨酸盐（W(VI)）｜含氧酸盐｜钨酸盐（钠盐, 水合）

10213-10-2

S431261

钨酸钠 二水合物

适用于根据Folin制备无蛋白滤液

方法学常用含钨盐：用于 Folin 相关方法中制备无蛋白滤液/蛋白沉淀等步骤；同时也是 W 源与钨酸盐化学前驱体（WO₃ 等），可用于催化/材料与溶液化学对照研究。

过渡金属盐｜钼酸盐（Mo(VI)）｜含氧酸盐｜钼酸盐（铵盐, 水合）

12054-85-2

A431567

钼酸铵四水合物

超纯级, powder

常用 Mo(VI)“钼源”与分析试剂：用于磷酸盐/硅酸盐等比色或沉淀法相关方法学、制备 MoO₃/Mo 基催化与功能材料前驱体；超纯粉体更适合痕量杂质敏感的催化/材料与分析对照。

过渡金属盐｜钼酸盐（Mo(VI)）｜含氧酸盐｜钼酸盐（钠盐, 水合）

10102-40-6

S104867

钼酸钠 二水合物

AR, ≥99%

常用 Mo(VI) 钠盐：用于钼酸盐溶液化学、分析方法学（与磷酸盐/硅酸盐相关体系）与 MoO₃/钼基材料前驱体；钠盐便于作为“背景阳离子固定”的对照入口。

过渡金属盐｜偏钒酸盐（V(V)）｜含氧酸盐｜偏钒酸盐（铵盐）

7803-55-6

A111822

偏钒酸铵

AR, ≥99%

典型 V(V)“钒源”：用于制备 V₂O₅/钒氧化物与催化/电化学材料、以及氧化还原与配位化学研究；亦常作为含钒掺杂/表面改性前驱体盐，用于机理对照。

过渡金属盐｜锆盐（Zr⁴⁺）｜硝酸盐｜氧锆硝酸盐（水合）

14985-18-3

Z104396

硝酸氧锆 水合物

AR, ≥99.5%

常用 Zr 前驱体：用于 ZrO₂ 溶胶-凝胶、陶瓷/催化载体与表面酸性位研究；硝酸根体系便于水相/醇相前驱体溶液配制，适合作为 ZrO₂ 相关材料路线的“可复现起点”。

过渡金属盐｜锆系（Zr⁴⁺）｜氧化物/水合氧化物｜氧化锆（IV）水合物

13520-92-8

Z431979

氧化锆（IV）八水合物

适用于分析, 优级品

水合氧化锆前驱体：常用于制备/对照 ZrO₂（陶瓷、催化载体、界面/酸碱位研究）、溶胶-凝胶与表面化学研究；水合态利于分散与沉淀/控相实验。

分类

Cas编号

阿拉丁货号

名称

规格或纯度

产品特色和应用

过渡金属盐｜贵金属（Pd²⁺）｜羧酸盐/乙酸盐｜醋酸钯(II)

3375-31-3

P432639

醋酸钯 (II) (47% Pd)

适用于合成

经典 Pd(II) 催化前驱体：常用于偶联反应与均相催化体系（生成 Pd(0)/配体络合活性物种），溶解性与配体交换较友好；适合作为“钯源起点”做催化体系筛选与复现基线。

过渡金属盐｜贵金属（Pd²⁺）｜卤化物｜氯化钯(II)

7647-10-1

P433731

氯化钯(II)

试剂级, 高级纯, ≥99%

重要 Pd(II) 钯源：用于制备多种 Pd 配合物与催化前驱体（与配体/还原剂组合生成活性 Pd 物种）；Cl⁻配位较强，常用于“氯钯体系”与乙酸钯体系的对照与机理拆分。

过渡金属盐｜贵金属（Rh³⁺）｜卤化物｜三氯化铑(III)（水合）

20765-98-4

R109233

三氯化铑(III) 水合物

Rh 38.5-42.5%

典型 Rh 催化前驱体：用于合成 Rh 配合物与均相催化体系（如加氢、异构化、C–H 功能化等研究路径中的“铑源起点”）；水合氯盐的真实物种对配体/溶剂/卤离子非常敏感，适合强调复现记录与空白对照。

过渡金属盐｜贵金属（Pt²⁺）｜卤化物｜二氯化铂

10025-65-7

P109265

二氯化铂

Pt basis ≥73%

常用 Pt(II) 前驱体：用于制备 Pt 配合物、均相/电催化研究与 Pt 基材料前驱体；Pt(II) 更偏配位化学与可控配体交换路线，常作为“配合物合成起点”用于机理与结构—性能关联研究。

过渡金属盐｜贵金属（Pt⁴⁺）｜卤化物｜四氯化铂

13454-96-1

P111013

四氯化铂

Pt ≥57%

Pt(IV) 氧化态前驱体：适合需要更强氧化态/后续可还原转化的铂体系（如制备 Pt(II)/Pt(0) 路线或氯铂酸相关化学的前段）；对溶剂与还原环境敏感，常用于对比 Pt(II) 盐的活性物种路径。

过渡金属盐｜贵金属（Ir³⁺）｜卤化物｜三氯化铱(III)（水合）

14996-61-3

I111008

三氯化铱(III) 水合物

试剂级, Ir≥52%

常用 Ir 前驱体：用于均相催化、Ir 配合物合成与电催化/光催化相关研究；水合氯盐的溶液物种受配体/溶剂/卤离子影响显著，适合强调“真实物种—可复现起点”的记录与对照。

过渡金属盐｜贵金属（Ru³⁺）｜卤化物｜氯化钌(III)（水合）

14898-67-0

R432146

氯化钌（III）水合物

适用于分析, 优级品

常用 Ru 前驱体：用于均相/电催化、配位化学与材料（RuO₂、导电氧化物）制备；Cl⁻与水合状态决定真实物种分布，做催化复现时建议记录溶解性/颜色与配体当量。

过渡金属盐｜银盐（Ag⁺）｜硝酸盐｜硝酸银

7761-88-8

S433976

硝酸银(易制爆)

欧洲药典（Ph.Eur）, 适用于分析, ACS, 优级品

典型 Ag⁺通用银源：用于卤离子捕获/沉淀对照（AgCl/AgBr/AgI）、电化学与银基材料（Ag/Ag₂O、AgNP 等）前驱体、以及分析/显色方法学；对光与还原环境敏感，需按危化品与避光规范管理。

分类

Cas编号

阿拉丁货号

名称

规格或纯度

产品特色和应用

过渡金属盐｜银盐（Ag⁺）｜弱配位阴离子盐｜三氟甲烷磺酸银（OTf⁻）

2923-28-6

S119490

三氟甲烷磺酸银

≥99.98% metals basis

典型 Ag⁺“弱配位阴离子”银源：常用于卤离子捕获/卤素抽提（生成 AgX）与生成更“阳离子化”的金属物种（作助剂/促活化的盐型对照）；相较硝酸银，可减少 NO₃⁻带来的氧化/配位差异。

过渡金属盐｜铜盐（Cu²⁺）｜弱配位阴离子盐｜三氟甲烷磺酸铜(Ⅱ)（OTf⁻）

34946-82-2

C100681

三氟甲烷磺酸铜(Ⅱ)

≥98%

Cu(II) 三氟甲磺酸盐：常作 Lewis 酸/铜催化体系的“弱配位阴离子”铜源，用于生成更活泼的阳离子型铜物种或减少卤离子干扰；适合作为 CuCl₂/CuBr₂/醋酸铜等体系的机理对照。

过渡金属配合物｜铁配合物｜β-二酮配体｜乙酰丙酮铁

14024-18-1

I106157

乙酰丙酮铁

≥98%

可溶性铁前驱体（常用于 Fe 基薄膜/氧化物/纳米材料前驱体与催化研究）：β-二酮配体提高有机相溶解与前驱体可加工性，便于做溶液成膜/热转化路线的对照。

过渡金属配合物｜镍配合物｜β-二酮配体｜乙酰丙酮镍

3264-82-2

N105676

乙酰丙酮镍

≥95%

可溶性 Ni 前驱体：常用于 Ni 基薄膜/氧化物/纳米材料前驱体与催化研究；β-二酮配体增强有机相溶解与可加工性，便于与无机盐（NiCl₂、Ni(OAc)₂ 等）做路线与物种差异对照。