用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体，这些产品附有关键标识符和操作指南，以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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双（异丙基环戊二烯基）铬期货 货号: B282390查看产品价格与包装技术标识符
- SMILES
- CC(C)[C]1[CH][CH][CH][CH]1.CC(C)[C]1[CH][CH][CH][CH]1.[Cr]
- InChI
- 1S/2C8H11.Cr/c2*1-7(2)8-5-3-4-6-8;/h2*3-7H,1-2H3;
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双（叔丁基氨基）硅烷PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: B281780查看产品价格与包装技术标识符
- SMILES
- CC(C)(C)N[Si]NC(C)(C)C
- InChIKey
- PHUNDLUSWHZQPF-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C8H20N2Si/c1-7(2,3)9-11-10-8(4,5)6/h9-10H,1-6H3
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双（叔丁基氨基）硅烷CAS: 186598-40-3 分子式: C8H22N2Si 分子量: 174.36有现货 货号: B281779查看产品价格与包装技术标识符
- SMILES
- CC(C)(C)N[Si]NC(C)(C)C
- InChIKey
- PHUNDLUSWHZQPF-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C8H20N2Si/c1-7(2,3)9-11-10-8(4,5)6/h9-10H,1-6H3
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双（叔丁基亚氨基）双（二甲基氨基）钼（VI）有现货 货号: B282630查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- bis(tert-butylimino)molybdenum(2+);dimethylazanide
- SMILES
- CC(C)(C)N=[Mo+2]=NC(C)(C)C.C[N-]C.C[N-]C
- InChIKey
- KUMGWCYRXZGGGP-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2C4H9N.2C2H6N.Mo/c2*1-4(2,3)5;2*1-3-2;/h2*1-3H3;2*1-2H3;/q;;2*-1;+2
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双（五甲基环戊二烯基）钡 （含四氢呋喃配体）CAS: 112379-49-4 分子式: C20H30Ba 分子量: 407.78PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列，金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.99% metals basis期货 货号: B282985查看产品价格与包装技术标识符
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双（二甲基氨基-2-丙氧基）铜（II）有现货 货号: B282542查看产品价格与包装技术标识符
- IUPAC名称
- copper;1-(dimethylamino)propan-2-ol
- SMILES
- CC(CN(C)C)O.CC(CN(C)C)O.[Cu]
- InChIKey
- XTHFURGQRDMERX-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2C5H13NO.Cu/c2*1-5(7)4-6(2)3;/h2*5,7H,4H2,1-3H3;
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