用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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氯化镝(III)超干级 ? 超干 —— 水含量极低,包装隔绝水分。适用于对水敏感的反应和无水化学。 ≥99.99% metals basis(REO)有现货 货号: D284006查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- trichlorodysprosium
- SMILES
- Cl[Dy](Cl)Cl
- InChIKey
- BOXVSFHSLKQLNZ-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.Dy/h3*1H;/q;;;+3/p-3
-
氯化镧超干级 ? 超干 —— 水含量极低,包装隔绝水分。适用于对水敏感的反应和无水化学。 ≥99.99% metals basis(REO)有现货 货号: L290934查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- trichlorolanthanum
- SMILES
- Cl[La](Cl)Cl
- InChIKey
- ICAKDTKJOYSXGC-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.La/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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氯化钬超干级 ? 超干 —— 水含量极低,包装隔绝水分。适用于对水敏感的反应和无水化学。 ≥99.95% metals basis有现货 货号: H290917查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- trichloroholmium
- SMILES
- Cl[Ho](Cl)Cl
- InChIKey
- PYOOBRULIYNHJR-UHFFFAOYSA-K
- InChI
- 1S/3ClH.Ho/h3*1H;/q;;;+3/p-3
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二羰基环戊二烯基钌二聚物CAS: 12132-87-5 分子式: C14H10O4Ru2 分子量: 444.37期货 货号: D294673查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- [C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[C-]#[O+].[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[CH]1[CH][CH][CH][CH]1.[Ru].[Ru]
- InChIKey
- OYBGZXRXNFYOGP-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2C5H5.4CO.2Ru/c2*1-2-4-5-3-1;4*1-2;;/h2*1-5H;;;;;;
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双(乙基环戊二烯基)钌(II)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: B294778查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- 2-ethylcyclopenta-1,3-diene;ruthenium(2+)
- SMILES
- CCC1=[C-]CC=C1.CCC1=[C-]CC=C1.[Ru+2]
- InChIKey
- XUZWCRWRRXUMJF-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3,5H,2,4H2,1H3;/q2*-1;+2
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三甲基甲基环戊二烯铂(IV)有现货 货号: T294870查看产品价格与包装
技术标识符
- SMILES
- C[Pt](C)C.C[C]1[CH][CH][CH][CH]1
- InChIKey
- AGQKROMSWCHOND-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C6H7.3CH3.Pt/c1-6-4-2-3-5-6;;;;/h2,4H,3H2,1H3;3*1H3;
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四(二甲基胺基)钛(IV)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis有现货 货号: T401695查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- dimethylazanide;titanium(4+)
- SMILES
- CN(C)[Ti](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
- InChIKey
- MNWRORMXBIWXCI-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/4C2H6N.Ti/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
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产品仅供研发使用












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