用于薄膜沉积和半导体研究的CVD及ALD前驱体。浏览金属有机和无机前驱体,这些产品附有关键标识符和操作指南,以支持沉积工艺开发。
CVD和ALD前驱体
产品列表
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1-(3-甲氧基吡啶-2-基)乙酮有现货 货号: E491135查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- 1-(3-methoxypyridin-2-yl)ethanone
- SMILES
- CC(=O)C1=C(C=CC=N1)OC
- InChIKey
- IGYMEVBVNSGNSD-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C8H9NO2/c1-6(10)8-7(11-2)4-3-5-9-8/h3-5H,1-2H3
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磷酸三乙酯(TEP)≥99.5% Moisture≤20ppm有现货 货号: T580637查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- triethyl phosphate
- SMILES
- CCOP(=O)(OCC)OCC
- InChIKey
- DQWPFSLDHJDLRL-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/C6H15O4P/c1-4-8-11(7,9-5-2)10-6-3/h4-6H2,1-3H3
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乙酰丙酮钡水合物CAS: 12084-29-6 分子式: Ba(C5H7O2)2 · xH2O 分子量: 335.54 (anhydrous basis)Ba≥32%期货 货号: B598690查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- barium(2+);(Z)-4-oxopent-2-en-2-olate
- SMILES
- CC(=CC(=O)C)[O-].CC(=CC(=O)C)[O-].[Ba+2]
- InChIKey
- DJHZYHWLGNJISM-FDGPNNRMSA-L
- InChI
- 1S/2C5H8O2.Ba/c2*1-4(6)3-5(2)7;/h2*3,6H,1-2H3;/q;;+2/p-2/b2*4-3-;
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五(二甲基氨基)钽(V)(PDMAT)PrimorTrace™ Ultra ? PrimorTrace™ Ultra —— PrimorTrace 痕量金属系列的最高纯度等级。适用于最严苛的超痕量金属测定。 ≥99.9999% metals basis有现货 货号: P757493查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- dimethylazanide;tantalum(5+)
- SMILES
- C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.C[N-]C.[Ta+5]
- InChIKey
- VSLPMIMVDUOYFW-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/5C2H6N.Ta/c5*1-3-2;/h5*1-2H3;/q5*-1;+5
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双(乙基环戊二烯)钌CAS: 32992-96-4 分子式: C7H9RuC7H9 分子量: 287.36期货 货号: B757497查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- 2-ethylcyclopenta-1,3-diene;ruthenium(2+)
- SMILES
- CCC1=[C-]CC=C1.CCC1=[C-]CC=C1.[Ru+2]
- InChIKey
- XUZWCRWRRXUMJF-UHFFFAOYSA-N
- InChI
- 1S/2C7H9.Ru/c2*1-2-7-5-3-4-6-7;/h2*3,5H,2,4H2,1H3;/q2*-1;+2
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(2,2,6,6-四甲基-3,5-庚二酮酸)钪(III)有现货 货号: T1371603查看产品价格与包装
技术标识符
- IUPAC名称
- (Z)-5-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylhept-4-en-3-one;scandium
- SMILES
- CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.CC(C)(C)C(=CC(=O)C(C)(C)C)O.[Sc]
- InChIKey
- DTXBDJFPVKQCCF-LWTKGLMZSA-N
- InChI
- 1S/3C11H20O2.Sc/c3*1-10(2,3)8(12)7-9(13)11(4,5)6;/h3*7,12H,1-6H3;/b3*8-7-;
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二异丙氨基硅烷(DIPAS)PrimorTrace™ ? PrimorTrace™ —— 阿拉丁的痕量金属分析系列,金属背景极低。适用于污染须极小的 ICP/AAS 痕量金属工作。 ≥99.999% metals basis期货 货号: D1511031查看产品价格与包装
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