用于DNA合成（for DNA synthesis）试剂等级详解及关键试剂清单
用于DNA合成（for DNA synthesis）试剂等级详解及关键试剂清单
什么是“用于DNA合成（for DNA synthesis）”等级？
“用于DNA合成（for DNA synthesis）”是专门为寡核苷酸（oligo）化学合成/相关酶促流程准备的“功能性等级”。它不只是“更高纯度”，更强调对耦合反应有直接影响的微量指标：
(a) 极低含水（常见KF ≤10 ppm）与低酸性/活性杂质
(b) 批次间稳定、兼容磷胺化学或酶促体系
(c) 控制金属痕量/过氧化物/颗粒等可能“卡住反应”的因素
由谁来定义？没有全球统一强制标准，通常是供应商定义，并在COA/技术资料里给出限度（如“≥99.9%（GC）、KF≤10ppm、1μm过滤”等）。当拿到一瓶“用于DNA合成”的溶剂或试剂，关键是看COA指标与标准是否贴合工艺窗口。
为什么需要它？寡核苷酸的每一步耦合效率会以乘法累计到最终成品比例：设单步耦合效率为E，合成n步后的理想全长产率近似为Eⁿ。因此，单步效率从99.0%提高到99.5%（差0.5个百分点），在几十步后会被指数级放大为显著的成品差异与长度分布差异。影响耦合效率最敏感的因素之一就是水与抑制杂质——它们会“抢夺活性基团”“提前去保护”“引入N-1缺失”。因此，控制到ppm级含水与抑制物，是“用于DNA合成（for DNA synthesis）”价值的根本。
用于DNA合成（for DNA synthesis）常见检测项目
一、 溶剂（如乙腈、二氯甲烷、THF等）
(1) 水分（Karl Fischer）：常见限度≤10ppm（关键）。
(2) 纯度（GC）：常见≥99.9%。
(3) 酸度/碱度（以乙酸等计）；过氧化物（尤其醚/THF体系）。
(4) 紫外吸收/蒸发残渣/挥发性杂质；金属离子痕量（ICP-MS）。
说明：
(i) 溶剂是载体，所有步骤都在里面发生。KF≤10 ppm、≥99.9%（GC）、低酸/低羰基/低金属、1μm过滤等能显著减少失效率与堵柱/颗粒问题。
二、合成关键试剂/溶液（化学步骤）
(1) 活化剂：1H-四唑衍生物（ETT、BTT）、4,5-二氰基咪唑（DCI）等——关注纯度、含水、稳定性。
(2) 氧化剂：经典碘/水/吡啶/THF体系；对于对水/碘敏感的底物，可选无水氧化体系——关注配方浓度与水/卤素敏感性。
(3) 去DMT（去三苯甲基）：二氯乙酸（DCA）/二氯甲烷（DCM）溶液——关注酸度与水分。
(4) 封端（Capping）：乙酸酐/助剂（如NMI或2,6-二甲基吡啶）——关注配方浓度与胺/水痕量。
(5) 硫代化：Beaucage 试剂、DDTT等——关注纯度/稳定性（光/湿敏）。
说明：
(a) 活化剂/配方试剂作用：将磷胺单体“活化”，让其和固相上的5'-OH迅速、干净地耦合。活化剂对水/酸/金属极敏，杂质会导致副反应/自聚/堵柱。
(b) 氧化剂/替代氧化体系（Oxidizers）作用：将新形成的磷（III）氧化为磷（V），提高键稳定性。氧化体系含水/卤素等微量成分变化，会侵蚀保护基或引入副反。
(c) 去DMT（Deprotection）/封端（Capping）/硫代化（Thioation）试剂作用：
(i) 去DMT：暴露5'-OH，为下一轮耦合做准备。
(ii) 封端：把未耦合的5'-OH“封死”，避免下一步误延伸（降低杂峰）
(iii) 硫代化：把磷氧键改成磷硫键（PS键），提升抗酶解等性质。
(iv) 为什么要用用于DNA合成：酸/胺/硫代化试剂对水/酸/金属特别敏感，杂质会导致链断裂/侧反。
三、单体/修饰（amidite/支持物）
(1) 化学纯度、同分异构/去保护侧产、活性（NMR/LC/滴定）、水与酸敏感性；必要时做功能性上机实测。
说明：
(i) 单体/修饰作用：提供A/T/C/G的保护核苷以及2'-F、2'-OMe、MOE、LNA、GNA等功能性修饰。
(ii) 为什么要用for DNA synthesis：这些单体最怕水/酸/金属，稍有不稳就降解/自聚/耦合失败。
四、酶/缓冲液（酶促DNA合成、连接等）
(1) 活性（U/μL）、DNase/RNase/Protease阴性、内毒素限度、支原体检测（若涉及细胞上游）。
说明：
(i) 虽然不参与磷胺耦合，但在连接/剪切/逆转录/体外转录等流程中必须满足：DNase/RNase/Protease阴性、低内毒素、活性单位稳定、缓冲体系可复现。
阿拉丁产品清单
大类 | 细分类别 | 货号 | 名称 | CAS | 规格或纯度 | 作用&为何选用于DNA合成规格 |
单体/修饰核苷 | 2′-F（amidite） | 2'-F-dC(Bz) 亚磷酰胺单体 | 161442-19-9 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 2′-F对水/酸极敏；低水低酸与低抑制杂质显著提升耦合效率、降低N−1。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-F（保护核苷） | 5'-DMT-2'-氟-异丁酰基-2'-脱氧鸟苷 | 144089-96-3 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | DMT+2′-F体系易受水/酸影响；控水/控酸避免提前去保护和副反应。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-F（核苷/前体） | N4-乙酰基-2'-氟脱氧胞苷 | 159414-97-8 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 2′-F+乙酰保护易早脱；严控水/酸与金属痕量，保障后续活化/耦合。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-F（保护核苷） | N4-乙酰基-5'-O-DMT-2'-氟-脱氧胞苷 | 159414-98-9 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 维持DMT与2′-F稳定；高纯低水降低失败循环与杂峰。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-OMe（amidite） | 2'-OMe-G(dmf) 亚磷酰胺单体 | 128219-77-2 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥96%(mixture) | 2′-OMe对抑制杂质敏感；控制水/酸/羰基等，提升耦合与重复性。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-OMe（amidite） | 2'-OMe-G(iBu) 亚磷酰胺单体 | 150780-67-9 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 高纯低水减少去保护/硫代化副反，改善成品率与纯化负担。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-OMe（amidite） | 5-Me-2'-OMe-C(Bz) 亚磷酰胺单体 | 166593-57-3 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥97%(mixture) | ≥97%纯度+低水 显著降低N−1/短链；批次一致性更好。 | |
单体/修饰核苷 | 2′-OMe（保护核苷） | 5'-DMT-乙酰基-2'-甲氧基胞苷 | 199593-08-3 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | DMT+2′-OMe需低水低酸；保证活化/耦合活性与重复性。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（amidite） | 2'-O-MOE-G(iBu) 亚磷酰胺单体 | 251647-55-9 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | MOE对水/酸与金属痕量敏感；保证高耦合低副反。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（amidite） | 2'-O-MOE-U 亚磷酰胺单体 | 163759-97-5 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98%(mixture) | 控水控酸，减少氧化/去DMT时的降解风险，提升全长比例。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（amidite） | 5-Me-2'-O-MOE-U 亚磷酰胺单体 | 163878-63-5 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98%(mixture) | 低水/低酸/低金属抑制物，保障耦合活性与批间一致性。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（保护核苷） | 5'-O-[二(4-甲氧基苯基)苯基甲基]-2'-O-(2-甲氧基乙基)-N-(2-甲基-1-氧代丙基)鸟苷 | 251647-50-4 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | DMT+MOE对微量水/酸极敏；降去DMT/氧化副反。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（保护核苷） | DMT-MOE-T | 163759-50-0 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥96% | 保障DMT/MOE在耦合循环中的稳定与活化效率。 | |
单体/修饰核苷 | MOE（碱基/前体） | 5-甲基-2'-甲氧基乙氧基胞嘧啶 | 244105-55-3 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 修饰碱基对抑制杂质更敏感；高纯低水获得清洁长度分布。 | |
单体/修饰核苷 | LNA（amidite） | 2'-O-4'-C-Locked-T 亚磷酰胺单体 | 206055-75-6 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98%(mixture) | LNA对酸/水/金属痕量极敏；控制微量杂质，保证耦合活性与重复性。 | |
单体/修饰核苷 | LNA（amidite） | LNA-Bz-A 亚磷酰胺单体 | 206055-79-0 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98%(mixture) | 高纯低水，减少副反与链终止，提升全长比例。 | |
单体/修饰核苷 | LNA（amidite） | LNA-Me-Bz-C 亚磷酰胺单体 | 206055-82-5 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 严控抑制物与含水，保障耦合效率与后续处理兼容性。 | |
单体/修饰核苷 | GNA（amidite） | N6-Bz-A-(S)-GNA 亚磷酰胺单体 | 851050-24-3 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | GNA更依赖严格微量杂质控制；减少失败循环与杂峰。 | |
单体/修饰核苷 | GNA（amidite） | T-(S)-GNA 亚磷酰胺单体 | 168332-13-6 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 低水/低酸/低金属抑制物，提升耦合成功率与序列完整性。 | |
单体/修饰核苷 | 其它保护核苷 | N2-二甲基甲脒-5'-O-DMT-2'-脱氧鸟苷 | 40094-22-2 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | DMT保护对水/酸敏；保障耦合活性与批间一致性。 | |
单体/修饰核苷 | 其它保护核苷（MOE 前体/中间体） | N-(…长名，MOE 相关酰胺) | 182496-01-1 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 复杂保护基体系需严控水/酸/金属，避免侧反与降解。 | |
单体/修饰核苷 | 其它特殊单体（5-Me-dC amidite） | N4-苯甲酰基-5-甲基-5'-O-DMT-脱氧胞苷亚磷酰胺单体 | 105931-57-5 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98%(mixture) | Bz保护+DMT组合对含水/酸度敏感；高纯低水提升产率。 | |
单体/修饰核苷 | 特殊底物 | 7-TFA-ap-7-脱氮-2'-脱氧鸟苷 | 666847-77-4 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥97% | 位阻/去活化位点的特殊底物，需低水低酸防降解。 | |
单体/修饰核苷 | 特殊底物 | 7-碘-7-脱氮-双脱氧腺苷 | 114748-70-8 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥97% | 卤代底物对杂质敏感；降低副反与去活化。 | |
单体/修饰核苷 | 其它特殊单体（Ac-保护 rG amidite） | Ac-rG 亚磷酰胺单体 | 944138-03-8 | 用于DNA合成,分子生物学级,≥98% | 乙酰保护在酸/水下易降解；需低酸低水环境确保耦合与稳定。 | |
酶/酶制剂 | 限制性内切酶 | BsaI |
| BioReagentPCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™，用于体外转录，forDNAandRNAapplications，20U/μl | 无核酸酶/低内毒素/单位活性稳定；确保剪切/拼接可靠、减少非特异切割。 | |
酶/酶制剂 | 外切酶 | Exonuclease III |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级EnzymoPure™，用于体外转录，forDNAandRNAapplications，100U/μl | 无非特异核酸酶污染；末端处理更可复现。 | |
酶/酶制剂 | 限制性内切酶 | NruI |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™用于体外转录，forDNAandRNAapplications，20U/μl | 严控杂质与缓冲体系，减少非特异切割与活性漂移。 | |
酶/酶制剂 | RNase（高纯） | RNase R |
| BioReagent，无DNA酶，PCR试剂，通过内毒素测试无支原体，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™，Endonuclease，用于体外转录，forDNAandRNAapplications，核酸外切酶，≥95%(SDS-PAGE)，20U/μl | 无DNA酶/无支原体/低内毒素；适配体外转录/分析，背景更干净。 | |
酶/酶制剂 | 逆转录酶 | RTL 逆转录酶（无甘油） |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™，无RNA酶，用于体外转录，forDNAandRNAapplications，15U/μL | 无RNA酶、低内毒素；cDNA合成更稳定、可重复。 | |
酶/酶制剂 | 限制性内切酶 | SalI |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™用于体外转录，forDNAandRNAapplications，forSouthernblotting，20U/μl | 单位活性与缓冲匹配，降低批间波动。 | |
酶/酶制剂 | 连接酶 | T4 RNA Ligase 1 |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™，forDNAandRNAapplications，30U/μl | 低核酸酶/低内毒素，确保连接效率与重复性。 | |
酶/酶制剂 | 端粒/切接相关酶 | TelN 端粒酶 |
| BioReagent，PCR试剂，用于DNA合成，分子生物学级，EnzymoPure™，用于体外转录，forDNAandRNAapplications，10U/μL | 严格微生物/杂质控制，适配体外构建。 | |
溶剂 | 耦合主溶剂（低水） | 乙腈(ACN) | 75-05-8 | 用于DNA合成,H₂O≤10ppm | 耦合主溶剂；KF≤10ppm、低酸度，显著提升耦合效率与重复性。 | |
溶剂 | 耦合主溶剂（高纯） | 乙腈(ACN) | 75-05-8 | 用于DNA合成,≥99.9%(GC) | 高纯低水/低抑制杂质，减少N−1缺失与链终止。 | |
活化剂/配方试剂 | 活化剂（成品配方） | 四氮唑溶液 | 288-94-8 | 用于DNA合成，~0.45M乙腈溶液，1μm滤膜过滤 | 典型活化剂配方；已控水并过滤去颗粒，活化稳定、降低堵柱与副反。 |
选型建议
何时选用于DNA合成（for DNA synthesis）级？
(1) 做寡核苷酸化学合成/修饰
首选for DNA synthesis的溶剂与辅助试剂——尤其乙腈（主耦合溶剂）、DCM（去DMT/洗涤）、活化剂与氧化/封端溶液。原因：普通色谱级/HPLC级侧重检测背景，不保证低水、低酸与微量抑制物窗口，易降低耦合效率与终产率。
(2) 遇到对水/碘敏感的碱基或键型
优先考虑无水氧化体系（如CSO类），并对溶剂含水与卤素敏感性做额外把关。
(3) 酶促相关（连接/剪切/扩增/逆转录/体外转录）
选择标注“分子生物学级 / EnzymoPure™ / 无核酸酶 / 低内毒素”的酶与缓冲液等级；保持推荐缓冲体系与单位活性稳定。
提醒：HPLC/LC-MS级 ≠ 用于DNA合成级。前者为“检测干净”，后者为“反应友好”；不要混用概念。
5步选型速查
1. 先看流程：做的是化学合成（耦合/氧化/封端…）还是酶促步骤（连接/剪切/逆转录/转录）？
2. 溶剂先行：耦合主溶剂乙腈务必选for DNA synthesis（KF ≤10 ppm 或 ≥99.9% GC）。
3. 单体匹配：2′-F / 2′-OMe / MOE / LNA / GNA等修饰单体尽量选择用于DNA合成规格，并查看COA（含水、纯度、杂质说明）。
4. 活化/氧化：新手优先选择成品配方（已过滤/已控水），减少自配不确定性与颗粒堵柱风险。
5. 酶促质量线：选择EnzymoPure™ / 分子生物学级 / 无核酸酶 / 低内毒素；尽可能跟随厂家推荐缓冲体系与温度条件。
常见问答（FAQ）
Q1：为什么乙腈一定要选“用于DNA合成”？
A：水/酸/微量羰基等会严重抑制磷胺耦合，导致累积失效率上升。“用于DNA合成乙腈”通常给出≥99.9%（GC）、H₂O≤10 ppm等明确限度，并控制抑制杂质，能显著改善产率与重复性。
Q2：HPLC级溶剂能否替代？
A：不建议。HPLC/LC-MS级关注色谱/质谱背景，不保证适合磷胺化学所需的低水/低酸与抑制物限度。
Q3：活化剂/氧化剂需要“用于DNA合成”标注吗？
A：建议选择明确用于寡核苷酸合成的配方或高纯试剂，并关注含水/稳定性。
Q4：酶促DNA相关（连接/聚合/体外转录）该看什么？
A：看单位活性、DNase/RNase/Protease 阴性与内毒素，必要时看“无支原体”说明。阿拉丁站内相应酶产品页有明确标注与检测。
Q5：如何验证批次质量？
A：索取/下载COA，重点核对水分（KF）、纯度（GC）、酸度/蒸发残渣/UV 吸收、必要时金属/过氧化物。对关键大货，建议做小试耦合效率对比作为到货验收/适用性确认的一部分。
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