计算溶液所需的质量、体积或浓度。
,适用于对基线干扰要求严格的色谱和分析工作流程。
室温。 。请查阅批次 COA 获取详细规格。
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在色谱分析、有机合成和交叉偶联反应领域已被 0 篇同行评审文献引用。
硝酸铈铵基蚀刻剂。室温下蚀刻速率为40埃/秒。只需用去离子水冲洗干净即可蚀刻。铬蚀刻剂是铬基溶液,可从底物移除多余金属。这些蚀刻剂主要用于金属表面处理和电子工业。蚀刻速率为4 mm/s,可用于蚀刻镍、铜和铬基多余金属。
应用
该产品可蚀刻铝、铬、铜、镍、GaAs。它能表面氧化硅、钽/TaN,但对Si3N4, SiO2, Ti, 和 W表面没有影响用于室温或高温条件。蚀刻干净,省去中间清洗环节。蚀刻温度随膜的厚度而改变。室温下蚀刻时间在 15 到 60 秒之间。注意,应在通风良好的通风橱内处理铬蚀刻剂。
Chromium etchant is a chromium based solution that removes the excess metal from the substrate. These etchants are majorly used in metal finishing and electronic industry. It has an etch rate of 4 mm/s and can be used to etch nickel, copper, and chromium based excess metals.Ceric ammonium nitrate-based etchant. Etch rate of 40 Å/sec @ room temp. Etches cleanly with only a deionized water rinse needed.The product can etch Al, Cr, Cu, Ni, GaAs. It can surface oxidize Si, Ta/TaN, however, it has no effect on Au, Si3N4, SiO2, Ti, and W surfacesFor use at room temperature or elevated temperature. Etches cleanly, eliminating need for an intermediate rinse. Etching temperature varies with regard to film thickness. Etch times range from 15 to 60 seconds at room temperature. Note, chromium etchants should be handled in a well ventilated hood.
Characteristic
High purity; 0.2 micron filtration; Excellent photoresist compatibility; Uniform etch rates and patterns.
H272: 可能加剧火灾; 氧化剂
H290: 可能腐蚀金属
H314: 造成严重的皮肤灼伤和眼睛损伤
H317: 可能引起皮肤过敏反应
H411: 对水生生物有毒并具有长期持续影响
P210: 远离热源,热表面,火花,明火和其他点火源。 - 禁止抽烟。
P220: 远离衣物和其他可燃物。
P273: 避免释放到环境中。
P280: 戴防护手套/穿防护服/戴防护眼罩/戴防护面具。
P391: 收集溢出物
P303+P361+P353: 如皮肤(或头发)沾染:立即脱掉所有沾染的衣服。用水清洗皮肤/淋浴。
P370+P378: 火灾时:使用干砂、干粉或抗醇泡沫灭火。
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| 批号(Lot Number) | 证书类型 | 货号 |
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| 分析证书 | C476102 | |
| 分析证书 | C476102 | |
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